结构化处理，并且进一步抛光至本发明的实施例所需的厚度、平整度和粗糙度。根据本发明的实施例不限于此，也可以采用化学蚀刻的方法使其厚度保持在需要的范围之内。
[0062]根据本发明的实施例，显示层可以用于按照时分方式显示图像，例如，显示针对不同投射方向的图像，其中不同投射方向对应于不同观察方向。第一透镜层用于根据所施加的时分变化的电场，将针对不同投射方向的图像的光线交替地偏转至不同的投射方向，以呈现裸眼能够看到的立体图像。
[0063]根据本发明的实施例，液晶在施加电场后能够改变折射率，不同的电场可以对应于不同的折射率，即采用液晶在电光调制层形成电可调的棱镜阵列。当光线通过施加了电场的液晶时，出射光的相位差会随着外加电场的变化而变化。
[0064]另外，为了使得显示装置呈现出来的立体图像的分辨率为全部像素，所施加的电场要满足在视觉暂留的时间内用全部像素显示每个方向的图像，从而提高了自由立体显示的分辨率。
[0065]根据本发明的实施例，可以在已有终端(例如，移动设备)的显示屏幕上设置一层液晶透镜阵列，用来控制显示层射出光束(或波束)的方向，使光束连续偏转至左边和右边，从而让使用终端的用户获得立体视差。液晶透镜阵列可以使用电控液晶作为材料，来提供一种线性的相位梯度，这样可以在时域上重复地将从每个显示像素中射出的光束偏转向两个或者更多的角度，从而形成裸眼3D的显示模式。液晶透镜阵列的每个微透镜的间距可以设置成与终端的显示层的像素相同，这样，3D显示模式下的终端也具有2D显示模式的分辨率。另外，本发明的实施例在液晶透镜阵列与显示层的像素之间再添加一层微透镜阵列，用来解决像素之间的串扰和有效焦距的问题。本发明实施例的液晶阵透镜阵列和微透镜阵列也可以制成独立的结构，直接集成到已有终端的显示器上方。
[0066]根据本发明的实施例，第一透镜阵列的每个微透镜只会接收到与其相对应的像素的出射光，不会或者很少接收到相邻像素的出射光，这样能够保证高清3D的视觉体验。
[0067]图3是本发明的另一实施例的显示装置300的结构示意图。显示装置300是图2显示装置200的例子。显示装置300包括显示层330、第一透镜层310和第二透镜层320，与图2的显示层230、第一透镜层210和第二透镜层220类似，在此不再赘述。
[0068]在本实施例中，显示层包括:像素阵列、第二透明基板334和第五透明基板335。第二透明基板334设置在第二透镜层320与像素阵列之间。像素阵列包括像素331、332、333。
[0069]第一透镜层310包括:第一透镜阵列、第四透明基板314和第一透明基板315。第一透镜阵列为液晶透镜阵列，液晶透镜阵列包括液晶层318、第一透明电极316和第二透明电极317。第一透明电极316和第二透明电极317设置在液晶层318两侧，用于控制液晶层将通过液晶透镜阵列的光线偏转至不同的投射方向。
[0070]第一透明基板315设置在第一透镜阵列与第二透镜层320之间。第四透明基板314可以是显示装置300所在终端的前面板或触摸屏。第一透明电极316可以设置在前面板或触摸屏上，第二透明电极317可以设置在第一透明基板315上。第一透明电极316和第二透明电极317可以为诸如ITO之类的透明导电材料。第一透明基板可以为玻璃基板，其厚度可以在10mm至300mm之间。
[0071]第二透镜层320包括第二透镜阵列和第三透明基板324。第三透明基板324设置在第二透镜阵列与第一透明基板315之间，第二透镜阵列设置在第三透明基板324的与第二透镜层320相对的一侧上。第二透镜阵列可以为微透镜阵列，包括多个微透镜321、322、323。第二透镜层320设置在第一透镜层310与显示层330之间，第二透镜阵列用于将像素阵列射出的光束投射到第一透镜阵列上。例如，多个微透镜321、322、323分别将多个像素331,332和333发出的光束投射在液晶阵列上，分别成像为像素311、312、313。例如，像素331,332和333可以分别为红、绿、蓝三原色像素。多个微透镜321、322、323可以是独立的设置在第三透明基板324上，也可以与第三透明基板324是一个整体。可替代地，第二透镜阵列也可以为柱透镜阵列。
[0072]在本实施例中，显示装置300还包括:第一间隔元件340和第二间隔元件。第一间隔元件340设置在第一透明基板315和第三透明基板324之间，用于在第一透明基板315与第二透镜层320之间形成空隙。第二间隔元件350设置在第二透明基板334和第三透明基板324之间，用于在第二透明基板334与第二透镜层320之间形成空隙。例如，第一间隔元件340和第二间隔元件光学胶或间隔球(spacers)。间隔球的大小或者光学胶的厚度可以是几微米。空隙中可以是空气。由于微透镜阵列的折射率与空气的折射率不同，从而使得微透镜通产生聚焦能力。可替代地，空隙中也可以填充其它其他介质(例如，折射率为I左右的气体)。
[0073]在实施例中，第一透明基板的315厚度可以为300微米，第二透镜层320的厚度可以为225微米，第二透明基板334的厚度可以为100微米。由于已有终端中显示层和第一透镜层的透明基板均为300微米，因此，将本实施例的第一透明基板的厚度设置为300微米，将第二透镜层320的厚度设置为225微米，并将第二透明基板334的厚度设置为100微米，可以减少对已有终端的改造，并且不会显著增加终端的厚度。
[0074]图4是本发明的又一实施例的显示装置400的结构示意图。显示装置400是图2显示装置200的例子。显示装置400包括显示层430、第一透镜层410和第二透镜层420，与图2的显示层230、第一透镜层210和第二透镜层220类似，在此不再赘述。
[0075]在本实施例中，显示层包括:像素阵列、第二透明基板434和第五透明基板435。第二透明基板434设置在第二透镜层420与像素阵列之间。像素阵列包括像素431、432、433。
[0076]第一透镜层410包括:第一透镜阵列、第四透明基板414和第一透明基板415。第一透镜阵列为液晶透镜阵列，液晶透镜阵列包括液晶层418、第一透明电极416和第二透明电极417。第一透明电极416和第二透明电极417设置在液晶层418两侧，用于控制液晶层将通过液晶透镜阵列的光线偏转至不同的投射方向。
[0077]第一透明基板415设置在第一透镜阵列与第二透镜层420之间。第四透明基板414可以是显示装置400所在终端的前面板或触摸屏。第一透明电极416可以设置在前面板或触摸屏上，第二透明电极417可以设置在第一透明基板415上。第一透明电极416和第二透明电极417可以为诸如ITO之类的透明导电材料。第一透明基板可以为玻璃基板，其厚度可以在10mm至300mm之间。
[0078]第二透镜层420包括第二透镜阵列和第三透明基板424。第三透明基板424设置在第二透镜阵列与第一透明基板415之间，第二透镜阵列设置在第三透明基板424的与第二透镜层420相对的一侧上。第二透镜阵列可以为微透镜阵列，包括多个微透镜421、422。第二透镜层420设置在第一透镜层410与显示层430之间，第二透镜阵列用于将像素阵列射出的光束投射到第一透镜阵列上。例如，微透镜421将多个像素431、432和433发出的光束投射在液晶阵列上，分别成像为像素411、412、413。例如，像素431、432和433可以分别为红、绿、蓝三原色像素。多个微透镜421、422、423可以是独立的设置在第三透明基板424上，也可以与第三透明基板424是一个整体。。可替代地，第二透镜阵列也可以为柱透镜阵列。与图3的实施例不同的是每个第二透镜对应多个像素。由于这种技术方案减少了第二透镜的数量，从而使得制造工艺更加简单。
[0079]在本实施例中，显示装置400还包括:第一间隔元件440和第二间隔元件。第一间隔兀件440设置在第一透明基板415和第三透明基板424之间，用于在第一透明