装的承载结构子元件的组件的另一优点在于单独的承载结构子元件(例如关于它们的内轮廓的表面)可以借助于构造的模块化模式而分别被理想地适配于在具体系统中分别存在的要求(在杂散光的反射方面)，其中各自合适的表面处理过程(诸如机械处理或者涂敷)的选择可以被具体地、有目标地且选择性地适配于光学系统中的各个局部因素或要求。在该方面，在光学系统的杂散光特别关键的区域中，可以应用更复杂和昂贵的表面处理步骤，而在不太关键的区域中的表面可以被更容易地制造或者甚至可能被基本不改变。
[0028]要指出的是，根据本发明的承载结构可以主动地、被动地或者间接地(例如在由致动器承载的意义上，致动器继而可以承载例如反射镜的光学元件)承载光学元件。
[0029]此外，要指出的是本发明不限于具有热屏蔽的光学系统或者具有冷却通道的系统。而是根据本发明的模块化结构在热屏蔽不必要(例如，由于热膨胀中不涉及例如传感器的组件，或者因为热膨胀不引起任何进一步的问题)的光学系统中也是有利的。
[0030]在一个实施例中，至少一个模块由至少两个承载结构子元件构成，特别地至少三个承载结构子元件构成，更特别地至少四个承载结构子元件构成，因此就与光学系统运行中的光束路径的适配而言以及就对光束路径的给定区域的具体而有目标的影响而言，进一步的提高了灵活性。
[0031]在一个实施例中，所述可用光束路径由所述子壳体围绕，使得在所述可用光束路径和子壳体之间存在不超过10_，更特别地不超过5_的最大间隔。
[0032]在一个实施例中，至少一个承载结构子元件具有至少两个开口以在光学系统运行中允许光束通过。另外，至少两个承载结构元件可以具有不同数量的开口以在光学系统运行中允许光束通过，其中另外，至少两个承载结构子元件可以在它们开口的尺寸和/或定位方面不同。
[0033]在一个实施例中，开口的布置适配于在运行中穿过光学系统的光束的构造。
[0034]在一个实施例中，所述可用光束路径包括至少部分地渗入彼此的光束。
[0035]在一个实施例中，所述可用光束路径是折叠的光束路径。
[0036]在一个实施例中，在运行中穿过光学系统的光束在至少一个承载结构子元件中连续横穿不同的开口。
[0037]在一个实施例中，至少两个承载结构子元件至少按区域地具有不同的表面处理，例如通过机械加工，涂敷等，特别地在它们的朝着光学系统运行中的光束路径的内轮廓处。以此方式，根据本发明的模块化布置的灵活性可以得以利用，只要表面可以被分别地匹配到光学系统中的局部因素和要求(例如在光学系统的杂散光特别重要的区域中，可以应用更复杂和昂贵的表面处理操作)。
[0038]在一个实施例中，至少两个承载子元件具有互相对应的表面部分，所述表面部分在所述承载结构子元件组装之后彼此一起形成冷却通道部分，在所述光学系统的运行中，冷却介质能够通过所述冷却通道部分流动。以该方式，当承载结构被组装时，可以一次性地提供上述的冷却通道或者热屏蔽。
[0039]由至少两个承载子元件形成的冷却通道部分的构思不限于以上讨论的形成子壳体的方面(该子壳体具有对应于所述投射曝光设备中的可用光束路径而不同的几何形状)，而是也可以独立于该方面而实施。因此，根据另一方面，本发明还涉及用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置，包括:
[0040]-多个光学元件，以及
[0041]-承载结构，其承载该光学元件以及其由至少两个可释放地互相连接的模块构成，
[0042]-其中每个模块由至少一个承载结构子元件构成，以及
[0043]-至少两个承载子元件具有互相对应的表面部分，所述表面部分在所述承载结构子元件组装之后彼此一起形成冷却通道部分，在所述光学系统的运行中，冷却介质能够通过所述冷却通道部分流动。
[0044]在一个实施例中，通过多个这样的冷却通道部分构建至少一个冷却介质回路。特别地，由多个这样的冷却通道部分构建多个冷却介质回路，多个冷却介质回路可以被选择性地连接在一起。以该方式，并且在已经考虑了冷却介质的可用供应通常受限的情况下，可以获得关于系统中的具体因素和要求最佳匹配的热屏蔽或动作。
[0045]在一个实施例中，在至少一个冷却介质回路的区域中布置至少一个多孔结构，由此，可以减少或者避免将流动引起的振动从承载结构引入至反射镜或者承载那些反射镜的致动器中。
[0046]在一个实施例中，通过至少一个密封元件将至少两个承载结构子元件相对于彼此流体密封地密封。以该方式，当连接承载结构子元件本身时，可以利用冷却通道的集成而实施流体密封的密封完整性(integrity)，例如通过简单的夹钳连接或者螺纹装置。
[0047]在一个实施例中，密封元件是覆盖板的形式，其中优选地，密封板和至少一个承载结构子元件由相同的材料制成。覆盖板可以特别地包含覆盖了冷却通道并且例如可以被在适当位置熔焊的板。使用相同的材料避免了彼此不同的电化学势(需要不同的材料)以及与通常的电解质冷却介质相关而引起的电化学腐蚀(特别地，因为可能设置的并包括例如橡胶的非电传导材料的O形环也不能引起任何电化学腐蚀)。
[0048]本发明还涉及包括照明系统和投射物镜的微光刻投射曝光设备，其中照明系统和投射物镜具有包含上述特征的光学布置。
[0049]本发明还涉及用于制造用于EUV光刻的投射曝光设备的光学系统的方法，其中该光学系统由通过承载结构承载的多个光学元件构建，以及其中该承载结构由至少两个可释放地相互连接的模块构成，以及其中每个模块由至少一个承载结构子元件构成。关于该方法的优点和优选构造，参照关于根据本发明的布置的前述说明。
[0050]说明书和附随的权利要求中说明本发明的其它构造。
【附图说明】
[0051]下文借助于附图中说明的例子、通过实施例更详细地说明本发明。在附图中:
[0052]图1示出说明根据本发明的实施例的光学布置的结构的原理的概略图；
[0053]图2通过示例示出可以在图1的布置的承载结构中使用的承载结构子元件(subelement)的概略平面图；
[0054]图3示出说明在根据本发明的承载结构中冷却通道的集成原理的概略图；
[0055]图4通过示例示出可以在图3的布置的承载结构中使用的、具有集成的冷却通道的承载结构子元件的概略平面图；
[0056]图5示出了说明关于承载结构子元件的连接的实施例、以提供具有集成的冷却通道的承载结构的概略图；以及
[0057]图6示出了说明关于承载结构子元件的连接的另一实施例、以提供具有集成的冷却通道的承载结构的概略图。
【具体实施方式】
[0058]下面首先参照图1中包含的示出原理的概略图说明本发明的构思。
[0059]图1a示出了多个模块110、120、130、140 (应理解，该4个的数目仅是示例，也可以更高或者更低)，其共同地提供了承载结构100。在设计用于EUV的微光刻投射曝光设备中，该承载结构100主动或被动地承载例如反射镜101、102的光学元件(其中该承载结构可以被设置在投射曝光设备的投射物镜和/或在照明系统中)。
[0060]虽然，在所说明的实施例中示出了两个反射镜101、102，但该数目也仅作为示例且也可以更高或者更低，在该方面，在承载结构的情况中，投射物镜通常涉及更多(例如6个)反射镜。此外，光学元件或者反射镜101、102也可以被间接承载，例如通过致动器(为了简洁的目的，图1中没有示出致动器)依次承载那些反射镜。
[0061]在图1中原则上仅为概略的视图中，模块110-140中的每一个由四个承载结构子元件(例如承载结构子元件121-124)构成。该数目仅作为例子且可以更高或者更低，并且对于单独(individual)模块110-140也可以不同。
[0062]承载结构100的材料可以例如具有或者是合适的金属、钢或者铝合金，其中模块110-140也可以由不同的材料制成。另外，如在下文中更详细说明的承载结构子元件(例如121-124)可以通过不同的生产过程而连接在一起以提供模块110-140。真空硬钎焊、扩散熔焊、夹钳连接、螺纹连