一种多工位平板吸附治具的制作方法

1.本实用新型涉及一种治具，特别涉及一种多工位平板吸附治具。


背景技术：

2.现代机加工工序中，针对光滑平板固定加工，常采用的方式包括：板面夹持、侧推、抽真空吸附等。其中，针对电子产品的外壳加工，由于其针对平面度，表面光洁度要求较高，一般不采用机械夹持或压紧的方式固定，最常见的固定方式是采用抽真空吸附的方式。因此，此类具备真空吸附能力治具的设计结构好坏，就成为了平板状产品加工质量的关键因素。
3.现有抽真空吸附治具受限于结构设计，存在吸附力分布不均，吸附不稳的情况，进而在加工过程中产品会颤动，从而产生震动纹，减低产品的良品率。同时，现有的治具单次固定工件数量少，加工效率并不理想，且所需动力单元较多，治具成本也较高，可扩展或升级能力较弱。
4.中国专利cn210209570u公开了一种笔记本外壳曲面加工用吸附治具；由上至下依次包括治具主体、承载台和底座，承载台与底座之间设有与抽真空装置连接的储气箱，储气箱上方与承载台连接；治具主体中部设有真空吸附区，真空吸附区设有若干个第一通气孔，承载台设有真空吸附凹槽，真空吸附凹槽设有若干个第二通气孔、承载台支撑柱，真空吸附区、真空吸附凹槽通过第一孔、第二通气孔与储气箱连通，储气箱通过抽气孔与抽真空装置连接。上述技术方案提供了一种改进思路，通过增加储气箱，再与各通气孔连通，实现了吸附力均布的效果，防止吸力不均导致的部件或产品局部变形，也增强了整体固定的稳定性，但是在其支撑位置采用了多孔结构，使其支撑板强度下降，长时间使用容易产生变形，影响产品的平面度。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的是为了解决上述技术的不足，提供一种吸附力分布均匀，结构简单且稳定，不易变形的多工位平板吸附治具。
6.为此，本实用新型提供一种多工位平板吸附治具，包括平台、治具主体；所述平台上设置有至少一个治具主体；
7.所述治具主体为平板状结构，上表面设有至少两个真空吸附区，每个所述真空吸附区内设有多条吸附槽，所述吸附槽的槽底设有至少一个通孔；每个所述真空吸附区的边缘处还设有多个挡块；
8.所述吸附槽包括第一吸附槽、第二吸附槽；所述第一吸附槽呈多层嵌套的回形结构，分布于所述真空吸附区内；所述第二吸附槽呈十字形结构，分布于所述真空吸附区内；所述通孔设置于所述第一吸附槽与所述第二吸附槽交叉处；
9.所述平台上设有多个真空吸附槽，所述真空吸附槽为方型的下沉结构；每个所述真空吸附槽在垂直方向上对应至少一个所述真空吸附区；所述真空吸附槽内设有多个支撑
柱，所述支撑柱的顶面与所述治具主体的下表面接触；所述真空吸附槽的槽底还设有抽气孔，所述抽气孔通过所述平台下方设置的快速接头与抽气装置连接。
10.优选的，所述真空吸附区的边界处还设有第一密封槽，所述第一密封槽内安装有密封圈；所述挡块位于所述密封槽的外侧。
11.优选的，所述支撑柱的顶面加工有连通槽，用于避让所述通孔。
12.优选的，所述挡块包括第一挡块和第二挡块；所述第一挡块的截面呈凸多边形或凸圆弧结构；所述第二挡块的截面呈凹多边形或凹圆弧结构；所述第一挡块与所述第二挡块对向设置。
13.优选的，所述平台与所述治具主体之间设有定位结构。
14.优选的，所述定位结构包括定位凸台和定位孔；所述定位凸台设置于所述平台的上表面；所述定位孔设置于所述治具主体的下表面。
15.优选的，所述定位凸台为锥台结构，所述定位孔为锥孔结构。
16.优选的，所述真空吸附槽的外圈还设有第二密封槽，所述第二密封槽内安装有密封圈。
17.本实用新型提供一种治具，有如下有益效果：
18.1、通过多工位设计，并结合合理化布局，提升了空间利用率，降低了治具成本的同时还增加了加工效率。
19.2、通过增加的真空吸附槽，使各吸附点位连通，实现吸力的均布，提升固定的稳定性，减少抽气装置的连接接头及管路数量；进一步，采取吸附槽、通气孔结合支撑柱的结构设计，保持了结构强度，使其长时间使用不会变形，保证产品具备良好的平面度。
附图说明
20.图1为本实用新型治具结构立体图；
21.图2为本实用新型治具主视图；
22.图3为本实用新型平台结构立体图；
23.图4为本实用新型治具主体立体图；
24.图5为本实用新型治具主体后视图；
25.图6为本实用新型治具主体俯视图；
26.图7为本实用新型挡块侧视图；
27.图8为本实用新型定位结构局部剖视图；
28.图中标记：1.平台，2.治具主体，3.支腿，4.快速接头，101.第二密封槽，102.支撑柱，103.连通槽，104.真空吸附槽，105.定位凸台，106.螺纹孔，201.支撑板，202.吸附槽，203.挡块，204.定位孔，205.通孔，206.真空吸附区，207.第一密封槽，208.上挡块区，209.下挡块区，2031.第一挡块，2032.第二挡块。
具体实施方式
29.下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，以助于理解本实用新型的内容。本实用新型中所使用的方法如无特殊规定，均为常规的方法；所使用的原料和装置，如无特殊规定，均为常规的市售产品。
30.如图1、2所示，一种多工位平板吸附治具，包括平台1、治具主体2。其中，平台1下部的两侧还分别安装有两组支腿3，通过侧边的螺栓与其固定连接，这样可以在面对不同加工高度要求时，通过更换支腿3完成快速调整。每个平台1上并列设置有两个治具主体2。
31.结合图4-6所示，治具主体2为平板状结构，具体为支撑板201，上表面并列设有三个真空吸附区206(图6中标识的虚线框内)，这样，每个平台1对应设有6个加工穴位，可同时加工6件产品。
32.每个真空吸附区206内设有多条吸附槽202，并在吸附槽202的槽底设有至少一个通孔205。吸附槽202包括第一吸附槽、第二吸附槽；第一吸附槽呈多层嵌套的回形结构，分布于真空吸附区内；具体如图中所示，为多圈回字形连通槽等距分布，并考虑避让工件定位结构，在边角处进行弯曲设置，绕开工件的定位结构。第二吸附槽则呈十字形结构，分布于真空吸附区内，并将通孔205设置于第一吸附槽与第二吸附槽交叉处，具体如图5(支撑板201背面)所示，这样一方面通过各吸附槽202将吸附区连通，保持吸力一致，增加吸附面积，同时减少开孔数量，保持较好的结构强度。
33.每个真空吸附区的边缘处还设有多个挡块203；优选的，如图7所示，挡块203包括第一挡块2031和第二挡块2032。其中，第一挡块2031的截面为凸多边形，设计的坡面用于引导待加工平板工件滑落入真空吸附区206中。第二挡块2032的截面呈凹多边形，具体为倒置的l型，用于固定待加工平板。分布方式参考图6所示，第一挡块2031分布于上挡块区208(图6中标识的虚线框内)，第二挡块2032分布于下挡块区209(图6中标识的虚线框内)，使第一挡块2031与第二挡块2032对向设置，当放置待加工平板工件时，参考图6中阅读方向，可从上挡块区208斜向下滑至下挡块区209，并将两边卡入第二挡块2032中。优选的，在真空吸附区206的边界处还设有第一密封槽207，第一密封槽207内安装有密封圈，且挡块203位于密封槽207的外侧。
34.如图3所示，本实施例中，平台1上设有6个真空吸附槽104，真空吸附槽104为方型的下沉结构。每个真空吸附槽104在垂直方向上对应一个真空吸附区206，真空吸附槽104通过通孔205与真空吸附区206中的吸附槽202连通。为了防止支撑板201长时间使用后翘曲变形，设计在每个真空吸附槽104内安装两个支撑柱102，支撑柱102的顶面与支撑板201的下表面接触。真空吸附槽104的槽底还设有抽气孔，抽气孔通过平台下方设置的快速接头4与外部设置的抽气装置连接。优选的，支撑柱102的顶面与通孔205存在干涉的情况，为了实现避位，在其顶面加工有连通槽103，保证支撑柱102不会堵塞通孔205。优选的，为了增加真空吸附槽104的密封性能，保持较大的吸力，在真空吸附槽104的外圈(平台1的上表面)设有第二密封槽101，并在第二密封槽101内安装有密封圈。
35.优选的，平台1与治具主体2之间设有定位结构。结合图3-5所示，定位结构包括定位凸台105和定位孔204。其中，定位凸台105设置于平台1的上表面，对应的定位孔204设置于支撑板201的下表面，具体可加工为通孔形式。进一步，为了增加定位的精度，如图8所示，设计定位凸台105为锥台结构，定位孔204为锥孔结构，这样配合后，在通过螺栓穿过支撑板201，安装入平台1上的螺纹孔106中，拧紧以完成治具主体2的固定。
36.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“左”、“右”、“上”、“下”、“顶”、“底”、“前”、“后”、“内”、“外”、“背”、“中间”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件
必须具备特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
37.惟以上所述者，仅为本实用新型的具体实施例而已，当不能以此限定本实用新型实施的范围，故其等同组件的置换，或依本实用新型专利保护范围所作的等同变化与修改，皆应仍属本实用新型权利要求书涵盖之范畴。