专利名称：曝光机光源装置的制作方法
技术领域：
本实用新型与曝光机有关，旨在提供曝光机一种可以相对缩减设备体积，以及降 低设备维护成本的光源装置。
背景技术：
一般印刷电路板或半导体芯片在进行曝光显影制程时，先在被加工物表面上涂上 一层光阻，再藉由光源的照射将原稿上的电路布线图案映像至被加工物表面的光阻层上， 以使光阻层的化学性质因光源的照射而产生变化，然后再利用去光阻剂来将被光源照射过 的光阻或未经曝光的光阻自被加工物表面去除，以形成对应于原稿的线路布局。其中，习知用以执行曝光显影加工制程的曝光机基本结构大致如图1所示，主要 具有一曝光室11，以及一可相对进出曝光室11的受照台面12，该曝光室11内部进一步包 括有一灯泡111、一集光器112、一第一反射镜113(冷光镜)、一光学积光器114(复眼， fry - eye)、一第二反射镜115 (第二反射镜)。主要由集光器112限制该灯泡111的光源照射方向及范围，使成为第一光源，再 由第一反射镜113 (冷光镜)，改变该第一光源的照射角度为第二光源，再透过光学积光器 114(复眼，fry — eye)让第二光源的光线均勻化，而形成第三光源，最后由第二反射镜 115(第二反射镜)改变该第三光源的照射角度使成为朝向受照台面12移动行程投射的曝 光光源。类似习用曝光机的光源装置因为采用单一灯泡111为主要的光源，因此必需使用 售价较为昂贵的灯泡111(如汞氙短弧灯泡)；以及，必需透过较复杂的光学反射机制，方得 以形成大面积的曝光光源，如此将必需利用较多的反射空间，而使其曝光室11的体积更趋 庞大。再者，类似习用曝光机在进行曝光作业时，该受光台面12连同被加工物及原稿进 入曝光室11至定位之后，一般必须在曝光室11内部停留一段时间(约3 5秒不等)使 被加工物接受曝光光源的照射，待完成曝光的后再由受光台面12将被加工物依循先前进 入曝光室11的路径反向退出曝光室11。因此，为避免大瓦数的灯泡111常时间运作而产生高温，其多在侦测到受光台面 12进入曝光室11时，方启动灯泡111运作，并且在受光台面12开始退出曝光室11即将灯 泡111关闭，如此该灯泡111更会因为反复开关的频率增加而降低其使用寿命，不但会因此 增加灯泡的更换频率，无形的中生产成本亦相对增加。
实用新型内容本实用新型所解决的技术问题即在提供曝光机一种可以相对缩减设备体积，以及 降低设备维护成本的光源装置。本实用新型的技术方案为一种曝光机光源装置，包括有一组壳罩、一光源模 块、一凸透镜、一第一反射镜，以及一第二反射镜；其中该壳罩具有一出光口 ；该光源模
3块，相对安装于该组壳罩内部；该凸透镜，相对设于该组壳罩内部的光源模块出光处，用以 接收来自该光源模块的光线，并将来自该光源模块的光线转呈朝向该第一反射镜方向投射 的第一光源；该第一反射镜，相对设于该组壳罩内部，用以接收来自该凸透镜的第一光源， 并将来自该凸透镜的第一光源转呈朝向该第二反射镜方向投射的第二光源；该第二反射 镜，相对设于该组壳罩内部，用以接收来自第一反射镜的第二光源，并将来自该第一反射镜 的第二光源转呈朝向该组壳罩的出光口方向投射的曝光光源。本实用新型的阴影效果为本实用新型的光源装置在一组壳罩内部装设有一光 源模块、一凸透镜、一第一反射镜，以及一第二反射镜；主要由凸透镜接收来自该光源模块 的光线，以产生朝向第一反射镜方向投射的第一光源，由第一反射镜将来自凸透镜的第一 光源转呈朝向第二反射镜投射的第二光源，最后由第二反射镜将来自第一反射镜的第二光 源转呈朝向壳罩的出光口方向投射的曝光光源。据以，不但可以大幅缩减整体光源装置的组成构件，相对缩减设备体积，更可减少 光源于壳罩内部的反射次数，提高光源装置的出光效率；尤其，光源模块运作时所产生的温 度相对较低，使得以配合执行连续曝光作业，而不致于会有反复开关的频率增加而降低其 使用寿命之虞，故相对能够降低设备的维护成本。
图1为一习用曝光机的光源装置结构剖视图。图2为本实用新型一较佳实施例的曝光机光源装置外观结构图。图3为本实用新型的曝光机光源装置结构剖视图。图4为本实用新型的曝光机光源装置另一使用配置状态结构剖视图。图5为本实用新型第二实施例的传统曝光机光源装置平面结构图。图号说明11曝光室111 灯泡112集光器113第一反射镜114光学积光器115第二反射镜20 壳罩21 出光口22保护片30光源模块31调整座40凸透镜50第一反射镜60第二反射镜71横向线性滑轨72纵向线性滑轨[0034]73垂直升降滑座74受照台面81 机壳82曝光室83曝光平台。
具体实施方式
如图2本实用新型的曝光机光源装置外观结构图及图3本实用新型的曝光机结构 剖视图所示，本实用新型的曝光机光源装置包括有一组壳罩20、一光源模块30、一凸透镜 40、一第一反射镜50，以及一第二反射镜60 ；其中该壳罩20具有一出光口 21，该出光口 21处可进一步盖设有一保护片22，达到防 尘防水的功效，整体壳罩20可直接固设于曝光机的机台上，或如图所示装设于曝光机的横 向线性滑轨71上，使该壳罩20得以沿着该横向线性滑轨71相对与该横向线性滑轨71下 方的受照台面74水平横向位移。该光源模块30相对安装于该组壳罩20内部，其可以由预定数量的发光二极管组 件或紫外光(UV)光源所组成，主要利用各发光二极管组件的光电作用产生执行曝光显影 制程的光源，该光源模块30可透过一调整座31安装于该组壳罩20内部，使得以透过该调 整座31调整该光源模块30相对位置的方式进行对焦。该凸透镜40相对设于该组壳罩20内部的光源模块30出光处，主要用以接收来自 该光源模块30的光线，并将来自该光源模块30的光线转呈朝向该第一反射镜50方向投射 的第一光源。该第一反射镜50相对设于该组壳罩20内部，主要用以接收来自该凸透镜40的第 一光源，并将来自该凸透镜40的第一光源转呈朝向该第二反射镜60方向投射的第二光源， 该第一反射镜50可以为波型阵列反射镜或柱面反射镜。该第二反射镜60相对设于该组壳罩20内部，主要用以接收来自第一反射镜50的 第二光源，并将来自该第一反射镜50的第二光源转呈朝向该组壳罩20的出光口 21方向投 射的曝光光源。本实用新型的曝光机光源装置于使用时，即利用壳罩20的出光口 21射出的曝光 光源照射于该受照台面74上，而对放置在该受照台面74上的被加工物执行曝光显影制程； 又，该壳罩20并可沿着该横向线性滑轨71相对与该受照台面74水平横向位移，以改变曝 光光源的照射位置；以及该壳罩20可透过一垂直升降滑座73装设于横向线性滑轨71上， 使得以调整该壳罩20的高度，进而调整曝光光源与该受照台面74(被加工物)的相对距 罔。再者，该横向线性滑轨71可进一步跨设于曝光机的一对纵向线性滑轨72上，该对 纵向线性滑轨72呈平行状态分别配设在该曝光机的两个相对应侧，使该壳罩20及该横向 线性滑轨71得以沿着纵向线性滑轨72相对该与受照台面74水平纵向位移，使该壳罩20 得以相对与该受照台面74水平横向及水平纵向位移。而可利用该组壳罩20的平横向及水 平纵向位移路径编辑，达到对放置于该受照台面74上的被加工物执行连续曝光显影制程 的目的。[0047]藉由上述结构设计，本实用新型的曝光机光源装置不但可以大幅缩减整体光源装 置的组成构件，相对缩减设备体积，更可减少光源于壳罩内部的反射次数，提高光源装置的 出光效率。甚至可如图4所示，将两座各别由一壳罩20、一光源模块30、一凸透镜40、一第 一反射镜50，以及一第二反射镜60的光源装置分别安装于受照台面74的正反两面的位置， 以同时对受照台面74上的被加工物正反面执行连续曝光显影制程。尤其，各光源装置的光源模块40运作时所产生的温度相对较低，使得以配合执行 连续曝光作业，而不致于会有反复开关的频率增加而降低其使用寿命的虞，故相对能够降 低设备的维护成本，甚至可藉以提升曝光显影制程的加工产能。再者，本实用新型的光源装置亦可应用于其它形式的曝光机中，如图5所示，其主 要具有一由机壳81构成的曝光室82，以及设有一可相对进出曝光室82的曝光平台83，而 且光源装置的壳罩20则设于该曝光室82内部相对应于曝光平台83的上方及下方位置，且 使该出光口 21朝向曝光平台83处，利用本实用新型的光源模块40对曝光平台83上的被 加工物执行连续曝光显影制程。
权利要求一种曝光机光源装置，其特征在于，包括有一组壳罩、一光源模块、一凸透镜、一第一反射镜，以及一第二反射镜；其中该壳罩具有一出光口；该光源模块，相对安装于该组壳罩内部；该凸透镜，相对设于该组壳罩内部的光源模块出光处，用以接收来自该光源模块的光线，并将来自该光源模块的光线转呈朝向该第一反射镜方向投射的第一光源；该第一反射镜，相对设于该组壳罩内部，用以接收来自该凸透镜的第一光源，并将来自该凸透镜的第一光源转呈朝向该第二反射镜方向投射的第二光源；该第二反射镜，相对设于该组壳罩内部，用以接收来自第一反射镜的第二光源，并将来自该第一反射镜的第二光源转呈朝向该组壳罩的出光口方向投射的曝光光源。
2.如权利要求1所述的曝光机光源装置，其特征在于，该光源模块透过一调整座安装 于该组壳罩内部。
3.如权利要求1或2所述的曝光机光源装置，其特征在于，该曝光机设有横向线性滑轨 以及一对平行状态配置的纵向线性滑轨，该组壳罩装设于该横向线性滑轨上，该横向线性 滑轨跨设于该对纵向线性滑轨上。
4.如权利要求1或2所述的曝光机光源装置，其特征在于，该曝光机设有横向线性滑 轨，而该组壳罩透过一垂直升降滑座装设于该横向线性滑轨上，该横向线性滑轨跨设于该 曝光机的一对纵向线性滑轨上。
5.如权利要求1所述的曝光机光源装置，其特征在于，该曝光机设有一曝光室，而该组 壳罩装设于该曝光机的曝光室中，该曝光机并设有一可相对进出该曝光室的曝光平台，而 且光源装置的壳罩则设于该曝光室内部相对应于曝光平台的上方及下方位置，且该出光口 朝向曝光平台处。
6.如权利要求1、2或5所述的曝光机光源装置，其特征在于，该出光口处盖设有一保护片。
7.如权利要求1、2或5所述的曝光机光源装置，其特征在于，该第一反射镜为波型阵列 反射镜或柱面反射镜。
8.如权利要求1、2或5所述的曝光机光源装置，其特征在于，该光源模块由若干发光二 极管组件所组成。
9.如权利要求1、2或5所述的曝光机光源装置，其特征在于，该光源模块由若干紫外光 光源所组成。
专利摘要本实用新型曝光机光源装置，主要提供曝光机一种可以相对缩减设备体积，以及降低设备维护成本的光源装置；整体光源装置在一组壳罩内部装设有一光源模块、一凸透镜、一第一反射镜，以及一第二反射镜；藉以大幅缩减整体光源装置的组成构件，减少光源于壳罩内部的反射次数，提高光源装置的出光效率；尤其，可配合执行连续曝光作业，并能够降低设备的维护成本。
文档编号F21V13/04GK201765435SQ20102050413
公开日2011年3月16日 申请日期2010年8月25日 优先权日2010年8月25日
发明者徐福润 申请人:景兴精密机械有限公司