一种含防水层的光栅复制装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及复制光栅技术领域，具体是一种含防水层的光栅复制装置。
【背景技术】
[0002]衍射光栅是一种由密集、等间距平行刻线构成的非常重要的光学器件，它利用多缝衍射和干涉作用，将射到光栅上的光束按波长的不同进行色散，再经成像镜聚焦而形成光谱。衍射光栅性能稳定，分辨率高，角色散高而且随波长的变化小，所以在各种光谱仪器中得到广泛应用。当前使用的衍射光栅有平面的和凹面的，其表面受到十分精细、均匀的调制。调制频率的变化范围很大，对槽宽的均匀性要求非常高，刻划条件要求很严。即使是很好的刻划机，要刻划一块100 X 100mm的光栅(刻划机的刻划速度为15-25条/分)计算需要4个昼夜。为了满足生产上的需要，解决的办法是把刻划的光栅作为母光栅来进行复制。
[0003]目前光棚■复制有两种:一次复制法就是真空链膜法。二次复制法是明胶复制法。二次复制法是先复制母光栅的划痕，然后用该划痕印划在毛坯的明胶上。二次复制工艺比较繁琐，一次复制法较为常用。
[0004]目前一次法复制光栅技术采用镀铝膜复制技术，在母光栅胶层上镀一铝膜层，用粘结剂将复制光栅的基片粘到铝膜层上。在粘结剂固化后将复制光栅与母光栅分离。由于在铝膜层和粘结剂之间没有任何分离层，在粘结剂固化后将复制光栅与母光栅分离时，复制光栅容易粘附在母光栅上，造成复制光栅不合格甚至报废。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型为了克服现有技术的不足，提供一种含防水层的光栅复制装置，目的在于将母光栅和复制光栅分离，使复制光栅不粘在母光栅上，提高加工投入产出比和加工效率。
[0006]为了解决上述的技术问题，本实用新型提出的基本技术方案为:
[0007]—种含防水层的光栅复制装置，包括母光栅，所述母光栅包括母光栅基片、粘结在母光栅基片上的胶层以及镀合在胶层上的铝膜层，其特征在于，还包括用于将母光栅和复制光栅分离的防水层，所述防水层分布均匀且紧密平行地贴合在铝膜层上。
[0008]进一步的，所述母光栅可以是平面形或凹面形。
[0009]进一步的，所述母光栅的刻槽的横截面形状是锯齿形或正弦形，所述防水层为匹配刻槽的锯齿形或正弦行。
[0010]进一步的，所述母光栅的刻槽的深宽比为0.1?0.5。
[0011]进一步的，所述防水层的厚度为0.1?0.25 μ m。
[0012]进一步的，所述防水层对复制光栅的胶层的粘附力< 5N/cm2。
[0013]本实用新型的有益效果是:
[0014]通过在铝膜层与复制光栅之间增设防水层，防水层分布均匀且紧密平行地贴合在铝膜层上，既可以使复制光栅有效转印母光栅的刻槽形状，又能够使复制光栅与母光栅分离，防止复制光栅粘在母光栅上，提高加工投入产出比，节约生产成本，加工效率高。
【附图说明】
[0015]图1为本实用新型的一种含防水层的光栅复制装置的示意图；
[0016]图2为于本实用新型的一种含防水层的光栅复制装置上复制光栅的示意图。
【具体实施方式】
[0017]以下将结合附图和实施例对本实用新型做进一步的说明，但不应以此来限制本实用新型的保护范围。
[0018]为了方便说明并且理解本实用新型的技术方案，以下说明所使用的方位词均以附图所展示的方位为准。
[0019]本实用新型的一种含防水膜的光栅复制装置，包括母光栅1，母光栅1包括母光栅基片11、粘结在母光栅基片上的胶层12、镀合在胶层上的铝膜层13以及用于将母光栅1和复制光栅3分离的防水层2。
[0020]母光栅1可以是平面形或凹面形。母光栅1的刻槽14的横截面形状是锯齿形或正弦形或任意形状。于本实施例中，母光栅1的刻槽14采用锯齿形。母光栅1的刻槽14的深宽比小于0.1?0.5。刻槽14深宽比太大，刻槽14底部小，因此防水层2不能完全达到刻槽14底部，母光栅1与复制光栅3存在分离死角，分离时容易导致复制光栅3刻槽碎裂的问题。
[0021]防水层2分布均匀且紧密平行地贴合在铝膜层13上，防水层2的上表面的形状为匹配刻槽14的锯齿形，用于复制光栅3转印母光栅1的刻槽14的形状。复制光栅3在防水层2的上表面进行复制。防水层2的厚度为0.1?0.25 μ m0防水层2的厚度太低有可能造成复制光栅3破坏防水层2而和母光栅粘附，影响分离效果。防水层2的厚度太大，则不能有效转印母光栅1的刻槽14的形状，导致复制光栅3与母光栅1相似度低甚至无法使用。
[0022]防水层2对复制光栅3的胶层32的粘附力< 5N/cm2。防水层2对胶层32的粘附力小，易于防水层2与胶层32的完全分离或部分分离。即使防水层2与胶层32部分分离，也可使用物理或化学方法很容易地去除胶层32上防水层2的残留部分，例如用刀片刮除或溶剂清洗。胶层32可以是环氧树脂或聚酯树脂，但是不限于环氧树脂和聚酯树脂，也可以使用尿素树脂、酚醛树脂等耐热的热固性树脂。
[0023]本申请实用新型的工作原理:
[0024]先在真空镀膜装置内在母光栅1的铝膜层13上镀防水层2，然后将母光栅1从真空镀膜装置内取出。在母光栅1上形成防水层2并不限于此方法，可以是任何使防水层2对铝膜层2粘附达到上述实施例要求的其他方法。然后用复制光栅3的胶层32将复制光栅3的基片31粘到铝膜层13上。胶层32固化后，将复制光栅3与母光栅1分离，母光栅1的刻槽14形状被反相，刻槽14形状转移到复制光栅3的表面。在复制光栅3上镀一层铝膜，至此，完成了刻槽形状等同于母光栅1的刻槽14形状的复制光栅3的制作。
[0025]根据上述说明书的揭示和教导，本实用新型所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本实用新型并不局限于上面揭示和描述的【具体实施方式】，对本实用新型的一些修改和变更也应当落入本实用新型的权利要求的保护范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本实用新型构成任何限制。
【主权项】
1.一种含防水层的光栅复制装置，包括母光栅，所述母光栅包括母光栅基片、粘结在母光栅基片上的胶层以及镀合在胶层上的铝膜层，其特征在于，还包括用于将母光栅和复制光栅分离的防水层，所述防水层分布均匀且紧密平行地贴合在铝膜层上。2.根据权利要求1所述的一种含防水层的光栅复制装置，其特征在于，所述母光栅可以是平面形或凹面形。3.根据权利要求1所述的一种含防水层的光栅复制装置，其特征在于，所述母光栅的刻槽的横截面形状是锯齿形或正弦形，所述防水层为匹配刻槽的锯齿形或正弦行。4.根据权利要求1所述的一种含防水层的光栅复制装置，其特征在于，所述母光栅的刻槽的深宽比为0.1?0.5。5.根据权利要求1所述的一种含防水层的光栅复制装置，其特征在于，所述防水层的厚度为0.1?0.5 μ m。6.根据权利要求1所述的一种含防水层的光栅复制装置，其特征在于，所述防水层对复制光栅的胶层的粘附力< 5N/cm2。
【专利摘要】本实用新型公开一种含防水层的光栅复制装置，属于复制光栅技术领域。包括母光栅，所述母光栅包括母光栅基片、粘结在母光栅基片上的胶层以及镀合在胶层上的铝膜层，其特征在于，还包括用于将母光栅和复制光栅分离的防水层，所述防水层分布均匀且紧密平行地贴合在铝膜层上；所述母光栅可以是平面形或凹面形；所述母光栅的刻槽的横截面形状是锯齿形或正弦形，所述防水层为匹配刻槽的锯齿形或正弦行；所述母光栅的刻槽的深宽比为0.1～0.5；所述防水层的厚度为0.1～0.25μm；所述防水层对复制光栅的胶层的粘附力＜5N/cm2。本实用新型与现有技术相比，其有益效果在于将母光栅和复制光栅分离，使复制光栅不粘在母光栅上，提高加工投入产出比和加工效率。
【IPC分类】G02B5/18
【公开号】CN205003309
【申请号】CN201520654105
【发明人】林新佺
【申请人】深圳市激埃特光电有限公司
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年8月27日