显示面板及其制作方法

文档序号:9274083阅读:224来源:国知局
显示面板及其制作方法
【专利说明】
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种显示面板及其制作方法。
【【背景技术】】
[0002]传统的显示面板中一般都包括黑色矩阵(BM,Black Matrix)层,该黑色矩阵层用于防止出现漏光现象。
[0003]该漏光现象一般是由于在像素电极所产生的电场无法覆盖的区域,液晶分子无法正常偏转而造成的,或者是由于两个像素的交界处由于加载不同的信号而形成不同的电场,导致液晶分子的偏转方向混乱而造成的。
[0004]在实践中,发明人发现现有技术至少存在以下问题:
[0005]尽管设置了黑色矩阵层,传统的显示面板中防漏光的效果仍然不理想。
[0006]故,有必要提出一种新的技术方案,以解决上述技术问题。

【发明内容】

[0007]本发明的目的在于提供一种显示面板及其制作方法,其能有效防止所述显示面板出现漏光的现象。
[0008]为解决上述问题,本发明的技术方案如下:
[0009]一种显示面板,所述显示面板包括第一显示区、第二显示区和非显示区,所述非显示区设置所述第一显示区和所述第二显示区之间;其中,所述显示面板包括:第一面板,所述第一面板包括:第一基板;器件阵列层,所述器件阵列层设置在所述第一基板上,所述器件阵列层包括薄膜晶体管开关、数据线、扫描线以及像素电极;彩膜层,所述彩膜层设置在所述器件阵列层上,所述彩膜层包括第一色阻块和第二色阻块,所述第一色阻块所在的位置与所述第一显示区对应,所述第二色阻块所在的位置与所述第二显示区对应;以及第一遮光块层,所述第一遮光块层设置在所述器件阵列层上,所述第一遮光块层包括第一遮光块,所述第一遮光块所在的位置与所述非显示区对应;第二面板,所述第二面板包括:第二基板;以及第二遮光块层,所述第二遮光块层设置在所述第二基板上,所述第二遮光块层包括第二遮光块,所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应;液晶层,其中,所述液晶层设置于所述第一基板和所述第二基板之间。
[0010]在上述显示面板中,所述第一色阻块为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一者,所述第二色阻块为所述红色色阻块、所述绿色色阻块、所述蓝色色阻块中的另一者;所述第一色阻块具有第一延伸部,所述第二色阻块具有第二延伸部,所述第一延伸部和所述第二延伸部均设置在所述非显示区中;所述第一遮光块是由所述第一延伸部和所述第二延伸部堆叠而成的。
[0011]在上述显示面板中,所述第一延伸部的厚度小于所述第一色阻块的厚度,所述第一延伸部是通过对第一色阻材料层实施第一光罩制程来形成的,所述第一色阻材料层在所述第一显示区的部位与所述第一色阻块对应;和/或所述第二延伸部的厚度小于所述第二色阻块的厚度,所述第二延伸部是通过对第二色阻材料层实施第二光罩制程来形成的,所述第二色阻材料层在所述第二显示区的部位与所述第二色阻块对应。
[0012]在上述显示面板中,所述第一光罩制程和所述第二光罩制程所对应的掩模为第一掩模或第二掩模;所述第一掩模包括第一区域和第二区域,所述第一区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应,所述第二区域与所述非显示区对应,所述第一区域具有第一透光率,所述第二区域具有第二透光率;所述第二掩模包括第三区域和第四区域,所述第三区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应,所述第四区域与所述非显示区对应,所述第三区域具有第三透光率,所述第四区域具有第四透光率。
[0013]在上述显示面板中,所述第二遮光块为黑色间隔件,所述第二遮光块与所述第一遮光块相接触;所述第二遮光块与所述第一遮光块用于共同对所述第一面板和所述第二面板进行间隔,以及用于共同遮挡越区光线,其中,所述越区光线为从所述第一显示区射向所述第二显示区的光线或从所述第二显示区射向所述第一显示区的光线。
[0014]一种上述显示面板的制作方法,所述方法包括以下步骤:A、形成所述第一面板和所述第二面板,其中,所述第一面板包括所述第一基板、所述器件阵列层、所述彩膜层和所述第一遮光块层,所述彩膜层包括所述第一色阻块和所述第二色阻块,所述第一色阻块所在的位置与所述第一显示区对应,所述第二色阻块所在的位置与所述第二显示区对应,所述第一遮光块层包括所述第一遮光块,所述第一遮光块所在的位置与所述非显示区对应,所述第二面板包括所述第二基板和所述第二遮光块层,所述第二遮光块层包括所述第二遮光块,所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应;B、将所述第一面板和所述第二面板叠加组合为一体,并在所述第一面板和所述第二面板之间设置所述液晶层,其中,所述第一遮光块与所述第二遮光块相接触,所述第二遮光块与所述第一遮光块用于共同对所述第一面板和所述第二面板进行间隔,以及用于共同遮挡越区光线,其中,所述越区光线为从所述第一显示区射向所述第二显示区的光线或从所述第二显示区射向所述第一显示区的光线。
[0015]在上述显示面板的制作方法中,所述步骤A包括以下步骤:al、在所述第一基板上形成所述器件阵列层,其中,所述器件阵列层包括薄膜晶体管开关、数据线、扫描线以及像素电极;a2、在所述器件阵列层上形成所述彩膜层和所述第一遮光块层,其中,所述第一色阻块为红色色阻块、绿色色阻块、蓝色色阻块中的一者,所述第二色阻块为所述红色色阻块、所述绿色色阻块、所述蓝色色阻块中的另一者,所述第一色阻块具有第一延伸部,所述第二色阻块具有第二延伸部,所述第一延伸部和所述第二延伸部均设置在所述非显示区中,所述第一遮光块是由所述第一延伸部和所述第二延伸部堆叠而成的。
[0016]在上述显示面板的制作方法中,所述第一延伸部的厚度小于所述第一色阻块的厚度;和/或所述第二延伸部的厚度小于所述第二色阻块的厚度;所述步骤a2包括以下步骤:a21、在所述器件阵列层上形成第一色阻材料层,并对所述第一色阻材料层位于所述非显示区的部位实施第一光罩制程,以形成所述第一延伸部,其中,所述第一色阻材料层覆盖所述第一显示区和所述非显示区,所述第一色阻材料层位于所述第一显示区的部位与所述第一色阻块对应;和/或a22、在所述器件阵列层上形成第二色阻材料层,并对所述第二色阻材料层位于所述非显示区的部位实施第二光罩制程,以形成所述第二延伸部,其中,所述第二材料层覆盖所述第二显示区和所述非显示区,所述第二色阻材料层位于所述第二显示区的部位与所述第二色阻块对应。
[0017]在上述显示面板的制作方法中,所述第一光罩制程和所述第二光罩制程所对应的掩模为第一掩模或第二掩模;所述第一掩模包括第一区域和第二区域,所述第一区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应,所述第二区域与所述非显示区对应,所述第一区域具有第一透光率,所述第二区域具有第二透光率;所述第二掩模包括第三区域和第四区域,所述第三区域与所述第一显示区或所述第二显示区对应,所述第四区域与所述非显示区对应,所述第三区域具有第三透光率,所述第四区域具有第四透光率。
[0018]在上述显示面板的制作方法中,所述步骤A还包括以下步骤:a3、在所述第二基板上形成所述第二遮光块层,所述第二遮光块层包括至少两第二遮光块,所述第二遮光块所在的位置与所述非显示区对应;其中,所述第二遮光块为黑色间隔件。
[0019]相对现有技术,本发明能有效防止所述显示面板出现漏光的现象。
[0020]为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。
【【附图说明】】
[0021]图1为本发明的显示面板的示意图;
[0022]图2至图8为本发明的显示面板中的第一面板的制作方法的示意图;
[0023]图9为第一掩模的不意图;
[0024]图10为第二掩模的示意图;
[0025]图11为本发明的显示面板的制作方法的第一实施例的流程图;
[0026]图12为本发明的显示面板的制作方法的第二实施例的流程图;
[0027]图13为本发明的显示面板的制作方法的第三实施例的流程图。
【【具体实施方式】】
[0028]本说明书所使用的词语“实施例”意指实例、示例或例证。此外,本说明书和所附权利要求中所使用的冠词“一”一般地可以被解释为“一个或多个”,除非另外指定或从上下文可以清楚确定单数形式。
[0029]本发明的显不面板可以是TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay,薄膜晶体管液晶显示面板)。
[0030]参考图1至图8,图1为本发明的显示面板的示意图,图2至图8为本发明的显示面板中的第一面板101的制作方法的示意图。
[0031]本发明的显示面板包括第一显示区105、第二显示区104和非显示区106,所述非显示区106设置所述第一显示区105和所述第二显示区104
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