690和承载结构子组件612-614，此外，也可以在没有附加材料的情况下执行用于进行连接所必需的熔焊操作，从而可以基本使用同一种材料制造冷却通道。因此，可以在冷却通道的区域中，至少基本上避免不同(例如焊剂)材料的存在，所述不同材料具有相互不同的电化学势，并且其与典型的电解冷却液一起还涉及电化学腐蚀。在冷却通道内用于降低电化学腐蚀的另一措施包括至少对冷却通道按区域(reg1n-wise)镀镍。
[0086]施加冷却通道的另一可能方法包括铺设(lay on)箔(其优选包括与板材料相同的材料，例如钢或者铝，并且其可以被制造为具0.5mm至Imm之间的厚度(单纯作为示例))，其被固定在它的外围以及合适的支撑点处(例如通过熔焊)，并且通过压力的作用其是塑性变形的，以提供以弹力垫形式成形的箔，所产生的冷却通道被提供了用于冷却介质穿过的合适连接。
[0087]应该理解的是，可以组合地使用根据本发明的用于将承载结构子元件或者模块连接在一起以提供根据本发明的承载结构的不同连接方法，在该方面，例如，由固体材料块乳制出单独模块(可能将冷却通道乳制在模块的表面中以及使用软钎焊或者熔焊处理密封连接)，并且使用软钎焊或者熔焊处理连接包括(可能弯曲的)面的其它单独模块，在此情况下，冷却通道可以被熔焊或者软钎焊上。
[0088]即使已经参照具体实施例说明了本发明，但大量变化和可替换的实施方式对于本领域的技术人员而言是明显的，例如通过组合和/或交换单独实施例的特征。因此，本领域的技术人员应该理解，本发明也可以包含这样的变化和替代实施例，并且本发明的范围仅由附随的权利要求和其等同物的意义所限定。
【主权项】
1.一种用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置，包括: 多个光学元件(101、102);以及 承载结构(100、300)，其承载所述光学元件(101、102)以及其由至少两个可释放地互相连接的模块(110-140、310-340、510、610)构成； 其中每个模块(110-140、310-340、510、610)由至少一个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)构成， 其中由多个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)和/或模块(110-140、310、340、510、610)产生子壳体； 其中所述子壳体具有几何形状，所述几何形状至少在一些区域中对应于所述投射曝光设备中的可用光束路径而不同，所述可用光束路径被定义为能够从场平面中的所有场点向所述投射曝光设备的像平面传播的所有光束的包络；以及 其中至少一个所述模块(110-140、310-340、510、610)由至少两个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)构成； 其中所述至少两个承载结构子元件的每个具有至少一个开口，以在所述投射曝光设备的运行中允许光束通过；以及 其中至少一个所述承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)具有至少两个开口(121a-121c，421a-421c)，以在所述投射曝光设备的运行中允许光束通过。2.根据权利要求1所述的光学布置，其特征在于:至少两个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)具有不同数目的开口(121a_121c，421a_421c)，以在所述投射曝光设备的运行中允许光束通过。3.根据权利要求1所述的光学布置，其特征在于:所述可用光束路径由所述子壳体围绕，使得在所述可用光束路径和所述子壳体之间存在不超过10_的最大间隔。4.根据权利要求3所述的光学布置，其特征在于:所述可用光束路径和所述子壳体之间存在不超过5_的最大间隔。5.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于:至少一个所述模块(110-140、310-340、510、610)由至少三个承载结构子元件构成。6.根据权利要求5所述的光学布置，其特征在于:至少一个所述模块(110-140、310-340、510、610)由至少四个承载结构子元件构成。7.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于:至少两个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)在它们的开口 (121a_121c，421a_421c)的尺寸、横截面几何形状和/或定位方面不同。8.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于:所述开口(121a-121c，421a-421c)的布置适配于在运行中穿过所述投射曝光设备的光束的构造。9.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于:所述可用光束路径包括至少部分地渗入彼此的光束。10.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于:所述可用光束路径是折置的光束路径。11.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于:在运行中穿过所述投射曝光设备的光束在至少一个所述承载结构子元件中连续横穿不同的开口。12.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学布置，其特征在于:所述光学元件是反射镜。13.根据权利要求1-4中的任一项所述的光学布置，其特征在于:至少两个承载子元件(121-124、421、511-514、612-614)具有互相对应的表面部分，所述表面部分在所述承载结构子元件组装之后彼此一起形成冷却通道部分(450、550a、650a)，在所述投射曝光设备的运行中，冷却介质(550、650)能够通过所述冷却通道部分流动。14.根据权利要求13所述的光学布置，其特征在于:通过多个这样的冷却通道部分构建至少一个冷却介质回路(315、325、335、345)。15.根据权利要求14所述的光学布置，其特征在于:通过多个这样的冷却通道部分构建能够选择性地连接在一起的多个冷却介质回路(315、325、335、345)。16.根据权利要求14或15所述的光学布置，其特征在于:至少一个多孔结构布置在至少一个所述冷却介质回路的区域中。17.根据权利要求1-4中的任一项所述的光学布置，其特征在于:通过至少一个密封元件将至少两个承载结构子元件(612、613、614)相对于彼此流体密封地密封。18.根据权利要求17所述的光学布置，其特征在于:所述密封元件是具有覆盖板(690)的形式。19.根据权利要求18所述的光学布置，其特征在于:至少一个所述承载结构子元件(612、613、614)和所述覆盖板(690)由相同的材料制成。20.一种包括照明系统和投射物镜的微光刻投射曝光设备，其中所述照明系统和/或所述投射物镜具有前述权利要求中的任一项所述的光学布置。
【专利摘要】本发明涉及一种用于EUV光刻的投射曝光设备中的光学布置，包括：多个光学元件(101、102)；以及承载结构(100、300)，其承载所述光学元件(101、102)，其中所述承载结构由至少两个可释放地互相连接的模块(110-140、310-340、510、610)构成；以及其中每个模块(110-140、310-340、510、610)由至少一个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)构成，其中通过多个承载结构子元件(121-124、421、511-514、612-614)和/或模块(110-140、310-340、510、610)产生子壳体；以及其中所述子壳体具有几何形状，所述几何形状至少在一些区域中对应于所述投射曝光设备中的可用光束路径而不同，所述可用光束路径被定义为能够从场平面中的所有场点向所述投射曝光设备的像平面传播的所有光束的包络。
【IPC分类】G02B7/00, G03F7/20
【公开号】CN105137718
【申请号】CN201510524178
【发明人】V.库利特斯基, B.盖尔里奇, S.泽尔特, 关彦彬, P.德费尔, A.沃姆布兰德
【申请人】卡尔蔡司Smt有限责任公司
【公开日】2015年12月9日
【申请日】2010年9月24日
【公告号】CN102549503A, CN102549503B, DE102009045223A1, EP2483747A1, US20120188523, WO2011039124A1