一体式喷嘴的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种一体式喷嘴，一体式喷嘴，包括喷嘴本体，喷嘴本体的一端设有涡流环安装孔，喷嘴本体的另一端设有等离子气喷射孔道，喷嘴本体上还设有等离子气压缩孔道，该等离子气压缩孔道位于涡流环安装孔与等离子气喷射孔道之间，并且等离子气压缩孔道与涡流环安装孔和等离子气喷射孔道相互连通，所述喷嘴本体的外圆周面上设有水冷却的环槽，该水冷却的环槽位于喷嘴本体的等离子气压缩孔道段的外圆周面上。本实用新型具有制造成本低、使用寿命长的特点。
【专利说明】一体式喷嘴
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及等离子切割【技术领域】，具体涉及用于等离子电极上的一体式喷嘴。
【背景技术】
[0002]等离子切割喷嘴是切割枪的主要消耗部件之一，它的寿命的长短直接关系到切割质量和生产效率。现有技术的等离子切割装置在加工和使用中存在的不足是体积大，成本高，冷却效果差，影响设备的使用寿命，还有安装使用不方便等因素，因而影响等离子切割技术在切割机器人【技术领域】的广泛应用。
【发明内容】
[0003]针对上述技术问题，本实用新型提供一体式喷嘴，本实用新型具有制造成本低、使用寿命长的特点。
[0004]解决上述技术问题的技术方案如下:
[0005]一体式喷嘴，包括喷嘴本体，喷嘴本体的一端设有涡流环安装孔，喷嘴本体的另一端设有等离子气喷射孔道，喷嘴本体上还设有等离子气压缩孔道，该等离子气压缩孔道位于涡流环安装孔与等离子气喷射孔道之间，并且等离子气压缩孔与涡流环安装孔和等离子气喷射孔道相互连通，所述喷嘴本体的外圆周面上设有水冷却的环槽，该水冷却的环槽位于喷嘴本体的等离子气压缩孔道段的外圆周面上。
[0006]所述喷嘴本体的外圆周面上设有第一环槽、第二环槽以及第三环槽，第一环槽位于喷嘴本体的涡流环安装孔段的外圆周面上，第二环槽以及第三环槽位于喷嘴本体的等离子气压缩孔道段的外圆周面上，并且，水冷却的环槽位于第二环槽以及第三环槽之间，第一环槽、第二环槽以及第三环槽中均装有密封圈。
[0007]所述喷嘴本体的外圆周面上设有保护气通道，该保护气通道位于喷嘴本体的等离子气喷射孔道段的外圆周面上。
[0008]所述水冷却的环槽的截面呈V形。
[0009]采用了上述方案，本实用新型的喷嘴本体为通过铜棒机加工得到的整体的零件，铸造的喷嘴本体机加工是在其外表面得到装配密封圈、水冷却的环槽以及保护气通道，在其内表面加工是得到涡流环安装孔、离子气压缩孔道以及等离子气喷射孔道，因此，本实用新型具有成本低，制造方便的特点。另外，由于本实用新型具有水冷却的结构，因此工作时采用水进行冷却，具有散热效果以及使用寿命长的特点。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型作进一步详细的说明。
[0011]图1为本实用新型钎焊式等离子电极的结构示意图；
[0012]附图中，I为喷嘴本体，2为涡流环安装孔，3为等离子气喷射孔道，4为等离子气压缩孔道，5为水冷却的环槽，6为密封圈，7为保护气通道。
【具体实施方式】
[0013]参照图1，本实用新型的一体式喷嘴，包括喷嘴本体1，喷嘴本体I的一端设有涡流环安装孔2，喷嘴本体I的另一端设有等离子气喷射孔道3，喷嘴本体2上还设有等离子气压缩孔道4，该等离子气压缩孔道4位于涡流环安装孔2与等离子气喷射孔道3之间，并且等离子气压缩孔道4与涡流环安装孔2和等离子气喷射孔道3相互连通。等离子气喷射孔道4由圆柱孔道和圆锥孔道组成，其中圆柱孔道一端与涡流环安装孔连通，另一端与圆锥孔衔接，圆锥孔的另一端与等离子气喷射孔道3连通。所述喷嘴本体I的外圆周面上设有水冷却的环槽5，该水冷却的环槽位于喷嘴本体的等离子气压缩孔道4段的外圆周面上，水冷却的环槽5的截面呈V形。喷嘴本体的外圆周面上设有第一环槽、第二环槽以及第三环槽，第一环槽位于喷嘴本体的涡流环安装孔段的外圆周面上，第一环槽、第二环槽以及第三环槽中均装有密封圈6。第二环槽以及第三环槽位于喷嘴本体的等离子气压缩孔道段的外圆周面上，并且，水冷却的环槽位于第二环槽以及第三环槽之间。所述喷嘴本体的外圆周面上设有保护气通道7，该保护气通道位于喷嘴本体的等离子气喷射孔道3段的外圆周面上。
[0014]本实用新型与等离子切割电极配合使用，使用时，在涡流安装孔2内安装涡流环，将等离子切割电极的一端穿过涡流环伸入到等离子气压缩孔道3的圆柱孔中，，将一个固定罩罩在喷嘴本体I上并与喷嘴本体I固定为一体，在喷嘴本体I与固定罩之间通过水冷却的环槽5形成水冷却通道，通过保护气通道7形成保护气体流道。工件切割时，涡流气通过涡流环进入等离子气压缩孔道4，等离子切割电极发射电子被涡流气体从离子气喷射孔道3吹出来，形成压缩的等离子弧，高热的等离子弧接触工件使工件融化，完成切割。
【权利要求】
1.一体式喷嘴，其特征在于:包括喷嘴本体，喷嘴本体的一端设有涡流环安装孔，喷嘴本体的另一端设有等离子气喷射孔道，喷嘴本体上还设有等离子气压缩孔道，该等离子气压缩孔道位于涡流环安装孔与等离子气喷射孔道之间，并且等离子气压缩孔道与涡流环安装孔和等离子气喷射孔道相互连通，所述喷嘴本体的外圆周面上设有水冷却的环槽，该水冷却的环槽位于喷嘴本体的等离子气压缩孔道段的外圆周面上。
2.根据权利要求1所述的一体式喷嘴，其特征在于:所述喷嘴本体的外圆周面上设有第一环槽、第二环槽以及第三环槽，第一环槽位于喷嘴本体的涡流环安装孔段的外圆周面上，第二环槽以及第三环槽位于喷嘴本体的等离子气压缩孔道段的外圆周面上，并且，水冷却的环槽位于第二环槽以及第三环槽之间，第一环槽、第二环槽以及第三环槽中均装有密封圈。
3.根据权利要求1所述的一体式喷嘴，其特征在于:所述喷嘴本体的外圆周面上设有保护气通道，该保护气通道位于喷嘴本体的等离子气喷射孔道段的外圆周面上。
4.根据权利要求1所述的一体式喷嘴，其特征在于:所述水冷却的环槽的截面呈V形。
【文档编号】B23K10/00GK203471129SQ201320515325
【公开日】2014年3月12日 申请日期:2013年8月22日 优先权日:2013年8月22日
【发明者】戴万良, 李文琦, 毛亮, 付静, 王新霞, 朱丽 申请人:常州特尔玛枪嘴有限公司