光反射体的制作方法_3

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射率有时反而会降低。从该观点考虑,保护层4中的低折射率层4a和高折射率层4b的数 量优选分别为4层以下。更优选分别为3层以下,特别优选分别为2层。需要说明的是,也 可以是具备2层低折射率层4a、1层高折射率层4b这样的保护层,还可以是具备1层低折 射率层4a、2层高折射率层4b这样的保护层。
[0065] 如上所述,在光反射体10、20中,基材层1和反射层3之间设有结合层2,与基材层 1的结合层2侧的表面粗糙度相比,结合层2的反射层3侧的表面粗糙度较小。由此,能够 在结合层2的与基材层1相反一侧的表面形成平滑的反射层3。
[0066] 需要说明的是,在本实用新型的光反射体中,在基材层的与结合层相反一侧的表 面可以任意设置其它层。例如,可以设置粘接剂层而将光反射体粘接在金属板等上。
[0067] 2.光反射体的制造方法
[0068] 本实用新型的光反射体通过如上所述在基材层表面设置结合层,使基材层的表面 部平滑化。通过在这样的经过平滑化的表面上设置反射层及任选设置保护层,能够获得具 有优异的全反射率的光反射体。
[0069] 作为在基材层表面设置结合层的方法,可以列举例如下述方法:使用凹版涂布法、 逆涂法、模涂法等涂敷方法将含有构成结合层的材料及溶剂(稀释溶剂)的油墨涂布于作 为基材层的基材膜的表面,再使其干燥、固化。从能够更适当地使基材层的表面部平滑化的 观点考虑,特别优选逆涂法或模涂法。
[0070] 如上所述在基材层表面设置结合层时,优选对上述油墨的粘度进行调整。即,如果 油墨的粘度过高或过低,则有时不能获得具有足够小的表面粗糙度的结合层。根据本实用 新型发明人的见解,形成结合层时的油墨粘度优选为IOOmPa *s以上且1000 OOmPa *s以下, 其下限更优选为500mPa *s以上、特别优选为1000 mPa *s以上,其上限更优选为50000mPa *s 以下、特别优选为30000mPa*s以下。对油墨粘度进行调整时,例如可以调整上述溶剂(稀 释溶剂)的种类、配合量。作为优选的溶剂(稀释溶剂),可以列举乙酸乙酯、甲乙酮(MEK) 等。
[0071] 另外,在采用无机氧化物、硅晶片作为结合层的情况下,可以通过利用真空成膜 法、化学气相生长法等在基材层表面形成无机氧化物层的方法、在基材层表面粘贴经过了 镜面加工的无机氧化物成型体或硅晶片的方法等在基材层表面设置结合层。
[0072] 作为在结合层表面设置反射层的方法,可以列举上述的涂敷法、真空成膜法(蒸 镀法、溅射法、电子束蒸镀法等)、以及化学气相生长法,优选真空成膜法,特别优选溅射法。 通过溅射法,能够容易地形成厚度为纳米级的薄反射层。
[0073] 对于在反射层表面设置保护层的方法,可以采用上述的涂敷法、真空成膜法。
[0074] 如上所述,本实用新型的光反射体能够通过各种成膜法容易地制造。即,不需要如 以往那样对基材本身进行高平滑化处理,仅通过设置结合层就能获得具有高全反射性的光 反射体。
[0075] 3.光反射体的性能
[0076] 根据本实用新型的光反射体,作为对波长450nm以上且550nm以下的光的平均反 射率,能够实现103%以上这样的极高的反射率。需要说明的是,在本实用新型中,"反射率" 是指以用氧化铝制标准构成板校正后的反射率作为标准(100%)时的反射率,其有可能超 过 100%〇
[0077] 4.光反射体的用途
[0078] 如上所述,根据本实用新型,可以容易地得到能够满足液晶显示器的高亮度化要 求的全反射率高的光反射体。但本实用新型的光反射体的用途并不限于液晶显示器,还能 够适用于各种电子器件用显示装置。其中,从进一步突出本实用新型的效果的观点考虑,优 选应用于进一步具备能够对光反射体照射包含波长300nm以上且SOOnm以下的光的照射光 的背光的液晶显示器。
[0079] 另外,除了电子器件用显示装置以外,本实用新型的光反射体还可以作为镜子、照 明器具、照明广告板等的反射构件使用。
[0080] 5.实施例
[0081] 本实用新型不限于以下的实施例,可以在不脱离本实用新型的技术思想的范围内 进行各种应用。
[0082] 通过以下方法评价了光反射体的性能。
[0083] (1)表面粗糙度的测定
[0084] 对光反射体的基材层和结合层(包括硅晶片、玻璃)的表面测定了表面粗糙度 (算术平均粗糙度)Sa。具体而言,使用直接相位干涉型显微镜vertscan (Ryoka Systems Inc.制造)对膜实施表面观察(模式:Wave560M,观察视野:93. 97 X 71.37 μ m2),计算出算 术平均表面粗糙度Sa。
[0085] (2)反射率测定
[0086] 对于光反射体的反射率而言,使用Hitachi High Technologies公司制造的分光 光度计"UV-4000"(商品名),以用氧化铝制标准构成板校正后的反射率作为标准(100% ) 的条件下于300nm-800nm的波长范围(0. 5nm单位)测定了反射率。
[0087] (3)翘曲评价
[0088] 对于结合层涂布后的翘曲而言,测定7cmX7cm的样品四个角的翘曲的平均值,按 照下述标准进行了判断。
[0089] 〇:四个角的翘曲的平均值小于0· 5mm
[0090] X :四个角的翘曲的平均值为0· 5mm以上
[0091] 5. 1.有无结合层的效果确认
[0092] 〈实施例1>
[0093] 将电子束固化性丙烯酸类树脂(NK-500 ;新中村化学株式会社制造)和稀释溶剂 (MIBK ;Nacalai Tesque公司制造)以质量比率1:1进行混合,将树脂固体成分比率调整为 50质量%,制成树脂溶液(油墨),用棒涂器将该树脂溶液涂敷在厚度100 μ m的聚对苯二 甲酸乙二醇酯膜的一面,使其干燥、固化,形成了厚度2 μ m的结合层。利用溅射法在结合层 的表面形成作为反射层的厚度120nm的银薄膜层,从而得到了光反射体。将基材层和结合 层的表面粗糙度的结果示于下述表1,将光反射体的反射率的结果示于图4。
[0094] 〈实施例2>
[0095] 除了将结合层的厚度设为4μπι以外,与实施例1同样地得到了光反射体。将基材 层和结合层的表面粗糙度的结果示于下述表1,将光反射体的反射率的结果示于图4。
[0096] 〈参考例1>
[0097] 用溅射法在硅晶片上形成作为反射层的厚度120nm的银薄膜层,得到了光反射 体。将硅晶片的表面粗糙度的结果示于下述表1,将光反射体的反射率的结果示于图4。
[0098] 〈参考例2>
[0099] 用溅射法在玻璃上形成作为反射层的厚度120nm的银薄膜层,得到了光反射体。 将玻璃的表面粗糙度及反射层的表面粗糙度的结果示于下述表1,将光反射体的反射率的 结果不于图4。
[0100] 〈比较例1>
[0101] 用溅射法在厚度100 μπι的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的一面形成作为反射层的厚 度120nm的银薄膜层,得到了光反射体。将聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面粗糙度的结果 及反射层的表面粗
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