连续式烧成炉的制作方法

文档序号:2928954阅读:399来源:国知局
专利名称:连续式烧成炉的制作方法
技术领域
本发明涉及一种对等离子显示面板(PDP, plasma display panel) 用玻璃基 一反等处理对象连续地进行均热(soaking)处理、退火 (annealing)处理以及冷却(cooling)处理的连续式烧成炉。
背景技术
连续式烧成炉在炉内具有加热室和退火室,在炉外具有冷却室。 从加热室、经退火室到冷却室的区间,配置有连续拍《运处理对象的 搬运机构。现有技术中的连续式烧成炉,例如以等间隔地配置多个 辊子的辊道炉床(roller hearth)作为搬运机构。多个辊子的两端部均从炉和冷却室的侧壁上的贯通孔露到外部, 其露到外部的 一 侧端部被供给驱动力而发生旋转。作为处理对象的 玻璃基板,通过多个辊子的旋转以载置于薄板状托架上的状态被搬运。作为一例,玻璃基板在加热室内被搬运期间,被升温至500 ~ 600 。C并被保持规定的时间后(均热处理),在退火室内被搬运期间,被降 温至350 45(TC左右(退火处理),在冷却室内被才般运期间,被迅速 冷却到可取出的温度(冷却处理)(例如,参照日本发明专利公开公报 特开2003 - 148869)。此外,冷却室具有水冷散热片式冷却器、风机 过滤单元(以下,称作FFU(fan filter unit))。水冷散热片式冷却器冷却 处理对象。FFU确保处理对象通过区域的洁净度。然而,现有技术中的连续式烧成炉的冷却室具有的水冷散热片式 冷却器和FFU按各自的用途而分开设置,不能互相协助发挥作用。 此外,现有技术中的冷却室不具有排气机构,而是使导入冷却室内 的冷却空气在与冷却室内的空气、玻璃基板进行热交换后,分别从在冷却室的侧壁上形成的供辊子用的多个贯通孔排出到外部。从FFU经多个导入用通道局部地将外部气体导入到冷却室内,此时,存在导入用通道附近玻璃基板上仅一部分被急速冷却而导致局部产 生翘曲或变形的情况。发明内容本发明的目的在于提供一种连续式烧成炉,其在冷却室内设置有 排气通道,可通过控制导入到冷却室内的冷却空气的流^^,高效地 冷却玻璃基板等处理对象的整个表面,不会在处理对象上产生局部 的翘曲或变形,可在短时间内实现冷却处理。本发明的连续式烧成炉采用如下结构,即,在将加热后的处理对 象沿规定搬运方向搬入的冷却室内,在其同一个内壁面上具有导入 通道和排气通道。导入通道在与搬运方向垂直的方向的整个区域均 匀地喷出冷却气体。排气通道在与搬运方向垂直的方向的整个区域 均匀地排出气体。导入通道与排气通道沿着搬运线路配置。在该结构中,在冷却室内,在与搬运方向垂直的炉宽方向的整个 区域,均勻地形成沿着处理对象的搬运线路的冷却气体的流路。冷 却气体与冷却室内所朝i运的处理对象的整个表面均匀地接触,使处 理对象的整个表面均匀地冷却。在该结构中,可将排气通道配置在导入通道的沿搬运方向的上游 侧。这样,可使处理对象与冷却气体高效地接触,可提高冷却效率。此外,导入通道可朝向排气通道的方向喷出冷却气体。这样,可此外,导入通道和排气通道可配置于冷却室的上侧的内壁面上。 这样,在辊道炉床式的连续式烧成炉中,对于载置于托架上的搬运 处理对象,使冷却气体与其上表面接触来高效地对其冷却。采用本发明,在冷却室内,在炉宽方向的整个区域,可均匀地形 成沿处理对象的搬运线路的冷却气体的流路。可使冷却气体与在冷 却室内搬运的处理对象的整个表面均匀地接触,可均匀地冷却处理对象的整个表面。由此,不会使处理对象产生局部的翘曲或变形, 可短时间内实现冷却处理。


图1是表示本发明实施方式的连续式烧成炉的一例的侧剖视图。 图2是上述连续式烧成炉的冷却室的侧剖视图。图3中,(A)是图2中A-A位置的剖视图,(B)是图2中B-B 位置的剖视图。
具体实施方式
以下,参照附图详细地说明本发明的具体实施方式
。图1是表示 本发明实施方式的连续式烧成炉的 一 个例子的侧剖视图。连续式烧 成炉10,在炉11内沿着搬运方向X具有第1加热室12、第2加热 室13和退火室14,并在位于退火室14的沿搬运方向X的下游侧的 炉11的外面具有冷却室15。第1加热室12、第2加热室13、退火 室14、冷却室15内,沿着冲般运方向X等间隔地配置有多个可转动 的辊子16。第1加热室12进行第1升温处理和第1均热处理,例如将处理 对象加热至350°C ~ 400°C,维持该状态20分钟。第2加热室13进 行第2升温处理和第2均热处理,例如将处理对象加热至600°C,维 持该状态30分钟。退火室14进行退火处理,例如用40分钟将处理 对象冷却至400。C。冷却室15进行冷却处理,例如用大约50分钟将 处理对象冷却至常温。穿过炉11和冷却室15侧壁的多个寿昆子16的两端部一皮/人外部回 转支承。多个辊子16在一端被供给驱动力而旋转,沿着搬运方向X 搬运由托架200的上表面承载的玻璃基板等处理对象100。图2是上述连续式烧成炉的冷却室的侧剖视图。图3中,(A)是 图2中A-A处的剖;f见图,(B)是图2中B-B处的剖-现图。冷却室 15具有导入通道1和排气通道2。导入通道1和排气通道2,例如在冷却室15的上侧的内壁面15A上开口。在冷却室15的上壁配置有未图示的水冷套,在上侧的内壁面 15A突出设置多个水冷散热片15B。作为水冷套的一例,采用流通 冷却水的铜管在绕成线圈状的状态下由导热水泥(cement)埋设于 不锈钢制(SUS)的隔焰炉内。水冷散热片15B以长度方向平行于 搬运方向X的方式配置,促进冷却室15内的空气与水冷套内的冷却 水进4于热交才灸。图2所示的例子中,具有多对导入通道1和排气通道2。在各对 导入通道1和排气通道2中,例如排气通道2配置于导入通道1的 沿拍i运方向X的上游侧。导入通道1具有过滤器17和风向板18。导入通道1供给来自未 图示的高压洁净空气、洁净干燥空气(CDA, clean dry air)或者鼓风机 的空气。过滤器17除去通向下方的空气中的尘埃。风向板18使来 自导入通道1的空气的喷出方向朝向搬运方向X的上游侧。供给至导入通道l的空气,经过滤器17除去尘埃后,在冷却室 15内向搬运方向X的上游侧喷出。导入通道1在冷却室15内与搬 运方向X垂直的炉宽方向Y的大致整个区域上开口 ,并在炉宽方向 Y的大致整个区域均匀地喷出空气。排气通道2具有风扇21。风扇21将冷却室15内的空气经排气 通道2排出至外部。排气通道2在冷却室15内炉宽方向Y的大致整 个区域上开口 ,将冷却室15内的空气沿炉宽方向Y的大致整个区域 均匀地排出。从导入通道1所喷出的空气,沿着处理对象100的上表面向拍殳运 方向X的上游侧流动。排气通道2主要将处理对象100的上方的空 气排出至外部。由此,从导入通道1喷出的空气,沿着处理对象100的上表面向 才般运方向X的上游侧流动,其大部分在与处理对象100热交换后, ^皮排气通道2排出至外部。在处理对象100的上方,从^般运方向X 的下游侧向上游侧,在炉宽方向Y的大致整个区域均匀地形成冷却气体的流路。在导入通道1和排气通道2开口的内壁面15A上突出设置有水 冷散热片15B,从导入通道1导入的空气的流路与水冷散热片15B 的长度方向平行。导入的空气,在流过处理对象100的上方时被水 冷散热片15B冷却,在由排气通道2排出之前的时间里持续与处理 对象100进行热交换。导入通道1和排气通道2与水冷散热片15B 共同作用,高效地冷却处理对象100。在冷却室15内,处理对象100的整个上表面,皮冷却气体均匀地 冷却。由此,不会使处理对象100产生翘曲或变形,可以短时间内 冷却处理对象100。由于冷却气体向与处理对象100的^般运方向相反的方向流动,因 此,可在冷却气体与处理对象100之间,从整体上有效地进行热交 换,可通过冷却气体对处理对象100高效地进4亍冷却。即便是不将处理对象100承载在托架200上而直接用辊子16进 行搬运的无托架式的连续式烧成炉,也同样适用本发明。此外,导入通道1与排气通道2间的在纟般运方向X上的间隔, 可根据处理对象100的长度、冷却室15的长度等适当地设定。未必 一定要设置多对导入通道1和排气通道2。冷却室15内配置导入通道1和排气通道2的表面,并不限于上 侧的内壁面15A,只要导入通道1及排气通道2满足在同一个表面 上,亦可将它们配置于其它表面上。然而,若考虑到与水冷散热片 15B的共同作用,和对于在辊子16上搬运的处理对象100的冷却效 率,则将导入通道1和排气通道2配置在上侧的内壁面15A上是最 有效的。此外,应该i人为上述实施方式的说明中,所有方面均为例示,并 非为限定的内容。本发明的保护范围,并非由上述实施方式表示, 而是以权利要求书为依据。此外,本发明的保护范围应当嚢括与权 利要求书等同的意思和范围内的所有变化。
权利要求
1.一种连续式烧成炉,其具有加热后的处理对象被沿着规定搬运方向送入的冷却室,其特征在于,上述冷却室在同一个内壁面上沿上述搬运方向所在线路具有在与上述搬运方向垂直的方向的整个区域均匀地喷出冷却气体的导入通道,以及将上述冷却室内的气体在与上述搬运方向垂直的方向的整个区域均匀地排出的排气通道。
2. 如权利要求1所述的连续式烧成炉,其中, 上述排气通道配置于上述导入通道的沿上述搬运方向的上游侧。
3. 如权利要求2所述的连续式烧成炉,其中, 上述导入通道在上述冷却室内朝上述排气通道的方向喷出冷却气体。
4. 如权利要求1所述的连续式烧成炉,其中, 上述导入通道在上述冷却室内朝上述排气通道的方向喷出冷却气体。
5. 如权利要求1至4的任意一项所述的连续式烧成炉,其中, 上述导入通道和上述排气通道位于上述冷却室的上侧的内壁面。
全文摘要
本发明提供一种连续式烧成炉。该连续式烧成炉可对玻璃基板等处理对象的整个外表面高效地进行冷却,不在处理对象上产生局部翘曲或变形,减少冷却处理时间。在连续式烧成炉(10)的冷却室(15)设有导入通道(1)和排气通道(2)。导入通道和排气通道在冷却室的上侧的内壁面(15A)上在炉宽方向(Y)的大致整个区域开口。导入通道以朝向搬运方向(X)的上游侧的方式喷出空气。排气通道在导入通道的沿搬运方向(X)的上游侧,排出冷却室内的空气。在辊子(16)上搬运的处理对象(100)的上方,在炉宽方向(Y)的大致整个区域均匀地形成有冷却的外部气体的流路。处理对象的整个上表面与空气均匀地接触。
文档编号H01J11/22GK101265021SQ20071018760
公开日2008年9月17日 申请日期2007年11月19日 优先权日2007年3月15日
发明者山本章仁 申请人:光洋热系统株式会社
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