射，k值选取偶数;实施中，通过调整填充物的种类、第二反射单元的半径等，可以改变第二反射单元的转动周期，进而调节延时的时长。当第二反射单元中没有填充物时(相当于只有空气)，此时η的取值为I。
[0055]具体实施时，第二反射单元的反射面以及第二反射单元也可以采用其它形状，只要是通过调节各个器件和单元的位置，使延时后的激光光束可以传输至待照射的部件105上即可;其中，延时后的激光光束也可以不经过分光单元的反射再传输至待照射的部件105上，可以采用其它方式，如延时后直接传输至待照射的部件105、或是通过增加新的反射镜使延时后的激光光束传输至待照射的部件105上。本发明的实施例只是提供一种可实现的结构示意图，并不代表本发明的激光脉冲延时系统只有这一种结构。
[0056]基于同一构思，本发明实施例中还提供了一种激光退火系统，该激光退火系统包括:用于发射激光光束的激光器、设置在激光光束的传输光路上的本发明实施例中提供的上述任一激光脉冲延时系统、以及设置在激光脉冲延时系统的出光路径上需要进行激光退火处理的基板。由于该激光退火系统解决问题的原理与本发明实施例一种激光脉冲延时系统相似，因此该激光退火系统的实施可以参见激光脉冲延时系统的实施，重复之处不再赘述。
[0057]如图4所示，为本发明实施例提供的一种激光退火系统的结构示意图；包括，激光器104、激光脉冲延时系统10、以及需要进行激光退火处理的基板1055，激光器104发射的激光光束经过激光脉冲延时系统10之后，传输至基板1055。
[0058]实施中，现有技术中采用激光器进行激光退火时，由于一次照射时间非常短，因而获得的晶粒尺寸也很小，需要重叠照射以获得大的晶粒尺寸；同时，出射激光器出射的激光光束的能量一般远大于非晶硅融化的能量，需要将这部分能量通过衰减装置滤除。而本发明实施例中的激光退火系统，由于增加了本发明实施例提供的上述激光脉冲延时系统，因而与现有技术相比，可以将滤除的这部分能量延时照射到非晶硅上，即本发明实施例中激光退火系统，可以将激光器发射的一束激光束分成第一基准光和第二基准光，并直接将第一基准光反射至需要进行激光退火的基板上；将第二基准光通过延时单元进行延时之后，传输至需要进行激光退火的基板上;这样相当于延长了一个激光脉冲周期内，照射到需要进tx激光退火的基板上的激光光束的总脉冲时长，与现有技术相比，可以提尚一定时长内能够得到的晶粒的尺寸，也可以获得更高的生产效率。
[0059]综上所述，由于本发明的激光脉冲延时系统中设置了分光单元，可以将激光器发射的一束激光束分成第一基准光和第二基准光，并直接将第一基准光反射至待照射的部件上;将第二基准光通过延时单元进行延时之后，传输至待照射的部件上;进而实现了将一束激光光束分成两束光，并通过对其中一束光进行延时，使分成的两束基准光能够分别照射到待照射的部件上，因而在一个激光脉冲周期内，照射到待照射的部件上的激光光束的总脉冲时长大于激光器发射的激光光束的脉冲时长，这样不仅相当于延长了激光器一次照射的时长，并充分的利用了激光光束的能量，提高了激光工作能量的利用率。
[0060]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种激光脉冲延时系统，其特征在于，包括:设置在激光光束的传输光路上的分光单元、第一反射单元和延时单元，其中， 所述分光单元，用于将激光器发射的激光光束进行分光，分成第一基准光和第二基准光，并将所述第一基准光传输至所述第一反射单元，以及将所述第二基准光传输至所述延时单元； 所述第一反射单元，用于将接收到的所述第一基准光反射至待照射的部件； 所述延时单元，用于将接收到的所述第二基准光进行延时后，传输至所述待照射的部件； 其中，在一个激光脉冲周期内，照射到所述待照射的部件上的激光光束的总脉冲时长大于所述激光器发射的激光光束的脉冲时长。2.如权利要求1所述的延时系统，其特征在于，所述分光单元为半透半反镜。3.如权利要求2所述的延时系统，其特征在于，所述第一基准光和所述第二基准光的传输光路互相垂直。4.如权利要求2所述的延时系统，其特征在于，所述第一基准光为所述激光光束经过所述半透半反镜后生成的反射光，所述第二基准光为所述激光光束经过所述半透半反镜后生成的透射光;或， 所述第一基准光为所述激光光束经过所述半透半反镜后生成的透射光，所述第二基准光为所述激光光束经过所述半透半反镜后生成的反射光。5.如权利要求1所述的延时系统，其特征在于，所述第一反射单元为反射镜； 所述分光单元，具体用于将接收到的经过所述反射镜反射后的第一基准光进行透射后，传输至所述待照射的部件。6.如权利要求1-5任一项所述的延时系统，其特征在于，所述延时单元包括:第二反射单元、以及驱动所述第二反射单元按照周期性轨迹转动的驱动单元； 其中，所述第二反射单元具有开口、以及能够使所述第二基准光在所述第二反射单元内部进行反射的反射面； 所述第二反射单元的开口，用于入射所述第二基准光，并在驱动单元驱动所述第二反射单元的开口转动到同一位置时，将在所述第二反射单元中经过反射延时后的第二基准光出射至所述分光单元； 所述分光单元，具体用于将接收到的所述经过反射延时后的第二基准光进行透射后，传输至所述待照射的部件。7.如权利要求6所述的延时系统，其特征在于，所述开口区域的面积不小于所述激光光束的光斑面积。8.如权利要求6所述的延时系统，其特征在于，所述第二反射单元内部设置有填充物。9.如权利要求8所述的延时系统，其特征在于，所述填充物为水、透明的液体溶剂或透明的固体。10.如权利要求8所述的延时系统，其特征在于，所述第二反射单元的反射面的形状为圆形。11.如权利要求10所述的延时系统，其特征在于，所述第二反射单元的转动周期为4rnk/c;其中k为偶数，c为光在真空中的运动速度，η为所述填充物的折射率，r为所述第二反射单元的半径。12.—种激光退火系统，其特征在于，包括:用于发射激光光束的激光器、设置在激光光束的传输光路上的如权利要求1-11任一项所述的激光脉冲延时系统、以及设置在所述激光脉冲延时系统的出光路径上需要进行激光退火处理的基板。
【专利摘要】本发明公开了一种激光脉冲延时系统和激光退火系统，包括：设置在传输光路上的分光单元、第一反射单元和延时单元，分光单元用于将激光器发射的激光光束进行分光，分成第一基准光和第二基准光，并将第一基准光传输至第一反射单元，将第二基准光传输至延时单元；第一反射单元用于将接收到的第一基准光反射至待照射的部件；延时单元用于将接收到的第二基准光进行延时后传输至待照射的部件。由于在对激光器发射的光束进行延时，使分成的两束基准光能够分别照射到待照射的部件上，因而使得在一个激光脉冲周期内，照射到待照射的部件上的总脉冲时长大于激光器发射的激光光束的脉冲时长，延长了激光器一次照射的时长，提高了激光工作能量的利用率。
【IPC分类】G02B6/42, H01S3/10, B23K26/00
【公开号】CN105511030
【申请号】CN201610029044
【发明人】许晓伟, 李小龙, 李良坚
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2016年1月15日