形成保护膜。
[0220] 实施例2至实施例12
[0221] 实施例2至实施例12的感光性聚硅氧烷组成物及保护膜是以与实施例1相同的 步骤分别制备，并且其不同处在于：改变成分的种类及其使用量，如表2所示。将实施例2 至12所制得的感光性聚硅氧烷组成物以后述评价方式进行评价，其结果如表2和表2 (续） 所示。
[0222] 比较例1至比较例3
[0223] 比较例1至比较例3的感光性聚硅氧烷组成物是以与实施例1相同的步骤分别制 备，并且其不同处在于：改变成分的种类及其使用量，如表3所示。将比较例1至比较例3 所制得的感光性聚硅氧烷组成物以下列各评价方式进行评价，其结果如表3所示。
[0224] 表2和表3中简称所对应的化合物如下所示。
[0225] 简称 化合物 A-1 聚鞋氧焼A-1 A-2 聚硅氧烷A-2 A-3 聚硅氧烷A-3 A-4 聚硅氧烷A-4 A-5 聚鞋氧垸A-5 A-6 聚硅氧烷A-6 A-7 聚娃氧焼A-7 A-B 聚硅氧烷A-8 B-l 1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[l，l-双(4-羟基苯基)乙基]苯与邻 萘醌二叠氮-5-磺酸所形成的邻萘醌二叠氮磺酸酯 B-2 2,3,4-=:羟基二苯甲酮与邻萘醌二叠氮-5-磺酸所形成的邻萘 醌：叠氮磺酸酯 B-3 2,3,4,4'-四羟基二苯甲酮与邻萘醌二叠氮-5-磺酸所形成的邻 萘醌二叠氮磺酸.酯 C-1-i 并咪 I1 半(2-liydroxybenzimidazole) C-1-2 2-「f 丨咕咪"坐(2-mctliylimidazolc) C-1 -3 2-苯堪咪哗(2pheny 丨 imidazole) C-2-丨 3,5-二异丙基舭_(3,5-仙8〇{>1'〇卩￥1卩)〇*狀〇16) C-2-2 1 丨引哗-3-段酸(indazole-3-carboxylic acrid) C-2-3 3-氣基-4甲基 P比唑(3-amino-4-methylj5yrazole) C-3-1 5-T1 堆-丨II-本并'"半:(5-methyl-丨II-benzotriazole) C-3-2 1-[N，N-双(2-羟基乙基)氨基甲基]-4-甲基苯并三唑 (l-[N,N-bis(2-hydroxyethyl)aminomethyl]-4-methylbenzotriazo!e) C-3-3 3-m往-1 么4-.啐(3-mercapto-1.2,4-triazole) C-4-1 5-两基四唑(5-pr〇pyltetrazole) C-4-2 5-环己基四唑{5-cycloIiexy]tetrazole) C-4-3 1-甲基-5-羟基四挫(l-metliyl-5-hydroxytetrazole) D-1 |A] ^(propylene glycol monomethyl ether accialc, PGMEA) D-2 二丙酮醇(4-羟基-4-甲基-2-戊酮)(Diacetone alcohol) D-3 M' i_Ll! liKcyciohexanone) E-l SF-8427(由道康宁东丽聚硅氧股份有限公司制造，表面活性剂） E-2 3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷 (3-giycidoxypropyltrimethoxysiiane. ji'rj i'：n KBM403, I 丨 I ffi.越化 学制造，粘着辅助剂）
[0226]
[0227] 评价方式
[0228] 感度安定性
[0229] 将感光性聚硅氧烷组成物以旋转涂布方式涂布于100 X 100X0. 7mm3大小的玻璃 基板上，以形成厚度约2 ym的涂膜。接着，将涂膜在110°C下预烤2分钟，以形成预烤涂膜。 然后，在曝光机与预烤涂膜间置入适用的光罩，并利用紫外光对预烤涂膜进行图案化曝光 (曝光机型号为AG500-4N，由M&R纳米科技制造），其中紫外光的照射能量为SimJ/cm 2。接 着，将上面有经曝光的预烤涂膜的基板在23°C下，以2. 38%的氢氧化四甲基铵（TMAH)水溶 液显影60秒，以去除玻璃基板上未经曝光的部分的涂膜。
[0230] 另外，将与上述同一种的感光性聚硅氧烷组成物先于45°C的环境下放至三天后， 再以旋转涂布方式涂布于100X100X0. 7_3大小的玻璃基板上，以形成厚度约2 ym的 涂膜。接着，将涂膜在ll〇°C下预烤2分钟，以形成预烤涂膜。然后，在曝光机与预烤涂膜 间置入适用的光罩，并利用紫外光对预烤涂膜进行图案化曝光，其中紫外光的照射能量为 S2mJ/cm2。接着，将上面有经曝光的预烤涂膜的基板在23 °C下，以2. 38 %的氢氧化四甲基铵 (TMAH)水溶液显影60秒，以去除玻璃基板上未经曝光的部分的涂膜。
[0231] 将紫外光的照射能量Si与紫外光的照射能量S 2依下式计算感度变化率。感度变 化率越低，表示感光性聚硅氧烷组成物的感度安定性越佳。
[0232]
[0233] 感度变化率的评价基准如下所示：
[0234] ◎ :0%兰感度变化率< 10 ;
[0235] 〇：10兰感度变化率< 20 ;
[0236] X:感度变化率兰20。
[0237] 表 2
[0238]
[0239] 表 2 (续）
[0240]
[0241] 表 3
[0242]
[0243] 比较例4
[0244] 比较例4的感光性聚硅氧烷组成物是一种正型感光性组成物。详细而言，比 较例4的感光性聚硅氧烷组成物组成物是通过将100重量份的聚硅氧烷A-1、5重量份 的1-[1-(4_羟基苯基）异丙基]-4-[l，l-双（4-羟基苯基）乙基]苯与邻萘醌二叠 氮-5-磺酸所形成的邻萘醌二叠氮磺酸酯（B-1)以及1重量份的1H-苯并三唑-4-磺酸 (lH-benzotriazole-4-sulfonic acid)加入100重量份的丙二醇单甲酿醋酸酯（D-1)中， 并且以摇动式搅拌器搅拌均匀后，即可制得比较例4的感光性聚硅氧烷组成物。将所得到 的感光性聚硅氧烷组成物也以上述评价方式进行评价后，其感度安定性的表现为X。
[0245] 比较例5
[0246] 比较例5的感光性聚硅氧烷组成物是一种负型感光性组成物。详细而言，比较 例5的感光性聚硅氧烷组成物是通过将100重量份的聚硅氧烷A_l、3重量份的1_[9_乙 基-6-(2-甲基苯甲酰基）-9H-咔唑-3基]-乙酮-1-(0-乙酰基肟）（商品名IRGACURE 0XE-02,由旭化成化学股份有限公司制造，作为自由基聚合起始剂）、30重量份的二季戊四 醇六丙烯酸酯、1重量份的5-甲基-1H-苯并三唑（C-3-1)、200重量份的二乙二醇乙基甲基 醚（作为溶剂）、100重量份的乙二醇单丁基醚（作为溶剂）、〇. 2重量份的聚硅氧烷表面活 性剂SH8400(由道康宁东丽聚硅氧股份有限公司制造）均匀地混合来制备。将所得到的感 光性聚硅氧烷组成物也以上述评价方式进行评价后，其感度安定性的表现为X。
[0247] 比较例6
[0248] 比较例6的感光性酚醛清漆树脂组成物是一种正型感光性组成物。详细而言，比 较例6的感光性酚醛清漆树脂组成物是通过将100重量份的酚醛清漆树脂（聚苯乙烯换算 所得的重量平均分子量（MW)为10, 600,旭有机材工业股份有限公司制，商品名EP-4080G)、 10重量份的1_[1_ (4-羟基苯基）异丙基]-4-[1，1-双（4-羟基苯基）乙基]苯与邻萘醌 二叠氮-5-磺酸所形成的邻萘醌二叠氮磺酸酯（B-l)、l重量份的1-[N，N-双（2-羟基乙 基）氨基甲基]-4-甲基苯并三唑（C-3-2)加入250重量份的丙二醇单甲醚醋酸酯（D-1) 中，并且以摇动式搅拌器搅拌均匀后，即可制得比较例6的感光性酚醛清漆树脂组成物。将 所得到的感光性酚醛清漆树脂组成物也以上述评价方式进行评价后，其感度安定性的表现 为X。
[0249] 评价结果
[0250] 由表2、表2 (续）和表3得知，与含有含氮化合物（C)的感光性聚硅氧烷组成物 (实施例1至实施例12)相比，不含有含氮化合物（C)的感光性聚硅氧烷组成物（比较例1 至比较例3)的感度安定性不佳。
[0251] 当聚硅氧烷（A)的硅烷单体组分包括含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含 有环氧基的烷氧基时，感光性聚硅氧烷组成物（实施例1至实施例5、实施例7至实施例12) 的感度安定性较佳。
[0252] 另外，根据比较例4至比较例6的评价结果得知，与本发明的含有特定结构的 含氮化合物（C)的感光性聚硅氧烷组成物（正型感光性组成物）相比，使用含有磺酸基 (sulfonic acid group，-S03H)的苯并三唑作为含氮化合物的感光性聚硅氧烷组成物（比 较例4)、使用含氮化合物的负型感光性组成物（比较例5)、感光性酚醛清漆树脂组成物 (比较例6)的感度安定性不佳。
[0253] 综上所述，本发明的感光性聚硅氧烷组成物是一种正型感光性组成物，其含有特 定结构及特定官能基的含氮化合物。具体而言，该含氮化合物具有五元环，其中五元环上具 有两个以上氮原子及两个双键，并且含有除了磺酸基以外的基团。由于本发明的感光性聚 硅氧烷组成物的感度安定性佳，而适用于形成保护膜，例如液晶显示元件及有机电激发光 显示器中所使用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材、或包覆材料等。
[0254] 最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制； 尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其 依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征 进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技 术方案的范围。
【主权项】
1. 一种感光性聚硅氧烷组成物，其特征在于，包括： 聚硅氧烷（A); 邻萘醌二叠氮磺酸酯（B); 含氮化合物（C);以及 溶剂（D)， 其中所述含氮化合物（C)包括由式（1)表示的咪唑化合物（C-1)、由式（2)表示的吡 唑化合物（C-2)、由式（3)或式（4)表示的三唑化合物（C-3)及由式（5)表示的四唑化合物 (C-4)中的至少一者，式（1)中，R\R2及R3各自独立表示氢原子、羟基、氨基、羧基、碳数为1至10的烷基、 碳数为1至10的烷氧基、碳数为3至20的经取代或未经取代的脂环基、经取代或未经取代 的苯基或经取代或未经取代的苄基，R 1与R2可缩合而形成经取代或未经取代的苯环或6元 杂环；R4表示氢原子、经取代或未经取代的苯基、经取代或未经取代的苄基、由式（1-1)表 示的基、由式（1-2)表示的基、由式（1-3)表示的基、由式（1-4)表示的基或由式（1-5)表 不的基， -(CH2) 3-χ1 式（1-1) 式（1-1)中，a表示0至20的整数，X1表示羟基或羧基；式（1-2) 式（1-2)中，b表示0至20的整数；式（1-3)中，d表示0至20的整数，X2及X 3各自独立表示表示氢原子或羟基式（1-4)中，e表示0至20的整数，式（1-5)中，f表示0至6的整数，g表示1至6的整数；式（2)中，R5、R6及R7各自独立表示氢原子、羟基、氨基、羧基、碳数为1至10的烷基、 碳数为1至10的烷氧基、碳数为3至20的经取代或未经取代的脂环基、经取代或未经取代 的苯基或经取代或未经取代的苄基，R 5与R6及R5与R 7可缩合而形成经取代或未经取代的 苯环或6元杂环；R8与式（1)中的R4同义，式⑶及式⑷中，^、^^'俨及一各自独立表示氢原子~羟基~巯基肩基~羧 基、碳数为1至30的烷基、碳数为1至10的烷氧基、碳数为3至30的经取代或未经取代的 脂环基、经取代或未经取代的苯基或经取代或未经取代的苄基，R 9与Rw可缩合而形成经取 代或未经取代的苯环或具有一个杂原子的6元杂环，式（5)中，R15表示氢原子、羟基、氨基、羧基、碳数为1至10的烷基、碳数为1至10的 烷氧基、碳数为3至20的经取代或未经取代的脂环基、经取代或未经取代的苯基或经取代 或未经取代的苄基；R16与式（1)中的R 4同义。2. 根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组成物，其特征在于，所述聚硅氧烷（A)为由 硅烷单体组分聚缩合而得，所述硅烷单体组分包括由式（1-1)表示的化合物， Si(Ra)w(0Rb)4w 式（1-1) 式（1-1)中，Ra各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳 数为6至15的芳基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基，至少一 fRa为含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基；Rb各自独立表示氢 原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳基；w表示1至3的 整数。3. 根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组成物，其特征在于，基于所述聚硅氧烷（A) 的使用量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯（B)的使用量是1至35重量份，所述含 氮化合物（C)的使用量是0. 1至10重量份，并且所述溶剂（D)的使用量是100至1500重 量份。4. 一种保护膜，其特征在于，是将根据权利要求1至3中任一项所述的感光性聚硅氧烷 组成物涂布于元件上，再经预烤、曝光、显影及后烤后而形成。5. -种具有保护膜的元件，其特征在于，包括元件以及根据权利要求4所述的保护膜， 其中所述保护膜覆盖在所述元件上。
【专利摘要】本发明提供一种感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件。感光性聚硅氧烷组成物包括聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、含氮化合物(C)以及溶剂(D)。含氮化合物(C)包括咪唑化合物(C-1)、吡唑化合物(C-2)、三唑化合物(C-3)及四唑化合物(C-4)中的至少一者。
【IPC分类】G03F7/075, G02B1/14
【公开号】CN105717745
【申请号】CN201510903319
【发明人】黄伟杰, 施俊安
【申请人】奇美实业股份有限公司
【公开日】2016年6月29日
【申请日】2015年12月9日