曝光装置、曝光方法

文档序号:9438776阅读:416来源:国知局
曝光装置、曝光方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及使用了曝光装置的基板的曝光技术。
【背景技术】
[0002]以往,为了在表面具有感光层的基板的曝光面上形成导电图案等而普遍进行如下的曝光方法:将基板与描绘有图案的光掩模重叠配置,使光通过光掩模而照射到基板上,由此将图案转印至基板表面的感光层。与此相对,提出有不使用光掩模而将规定的图案直接形成于基板的无掩模曝光(直接曝光)方式(例如,下述专利文献I)。根据上述无掩模曝光方式,由于不需要光掩模,因此有利于成本,另外,能够实现高精度曝光。
[0003]在先技术文献
[0004]专利文献1:日本特开2006-250982号公报

【发明内容】

[0005]发明要解决的技术问题
[0006]然而,基板由于因厚度方向上的不均匀度、制作误差、温度、湿度变化、到曝光工序为止的热履历等引起的伸缩、翘曲等,而曝光面多具有非平坦形状,在该情况下,难以遍及曝光面整个区域进行成像,从而在使用成像光学系统的无掩模曝光方式中,有时不能够进行高精度曝光。为了解决上述问题,也可以导入具备自动聚焦功能的光学系统,但控制变得复杂,另外,装置的成本增加。由于这种情况,要求一种能够以简单的结构遍及曝光面整个区域稳定地成像的曝光技术。另外,在基板是柔性的带状的情况下,基板容易发生挠曲,为了消除挠曲,或者为了将基板不发生挠曲地搬运,需要在长度方向上对基板作用规定的张力。然而,若对基板作用过度的张力,则基板在长度方向上延伸,因此当在该状态下进行曝光时,会对与原本的基板形状不同的基板进行曝光,从而无法在基板上高精度地形成图案。由于这种情况,针对柔性的带状基板,要求一种通过对原本的基板形状进行曝光而能够高精度地形成图案的曝光技术。
[0007]用于解决技术问题的方案
[0008]本发明是为了解决上述技术问题的至少一部分而完成的,例如能够作为以下的方式来实现。
[0009]本发明的第一方式提供一种对柔性的带状的基板进行曝光的曝光装置。该曝光装置具备:第一夹持部及第二夹持部,其具有透过部,该透过部由透光性的构件形成且具有平坦面,第一夹持部及第二夹持部能够通过各个平坦面来夹持基板;第一移动部,其使第一夹持部及第二夹持部中的至少一方在第一夹持部与第二夹持部接近的方向及远离的方向上移动;第一曝光部,其具有向第一方向照射光而在所述第一夹持部的所述平坦面上成像的成像光学系统;第二曝光部,其与第一曝光部分离地配置,且具有向与第一方向相反的第二方向照射光而在所述第二夹持部的所述平坦面上成像的成像光学系统;以及第二移动部,其在如下的夹持状态下,使第一夹持部及第二夹持部与第一曝光部及第二曝光部仅向一个方向相对移动,以使得第一夹持部及第二夹持部通过第一曝光部与第二曝光部之间,所述夹持状态是利用第一移动部使第一夹持部及第二夹持部中的至少一方移动,由此使配置在第一夹持部及第二夹持部的各个平坦面之间的基板被各个平坦面夹持的状态。曝光装置在夹持状态下,将第一夹持部及第二夹持部的各自的平坦面与第一曝光部及第二曝光部的距离保持为固定,并向一个方向进行相对移动,并且分别从第一曝光部及第二曝光部照射光,经由第一夹持部及第二夹持部的透过部而对基板的两面同时进行曝光。第二移动部在夹持状态下使第一夹持部及第二夹持部移动,通过移动,将基板在基板的长度方向上输送。
[0010]根据上述曝光装置,即便将柔性的带状的基板在具有些许挠曲的状态下进行设置,柔性的带状的基板的两面的曝光面通过被第一夹持部及第二夹持部夹持,也被平坦化。而且,在第一夹持部的在第一移动部使第一夹持部及第二夹持部中的至少一方移动的方向上的位置被固定的情况下,在夹持状态下,第一夹持部的平坦面与第一曝光部的第一方向上的距离保持为固定。因此,第一曝光部能够在与基板的曝光面接触的第一夹持部的平坦面上稳定地成像。另外,在该情况下,柔性的带状基板的厚度通常较薄,因此在夹持状态下,第二夹持部的平坦面与第二曝光部的第二方向上的距离也保持为固定。因此,即便第二曝光部在接近第一曝光部的方向或远离第一曝光部的方向上不移动,也能够在与基板的曝光面接触的第二夹持部的平坦面上稳定地成像。因此,能够以简单的结构,在基板的两面的曝光面整个区域稳定地成像。这一点在如下的情况下也相同:第二夹持部的在第一移动部使第一夹持部及第二夹持部中的至少一方移动的方向上的位置被固定的情况;第一夹持部与第二夹持部这两方移动且在预先决定的固定位置处夹持基板的情况;第一夹持部与第二夹持部这两方移动且根据该移动量,使第一曝光部及第二曝光部移动的情况。此外,通过被第一夹持部及第二夹持部夹持而使曝光面平坦化,因此也可以不必为了平坦化而在基板的长度方向上施加必要以上的张力。因此,不会出现对基板作用过度的张力而使曝光面在长度方向上延伸的状态下曝光的情况。因此,能够高精度地在基板上形成图案。
[0011]作为本发明的第二方式,以第一方式为基础,第一夹持部的在第一移动部使第一夹持部及第二夹持部中的至少一方移动的方向上的位置也可以被固定。第二夹持部也可以构成为通过第一移动部能够移动位置。根据上述方式,只要构成为能够仅使第二夹持部移动即可,因此结构简单。在将基板配置为在第一夹持部与第二夹持部之间不与第一夹持部及第二夹持部接触的情况下,若在基板的长度方向上没有过度产生张力的状态下配置基板,则基板能够在第一移动部使第二夹持部移动的方向上挠曲。因此,通过第二夹持部将基板向第一夹持部侧按压,能够容易夹持基板。而且,由于第一夹持部的在使第二夹持部移动的方向上的位置被固定,因此在夹持状态下,第一夹持部的平坦面与第一曝光部的第一方向上的距离保持为固定。因此,第一曝光部能够在第一夹持部的平坦面上稳定地成像。另夕卜,柔性的带状的基板的厚度通常较薄,因此在夹持状态下,第二夹持部的平坦面与第二曝光部的第二方向上的距离也保持为固定。因此,第二曝光部在接近第一曝光部的方向或远离第一曝光部的方向上即便不移动,也能够在第二夹持部的平坦面上稳定地成像。因此,能够以简单的结构在基板的两面的曝光面整个区域稳定地成像。
[0012]作为本发明的第三方式,以第一方式为基础,曝光装置也可以具备:第三移动部,其使第二曝光部在接近第一曝光部的方向及远离第一曝光部的方向上直线移动;第四移动部,其使第一曝光部在接近第二曝光部的方向及远离第二曝光部的方向上直线移动;以及检测部,其检测夹持状态的基板的位置及形状中的至少一方。第二曝光部也可以固定在通过第三移动部能够移动的第一支承构件上,且进行与检测部的检测结果相应的曝光。第一曝光部也可以固定在通过第四移动部能够移动的第二支承构件上,且进行与检测部的检测结果相应的曝光。检测部也可以固定在与第二曝光部共用的第一支承构件及与第一曝光部共用的第二支承构件中的至少一方上。根据上述方式,在夹持状态下,即在与曝光时相同的状态下,对基板的位置及形状中的至少一方进行检测,因此能够在准确的位置进行曝光。此夕卜,在为了在第一夹持部的平坦面上成像而使第一曝光部根据第一夹持部的位置移动、且为了在第二夹持部的平坦面上成像而使第二曝光部根据第二夹持部的位置移动的情况下,检测部也向与第一曝光部及第二曝光部中的至少一方相同的方向同时移动相同的距离。因此,关于检测部,也在第一夹持部及第二夹持部的平坦面上成像。即,在检测部中即便不设置自动聚焦等其他单元或其他机构,也能够根据第一夹持部及第二夹持部的夹持基板的位置,始终在与基板的曝光面接触的第一夹持部及第二夹持部的平坦面上成像,并且还能够简化装置结构。
[0013]本发明的第四方式提供一种对基板进行曝光的曝光装置。该曝光装置具备:第一夹持部及第二夹持部,其具有透过部,该透过部由透光性的构件形成且具有平坦面,第一夹持部及第二夹持部能够通过各个平坦面来夹持基板;第一移动部,其使第二夹持部在接近第一夹持部的方向及远离第一夹持部的方向上移动;第一曝光部,其以固定了位置的状态配置在第一夹持部一侧,且具有向第一方向照射光而在第一夹持部的平坦面上成像的成像光学系统;第二曝光部,其与第一曝光部分离地配置在第二夹持部一侧,且具有向与第一方向相反的第二方向照射光而在第二夹持部的平坦面上成像的成像光学系统;第二移动部,其在如下的夹持状态下,使第一夹持部及第二夹持部与第一曝光部及第二曝光部仅向一个方向相对移动,以使得第一夹持部及第二夹持部通过第一曝光部与第二曝光部之间,所述夹持状态是利用第一移动部使第二夹持部移动,由此使配置在第一夹持部及第二夹持部的各个所述平坦面之间的基板被各个平坦面夹持的状态;以及第三移动部,其使第二曝光部在接近第一曝光部的方向及远离第一曝光部的方向上直线移动。第一夹持部的在第一移动部使第二夹持部移动的方向上的位置被固定。曝光装置在夹持状态下,将第一夹持部及第二夹持部的各自的平坦面与第一曝光部及第二曝光部的距离保持为固定,并向一个方向进行相对移动,并且分别从第一曝光部及第二曝光部照射光,经由第一夹持部及第二夹持部的透过部而对基板的两面同时进行曝光。
[0014]根据上述曝光装置,即便在基板的曝光面具有非平坦形状的情况下,通过使基板被第一夹持部和第二夹持部夹持,而将基板的曝光面按压到第一夹持部的平坦面和第二夹持部的平坦面上,从而基板的曝光面追随上述平坦面,因此该非平坦形状减少。另外,由于第一夹持部的在第一移动部使第二夹持部移动的方向上的位置被固定,因此在夹持状态下,和第一夹持部的平坦面接触的基板的曝光面与第一曝光部的第一方向上的距离保持为固定。因此,能够遍及与第一夹持部的平坦面接触的基板的曝光面整个区域稳定地成像。此夕卜,在夹持状态下,与第二夹持部的平坦面接触的基板的曝光面的第二方向上的位置根据基
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