专利名称：Pdp的下板及其制造方法
技术领域：
本发明涉及一种等离子显示板及其制造方法，尤其涉及一种使用玻璃粉末形成间隔肋形成层和下介电层的方法。
背景技术：
等离子体显示板(PDP)是使用等离子体放电显示图像或信息的平板显示器件。根据板结构和驱动方法，PDP通常分成DC型和AC型。此外，当由于提供在每个单元中的气体(如He、Xe等)的等离子体放电产生的紫外线激励在单元中的荧光体内衬时，PDP产生根据能量差获得的可见射线，其在恢复到接地状态时发出可见光子。
而且，PDP具有以下优点，如容易的制造工艺、简单的结构、高的亮度、高的发光效率、存储容量和大于160°的宽阔的视角。PDP也用在40+英寸宽的屏幕中。PDP通常包括上基板和相对设置的下基板、间隔肋以及由两个基板和间隔肋限定的单元。
此外，将透明电极设置在上基板上，并将总线电极设置在透明电极上，以降低透明电极的电阻。也称作数据电极的地址电极形成在下基板上。
而且，由间隔肋分开的单元用荧光剂内衬。上介电层设置在上基板上，以覆盖透明电极和总线电极，下介电层设置在下基板上以覆盖地址电极。此外，包括氧化镁的保护层例如设置在上介电层上。
存在间隔肋以保持上基板和下基板之间的放电空间，且防止相邻单元之间的电、光串扰。形成间隔肋是在制造优质PDP中的重要步骤。当板的尺寸增长得越来越大时，这尤其成立。
一般，使用喷砂处理、丝网印刷方法或者光蚀刻方法来形成间隔肋。在喷砂处理方法中，地址电极和介电层首先形成在下基板上，然后将玻璃浆涂敷于其上并将其用于形成间隔肋，随后是烧结工艺。然后，将带形掩模图案设置于其上，并通过掩模图案以高速度喷射细砂粒，由此形成间隔肋。然而，用在喷砂处理方法中的装置是昂贵的。喷砂处理方法也相对复杂，并在烧结步骤期间易于引起裂缝，这是由于将相当大的物理冲击施加到下基板。
在丝网印刷方法中，地址电极和介电层形成于下基板上，随后将带形丝网设置于其上。随后，用形成间隔肋的玻璃浆重复进行印刷，直到获得具有希望厚度的间隔肋，且之后进行烧结。然而，丝网印刷方法需要重复丝网印刷步骤以获得具有希望厚度的间隔肋，这是由于一个丝网印刷步骤是不够的。该反复性的处理使得工艺复杂。
在光蚀刻方法中，地址电极和介电层首先形成在下基板上，然后将用于形成间隔肋的浆料涂敷于其上。然后，设置带形掩模图案，然后通过掩模的开口用蚀刻剂蚀刻暴露部分来使间隔肋成形，随后烧结。然而，在光蚀刻方法中，由于浆料必须被涂敷几次以形成间隔肋的希望厚度，因此延迟了该工艺。而且，由于过蚀刻了间隔肋的侧面部分，因此难以获得在结构和机械上具有足够稳定的形状的间隔肋以保持放电空间。
因此，用于形成间隔肋的现有技术方法复杂、浪费时间并昂贵。而且，其难以形成具有希望形状和机械强度的间隔肋。
发明内容
因此，本发明的一个目的就是针对上述和其它的目的。
本发明的另一目的是提供一种具有用玻璃粉末形成的间隔肋和下介电层的PDP的下板。
为了实现这些和其它目的，如所体现和广泛描述的，在一个方面，本发明提供一种制造等离子体显示板的方法，其包括在下基板上形成下介电层，在其上形成了下介电层的基板上方设置筛网，通过筛网散布玻璃粉末，通过施加一定量的热和压力到散布的玻璃粉末来形成间隔肋形成层，和通过选择性移除间隔肋形成层来形成间隔肋。
在另一方面，本发明提供一种等离子体显示板，其包括设置在下基板上的下介电层，设置在下介电层上的烧结玻璃粉末间隔肋，和通过烧结玻璃粉末间隔肋与下基板间隔开并位于其上方的上基板，以便形成等离子体显示板。
根据以下给出的详细描述，本发明应用的进一步范围将显而易见。然而，应当理解，由于根据该详细的描述，对于本领域技术人员来讲，在本发明的精神和范围内的各种改变和修改都是显而易见的，因此，虽然详细描述和具体实例表示本发明的优选实施例，但其仅是以说明方式给出。
参考以下描述、所附的权利要求以及附图，将更好地理解本发明的这些和其它特征、方面和优点，附图中图1是根据本发明实施例的PDP的截面图；和图2a至2i是示出图1中的PDP的下基板的下介电层和间隔肋的制造工艺的截面图。
具体实施例方式
现在将详细参考本发明的实施例，其例子将在附图中说明。
首先转向图1，其是根据本发明实施例的PDP的截面图。如所示出的，PDP包括上板200和下板300。而且，上板200包括透明电极220、总线电极250、第一和第二黑色矩阵230和240、上介电层260和形成在玻璃基板210(以下，称作“上基板”)的下侧的保护层270。而且，透明电极220由透明导电材料如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)制成，以透过从放电单元产生的光。
此外，总线电极250存在于透明电极220上，以降低透明电极220的线电阻，并可由具有高电导性的银(Ag)浆制成。由此，由于总线电极250一般由具有高电导率的材料制成，因此电极250降低了具有相对低电导率的透明电极220的驱动电压。
而且，第一黑色矩阵230形成为透明电极220和总线电极250之间的非常薄的层，以允许电流在透明电极220和总线电极250之间流动，并增强了PDP的对比度。此外，第二黑色矩阵240设置在放电单元之间，以吸收在相邻放电单元之间的内部传输的光和外部光，并增强PDP的对比度。第二黑色矩阵240也用于分离或隔开放电单元。
而且，上介电层260直接接触总线电极250且可由PbO基玻璃制成，以避免与由金属材料制成的总线电极250发生化学反应。而且，上介电层260限制放电电流以保持辉光放电，并且由此，在等离子体放电时产生的电荷沉积在上介电层260上。保护层270防止上介电层260由于在等离子体放电时的溅射而被损坏，并增加次级电子(secondary electron)的放电效率。而且，保护层270可由氧化镁(MgO)制成。
如图1中所示，PDP的下板300包括玻璃基板310(以下称作“下基板”)、地址电极320、下介电层330、间隔肋340和设置在下基板310的上表面上的荧光剂层350。此外，地址电极320大致设置在每个放电单元的中心处，并可具有约70到80μm的线宽。
而且，将下介电层330设置在下基板310和地址电极320的整个表面上方，并保护地址电极320。如所示出的，间隔肋340设置在以预定间距与地址电极320隔开的下介电层330的顶部上，并将其形成为在垂直方向上更长。
而且，如图1中所示，间隔肋340具有双层结构，包括下间隔肋344和上间隔肋342。间隔肋340的截面形状也可以是矩形，其中上间隔肋342具有与下间隔肋344相同的宽度。替代地，间隔肋340的截面形状可以是梯形，其中上间隔肋342在宽度上比下间隔肋344窄。
此外，存在间隔肋340以保持放电空间，并防止在相邻放电单元之间电和光的干扰。而且，荧光剂层350形成于间隔肋340的两侧和下介电层330的上表面上。通过在等离子体放电时产生的紫外线来激励荧光剂层350，以产生红(R)、绿(G)或蓝(B)可见射线。
接下来，将描述PDP的发光机理。首先，在透明电极220和总线电极250之间的预定电压之上(在电压容限范围内)，将足以在透明电极220和总线电极250之间产生等离子体的附加电压施加到地址电极320。此外，当将电场施加到气体时，在气体中存在一定量的自由电子，且一个力(F＝q·E)加到自由电子上。
如果受力的电子获得了足以移除最外面轨道上的电子的能量(第一离子化能量)，则电子离子化了该气体，且在气体中产生的离子和电子通过电磁力移动到两个电极。尤其，当离子与保护层250相撞时产生次级电子，且次级电子有助于产生等离子体。由此，高电压产生最初放电，但是一旦开始放电，就使用较低电压，同时电子密度增加。
此外，提供在PDP单元中的气体通常是惰性气体，如Ne、Xe、He等。尤其，当Xe处于准稳态时，产生波长在约147和173nm之间的紫外线，并将其施加到荧光剂层350以发出红、绿或蓝色可见射线。而且，根据放电单元的荧光剂内衬的类型来确定从每个放电单元发出的可见射线的颜色，并且由此，每个放电单元都成为了表示红、绿或蓝颜色的子像素。
此外，每个放电单元的颜色通过从三个子像素发出的光的组合来控制，且可在产生等离子体时控制。而且，如上所述产生的可见射线通过上基板210被发射到单元的外部。
以下，将参考图2a至2i来描述下板300尤其是下介电层330和间隔肋340的制造工艺。在图2a中，可通过溅射、离子电镀、化学沉积、电沉积等将地址电极320形成在下基板310上，然后在下基板310上方设置筛网400。
随后，通过筛网400散布下介电层形成玻璃粉末330a。在此，仅将移除了杂质元素的下介电层形成玻璃粉末330a散布到下介电层330上。然后，如图2b中所示，压具410将特定压力和热施加到玻璃粉末330a，以形成下介电层330，如图2c中所示。
然后，如图2d中所示，将筛网400设置在下介电层330上方，并通过筛网的上部散布第一玻璃粉末344a。第一玻璃粉末344a由用于形成下间隔肋344的材料构成。相似地，将移除了杂质元素的第一玻璃粉末344a散布在下介电层330上。
随后，如图2e中所示，压具410将一定压力和热施加到第一玻璃粉末344a，由此形成下间隔肋形成层344b。接下来，如图2f中所示，将筛网400设置在下间隔肋形成层344b上方，通过筛网400散布第二玻璃粉末342a。第二玻璃粉末342a由形成上间隔肋342b的材料构成，且仅将移除了杂质元素的第二玻璃粉末342a散布在下间隔肋形成层344b上。
随后，如图2g中所示，压具410将一定量压力和热施加到第二玻璃粉末342a，由此形成上间隔肋形成层342b。然后，如图2h中所示，将其中具有开口的掩模420设置在下基板310上，该下基板310包括下间隔肋形成层344b和上间隔肋形成层342b。掩模420在与将形成间隔肋340之处对应的区域之外的区域中具有开口。
而且，用蚀刻剂处理其上设置了掩模420的下基板310，以蚀刻在对应于掩模420的开口的区域中的下间隔肋形成层344b和上间隔肋形成层342b，由此使间隔肋340成形，以包括上间隔肋部分342和下间隔肋部分344。
此外，在蚀刻工艺中，下间隔肋形成层344b具有比上间隔肋形成层342b高的蚀刻率。由此，在这种条件下，通过侧蚀刻较少损伤上间隔肋形成层342b，同时蚀刻了下间隔肋形成层344b。因此，如图2i中所示，获得了结构和机械稳定的矩形或梯形截面形状的间隔肋340。此外，一旦形成间隔肋340，就进行例如烧结工艺。
如上所述，在PDP下基板的制造方法中，不使用浆料组合物或生片材(green sheet)。而是，使用玻璃粉末，如PbO基玻璃粉末、ZnO基玻璃粉末或其混合物，来形成下介电层330和间隔肋340。优选地，玻璃粉末是PbO-B2O3-SiO2基玻璃粉末、PbO-B2O3-SiO2X-Al2O3基玻璃粉末、ZnO-B2O3-SiO2基玻璃粉末、PbO-ZnO-B2O3-SiO2基玻璃粉末、B2O3-SiO2基玻璃粉末或其混合物。随后，将荧光剂材料散布到通过间隔肋340限定的单元内部，以形成荧光剂层350。此外，下介电层330或间隔肋340也可通过使用玻璃粉末来形成。
由此，由于间隔肋340和下介电层330通过使用玻璃粉末来形成，因此制造下基板的工艺简单，且制造成本较便宜。间隔肋也具有结构和机械上足够稳定的形状，以保持放电空间，这是由于在间隔肋的上和下部之间的蚀刻率相互不同，以防止侧蚀刻带来的间隔肋损伤。
由于可以以几种形式体现本发明而不脱离其精神或实质特性，因此也应当理解，上述实施例不受前面描述的任一细节所限制，除非另有说明，而是应当将其广泛地解释为在如在所附权利要求中所限定的精神和范围内，并且因此，落在权利要求的边界和范围内或者这种边界和范围的等价物内的各种变化和修改意指被所附的权利要求所包括。
权利要求
1.一种制造等离子体显示板的方法，包括在下基板上形成下介电层；在其上形成了下介电层的下基板上方设置筛网；通过筛网散布玻璃粉末；通过将一定量的热和压力施加到散布的玻璃粉末来形成间隔肋形成层；和通过选择性地移除间隔肋形成层来形成间隔肋。
2.根据权利要求1的方法，还包括烧结所述间隔肋。
3.根据权利要求1的方法，其中形成间隔肋形成层包括使用第一玻璃粉末形成下间隔肋形成层；和使用第二玻璃粉末在下间隔肋形成层上形成上间隔肋形成层。
4.根据权利要求3的方法，其中形成下间隔肋形成层包括在其上形成了下介电层的下基板上方设置筛网；通过筛网散布第一玻璃粉末；和将一定量的热和压力施加到散布的第一玻璃粉末。
5.根据权利要求3的方法，其中形成上间隔肋形成层包括在下间隔肋形成层上方设置筛网；通过筛网散布第二玻璃粉末；和将一定量的热和压力施加到散布的第二玻璃粉末上。
6.根据权利要求3的方法，其中，在形成间隔肋中，下间隔肋形成层的蚀刻率高于上间隔肋形成层的蚀刻率。
7.根据权利要求1的方法，其中形成间隔肋包括在间隔肋形成层的表面上设置具有开口的掩模，其中该开口暴露出间隔肋形成层的部分；和通过掩模的开口蚀刻暴露的部分。
8.根据权利要求1的方法，其中形成介电层包括在其上形成了地址电极的基板上方设置筛网；通过筛网散布用于介电层的另一玻璃粉末；将一定量的热和压力施加到散布的玻璃粉末上以形成介电层。
9.根据权利要求1的方法，其中所述玻璃粉末是PbO-B2O3-SiO2基玻璃粉末、PbO-B2O3-SiO2-Al2O3基玻璃粉末、ZnO-B2O3-SiO2基玻璃粉末、PbO-ZnO-B2O3-SiO2基玻璃粉末、B2O3-SiO2基玻璃粉末或其混合物。
10.根据权利要求1的方法，还包括在下基板上形成多个地址电极；在间隔肋之间的下介电层上形成荧光剂层；在上基板上形成透明电极和总线电极；在上基板上形成上介电层；在上介电层上方形成保护层；和在下基板上方设置上基板，以形成等离子体显示板。
11.一种等离子体显示板，包括设置在下基板上的下介电层；设置在下介电层上的烧结玻璃粉末间隔肋；和通过烧结玻璃粉末间隔肋与下基板相间隔并位于其上方的上基板，以形成等离子体显示板。
12.根据权利要求11的等离子体显示板，其中所述烧结玻璃粉末间隔肋包括加热和加压的第一玻璃粉末下间隔肋形成层；和在下间隔肋形成层上的加热和加压的第二玻璃粉末上间隔肋形成层。
13.根据权利要求12的等离子体显示板，其中下间隔肋形成层的蚀刻率高于上间隔肋形成层的蚀刻率。
14.根据权利要求13的等离子体显示板，其中所述间隔肋包括蚀刻的侧表面。
15.根据权利要求11的等离子体显示板，其中介电层包括加热和加压的用于介电层的另一玻璃粉末。
16.根据权利要求11的等离子体显示板，其中玻璃粉末是PbO-B2O3-SiO2基玻璃粉末、PbO-B2O3-SiO2-Al2O3基玻璃粉末、ZnO-B2O3-SiO2基玻璃粉末、PbO-ZnO-B2O3-SiO2基玻璃粉末、B2O3-SiO2基玻璃粉末或其混合物。
17.根据权利要求11的等离子体显示板，还包括在下基板上的多个地址电极；在间隔肋之间的下介电层上的荧光剂层；在上基板上的透明电极和总线电极；在上基板上的上介电层；和在上介电层上方的保护层。
全文摘要
一种制造等离子体显示板的方法，其包括在下基板上形成下介电层，在其上形成了下介电层的基板上方设置筛网，通过筛网散布玻璃粉末，通过施加一定量的热和压力到散布的玻璃粉末上来形成间隔肋形成层，和通过选择性地移除间隔肋形成层来形成间隔肋。
文档编号H01J11/26GK1963977SQ20061012888
公开日2007年5月16日 申请日期2006年8月31日 优先权日2005年11月7日
发明者金龙浩, 金仁喆 申请人:Lg电子株式会社