一种FTO薄膜表面选择性一步制备波纹结构的方法与流程

文档序号:11073469阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种FTO薄膜表面选择性一步制备波纹结构的方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1、FTO薄膜的预处理:取大小为2.0cm×2.0cm FTO薄膜,依次用去离子水、丙酮和乙醇浸泡样品在超声机中清洗20分钟,再用高纯氮气吹干,最后烘干,备用;

步骤2、铜网辅助激光辐照FTO薄膜:将铜网放置于FTO薄膜正上方,再采用激光对铜网表面进行辐照处理,在FTO薄膜上得到波纹结构。

2.根据权利要求1所述的一种FTO薄膜表面选择性一步制备波纹结构的方法,其特征在于,步骤1中,所述铜网为冲压式圆孔铜网,圆孔直径为80μm。

3.根据权利要求1或2所述的一种FTO薄膜表面选择性一步制备波纹结构的方法,其特征在于,步骤2中,所述铜网辅助激光辐照FTO薄膜的步骤如下:

步骤A、将铜网放置在FTO薄膜正上方,调整铜网位置,控制铜网与FTO薄膜表面距离为0~1mm,使铜网表面位于激光器发出的激光束的焦点后,对铜网表面进行激光辐照处理;

步骤B、使用超短脉冲激光器作为输出激光的仪器,调整超短脉冲激光器的输出,控制激光能量密度为1.5~2.0J/cm2,扫描速度为5~10mm/s;

步骤C、根据选用的激光能量确定激光束的扫描线宽,以此来设定激光束的扫描路径,具体为:激光束作单向逐线扫描,通过设定线间距来控制相邻两线相互交叠,扫描线重叠率控制在60~80%;

步骤D、根据设定的激光束扫描路径控制激光束运动,使激光束垂直于铜网表面进行扫描。

4.根据权利要求3所述的一种FTO薄膜表面选择性一步制备波纹结构的方法,其特征在于,步骤A中,所述铜网与FTO薄膜表面距离为0~1mm。

5.根据权利要求3所述的一种FTO薄膜表面选择性一步制备波纹结构的方法,其特征在于,步骤B中,所述超短脉冲激光器的波长为532nm,脉冲宽度为1~2ns。

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