台架装置、光刻装置、物品的制造方法和确定方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及台架装置、光刻装置、物品的制造方法和确定方法。
【背景技术】
[0002] 对于在制造半导体器件等时使用的光刻装置，希望高精度地定位保持基板或掩模 的台架。一般地，在光刻装置中，设置通过向台架提供推力来驱动台架的驱动单元，并且，通 过向驱动单元供给用于减小台架的当前位置与目标位置之间的偏差的信号（第一信号）来 控制台架的位置。
[0003] 对于具有这种类型的配置的光刻装置，已知在由驱动单元向台架供给的推力中包 含波动（推力波动），并且，推力波动导致台架振动。日本专利公开No. 2001-175332和日本 专利公开No. 2003-88159提出通过向驱动单元供给第一信号和用于减少由推力波动导致 的台架的振动的信号（第二信号）来控制台架位置的方法。日本专利公开No. 2001-175332 公开了基于使用驱动单元（例如，线性马达（motor))的设计数据的模型公式获得推力波动 并且确定第二信号以抵消获得的推力波动的方法。而且，日本专利公开No. 2003-88159公 开了通过关注推力波动的频率是包含于驱动单元中的马达的电气角频率的整数倍这一事 实来确定第二信号的方法。
[0004] 关于在日本专利公开No. 2001-175332中公开的方法，如果仅根据基于使用驱动 单元的设计数据的模型公式获得的推力波动确定第二信号，则不能充分地减少由推力波动 导致的台架的振动。并且，在日本专利公开No. 2003-88159中，没有公开为了减少由推力波 动导致的台架振动而确定第二信号的振幅和相位。
【发明内容】
[0005] 本发明提供了有利于例如台架的高精度定位的技术。
[0006] 根据本发明的一个方面，提供一种包括可移动的台架的台架装置，该装置包括：被 配置为通过向台架提供推力来驱动台架的驱动单元；被配置为测量台架的位置的测量单 元；和控制单元，该控制单元被配置为通过向驱动单元供给由用于减少台架的当前位置与 目标位置之间的偏差的第一信号和用于减少由包含于推力中的推力波动导致的台架的振 动的第二信号构成的信号来控制台架的位置，其中，控制单元基于由测量单元执行的测量 的结果获得在作为第二信号的替代使用其中振幅和相位中的至少一个不同的多个信号的 情况下台架的响应有关的多条信息，并且基于所述多条信息确定第二信号以使得由推力波 动导致的台架的振动的振幅落在允许范围内。
[0007] 根据本发明的一个方面，提供一种物品的制造方法，该方法包括以下步骤：通过使 用光刻装置在基板上形成图案；以及处理在其上形成了图案的基板以制造物品，其中，光刻 装置在基板上形成图案并且包含台架装置，其中，台架装置包含：可移动的台架；被配置为 通过向台架提供推力来驱动台架的驱动单元；被配置为测量台架的位置的测量单元；和控 制单元，该控制单元被配置为通过向驱动单元供给由用于减少台架的当前位置与目标位置 之间的偏差的第一信号和用于减少由包含于推力中的推力波动导致的台架的振动的第二 信号构成的信号来控制台架的位置，其中，控制单元基于由测量单元执行的测量的结果获 得在作为第二信号的替代使用其中振幅和相位中的至少一个不同的多个信号的情况下台 架的响应有关的多条信息，并且基于所述多条信息确定第二信号以使得由推力波动导致的 台架的振动的振幅落在允许范围内。
[0008] 根据本发明的一个方面，提供一种用于在台架装置中确定第二信号的确定方法， 该台架装置包含：可移动的台架、被配置为测量台架的位置的测量单元和被配置为通过向 台架提供推力来驱动台架的驱动单元，该台架装置被配置为通过向驱动单元供给由用于减 少台架的当前位置与目标位置之间的偏差的第一信号和用于减少由包含于推力中的推力 波动导致的台架的振动的第二信号构成的信号来控制台架的位置，确定方法包括以下的步 骤：基于由测量单元执行的测量的结果获得在作为第二信号的替代使用其中振幅和相位中 的至少一个不同的多个信号的情况下台架的响应有关的多条信息，并且基于在该获得步骤 中获得的所述多条信息确定第二信号以使得由推力波动导致的台架的振动的振幅落在允 许范围内。
[0009] 参照附图阅读示例性实施例的以下描述，本发明的其它特征将变得清晰。
【附图说明】
[0010] 图1是表示第一实施例的台架装置的示意图。
[0011] 图2是表示根据第一实施例的控制系统的框线图。
[0012] 图3是表示用于生成第二信号的方法的流程图。
[0013] 图4是表示根据第一实施例的控制系统的框线图。
[0014] 图5是表示台架正被驱动时的台架的位置与目标位置之间的偏差的示图。
[0015] 图6是表示向驱动单元供给第二信号的情况以及不供给第二信号的情况下的台 架的振动的检查结果的示图。
[0016] 图7是表示第二实施例的台架装置的示意图。
[0017] 图8是表示根据第二实施例的控制系统的框线图。
[0018] 图9是表示根据第二实施例的控制系统的框线图。
[0019] 图10是表示应用台架装置的曝光装置的示意图。
[0020] 图IlA和图IlB是表示曝光装置使多个基板中的每一个曝光的处理的流程图。
【具体实施方式】
[0021 ] 以下将参照附图描述本发明的示例性实施例。注意，相同的附图标记在所有的附 图中表示相同的部件，并且，将不给出它们的重复描述。
[0022] 第一实施例
[0023] 将参照图1描述根据本发明的第一实施例的台架装置100。图1是表示第一实施 例的台架装置100的示意图。第一实施例的台架装置100可包含可移动的台架11、驱动台 架11的驱动单元12、测量台架11的位置的测量单元13、和控制单元15。例如，控制单元15 包含CPU或存储器等，并且，控制台架装置100的单元。这里，在第一实施例中，为了简化描 述，将描述用于在Y方向上控制台架11的位置的方法，但是，也可通过使用类似的配置在X 方向上控制台架11的位置。
[0024] 驱动单元12通过向台架11提供推力来驱动台架11。在第一实施例中，驱动单元 12可包含具有定子12a n和可动元件12a 12的线性马达12a i、和根据从控制单元15供给的 信号向线性马达Ua1 (例如，可动元件12a12)供给电流的驱动器12a2。线性马达Ua1的定 子12a n固定于基座14上，并且，可动元件12a 12被固定于台架11上。并且，驱动器12a 2可 通过根据从控制单元15供给的信号向线性马达12?供给电流以在Y方向上驱动台架11。 这里，可通过设置在基座14上的测量单元13测量台架11的位置。测量单元13包含例如 激光干涉计，其向设置在台架11的侧表面上的镜子（未示出）发射激光束，通过使用由镜 子反射的激光束获得台架11的距基准位置的位移，并且，可基于位移获得台架11的当前位 置。并且，控制单元15通过控制驱动单元12以使得通过测量单元13测量的台架11的当 前位置与目标位置之间的偏差接近零来定位台架11。
[0025] 图2是表示根据第一实施例的控制系统的框线图。在图2中，控制单元15包含第 一供给单元15a、减法器15b、补偿器15c、加法器15d、生成器15e和第二供给单元15f。第 一供给单元15a向减法器15b供给用于台架11的目标位置REF的命令值。基于从第一供 给单元15a供给的命令值，减法器15b计算由测量单元13测量的台架11的当前位置POS 与目标位置REF之间的偏差ERR。补偿器15c是例如PID补偿器，其生成用于减小由减法 器15b计算的偏差ERR的信号（第一信号）。补偿器15c可生成第一信号以使得由减法器 15b计算的偏差ERR接近零。由补偿器15c生成的第一信号被供给到驱动单元12的驱动器 12a 2〇驱动器12a2根据被供给的信号向线性马达12&1供给电流。通过这种类型的控制，台 架装置100可定位台架11，使得台架11的当前位置POS与目标位置REF之间的偏差ERR接 近零。
[0026] 另一方面，对于这样配置的台架装置100,已知波动（推力波动d)包含于由驱动单 元12 (线性马达Ua1)提供给台架11的推力中，因此，台架11由于推力波动d而振动。出 于这种原因，第一实施例的控制单元15可包含生成用于减少由推力波动导致的台架11的 振动的信号（第二信号）的生成器15e和向加法器15d供给由生成器15e生成的第二信号 的第二供给单元15f。由生成器15e生成的第二信号可设定于第二供给单元15f中并且通 过第二供给单元15f被供给到加法器15d。在被供给到加法器15d之后，第二信号加到第一 信号上并且被供给到驱动单元12的驱动器12a 2。驱动单元12的驱动器12a2根据由第一 信号和第二信号构成的信号（复合信号u)向线性马达12 &1供给电流。通过这种类型的控 制，台架装置100可定位台架11，使得台架11的当前位置POS与目标位置REF之间的偏差 ERR减小且由推力波动导致的台架11的振动减小。这里，如图2所示，控制单元15可被配 置为使得从第一供给单元15a向加法器15d供给前馈信号FF，并且，向驱动器12a 2供