技术总结
本实用新型实施例提供了一种光学元件激光预处理系统，属于光学材料激光预处理领域。所述光学元件激光预处理系统包括激光光源、第一反射装置及第二反射装置。第一反射装置的反射面与第二反射装置的反射面相互平行，待处理样品设置在第一反射装置的反射面与第二反射装置的反射面之间。第一反射装置与第二反射装置组成反射腔，激光光源发出的激光光束进入反射腔后，经反射腔多次反射后对待处理样品的多个预设处理点进行辐照，用以对待处理样品进行预处理。本实用新型实施例提供的光学元件激光预处理系统有效地提高了光学元件的激光预处理效率，降低了光学元件激光预处理的成本。
技术研发人员：王凤蕊;刘红婕;耿锋;蒋晓东;黄进;李青芝;叶鑫;孙来喜;周晓燕
受保护的技术使用者：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
文档号码：201620345540
技术研发日：2016.04.21
技术公布日：2017.06.06