专利名称：表面平滑部件的制作方法
技术领域：
本发明涉及电极部件、放射线滤片等的表面平滑部件，特别是，涉及一种具有传热性好、导电率高的平滑表面的功能部位的表面平滑部件。
表面平滑部件通常用于因滑动或接触而易受损伤的部位。这些损伤是因摩擦和发热而导致的损伤。为此，作为用于表面平滑部件的坯料常使用硬质、导热性高的材料。
机械的旋转部分(例如，VTR的旋转磁头组件)上设有用于轴向支承旋转部分的推力的轴承，例如，由高碳铬轴承钢、铁或铜系的烧结含油坯材制的推力轴承(表面平滑零件之一例)。特别是，为实现高精度的旋转性能，在旋转头的推力轴承上使用了流体静压轴承。推力轴承由，例如在转轴的上端形成的密纹及人字纹的凸缘所构成(特公昭59—45845号)。在转轴与旋转头之间密封有润滑液体的这种轴承上，由于旋转时构成向心轴承的螺旋槽和构成推力轴承的密纹及人字纹之间产生压力，使旋转头在径向及推力方向上得到精密的支承。
另一方面，作为空调器的压缩机，已知有涡卷式的压缩机。该压缩机包括一由将一对涡卷体作互为偏心的组合而形成的固定涡卷体及摆动涡卷体；使摆动涡卷体作倒转的主轴；支承主轴和摆动涡卷体的轴承架。该压缩机以马达驱动摆动涡卷件作公转，使摆动涡卷体和固定涡卷体之间形成的压缩腔室的容积发生变化，压缩，排放气体。为了轴向支承所述主轴及摆动涡卷体，还设置了止推轴承及多个径向轴承。
另外，等离子蚀刻装置上的电极也是一种表面平滑部件。反应性等离子体蚀刻装置上的结构是将一对上下平行设置的电极置于真空室内而构成的。将试样置于一个电极处，旋加高频电压于置有试样的电极侧旁。该电极中，采用了如硬质氧化铝膜等的表面平滑材料。在该等离子蚀刻装置上，由电子与离子移动部分的差和有效电极面积之差，使置有试样的电极成为负电位，等离子区中的电位则因电子扩散而稍为带正。其结果，在试样上面形成几乎仅由离子和中性粒子形成的阴极电压降域，活性离子垂直入射于试样。而且，在试样上部的阴极电压降域被加速的离子垂直入射于试样时，即由于物理的溅射效果而产生蚀刻。
表面平滑部件也用于等离子弧焊机的焊炬的喷嘴部件的前端。例如，在喷嘴部件前端涂复一层平滑的陶瓷，或在喷嘴部件的内侧面及前部端面上配设高熔点金属层。这是为了防止由于发生双弧而过度消耗喷嘴部件。
具有蓝宝石及铍等平滑面的表面平滑部件用作真空装置中的光学孔。该光学孔用于观察仪器在真空中的运转，或用于导入X射线或激光，以测定、控制仪器的微小动作。
如上所述，配备具有平滑表面的功能部的表面平滑部件被用于装置的各种部件中。
为获得如上所述的表面平滑部件，就须对坯料作切削加工，在切削加工之后再作研磨加工。这样的机械加工对表面平滑部件来说，是将其表面加工成平滑表面的重要工序。其结果，表面平滑部件的加工费用增加。
另一方面，使用上述平滑坯材的表面平滑部件，在因磨损或损伤而发生变形时，必须替换。替换时，须折开装置，取出部件，装上新的部件，操作很繁杂。为此，有必要谋求延长表面平滑部件的寿命和替换周期。
本发明的目的是，减少表面平滑部件的加工成本。
本发明的另一目的是，设法使表面平滑部件的使用寿命延长。
本发明有关的表面平滑部件包括具有光滑表面的功能部和将该功能部支承于装置上的支承部，所述功能部为具有高取向性的石墨材料制，平行于石墨取向的一面用作平滑表面。
石墨的锁定特性最好在20度以下。
功能部也可以是支承转轴的轴承部件。
功能部也可以是使移动件滑动的滑动部件。
功能部也可以是等离子体装置的电极部件。
功能部也可以是焊炬的喷嘴部分。
功能部也可以是设于真空装置或真空容器中的光学窗(孔)部分，或是内置辐射线、尤其是X射线等的传感器的光学窗部分。
用于上述场合的、具高取向性的石墨，其结构最好是经焙烧多张高分子树脂薄膜所得、且平滑表面可剥离的层状结构。
表面平滑部件可以是将粉末化的石墨和溶剂或粘结剂、金属、无机、有机粘结剂掺合而成的组合物，该粉未化石墨系将具有高取向性的石墨粉碎成高偏平状粉末而成。
在本发明的表面平滑部件中，其由支承部分支承于装置上的功能部由具高取向性的石墨材料组成，将平行于其取向方向的一面用作平滑表面。这里，由于功能部具有平滑表面，无需机械加工即可得到平滑面，可以减低加工成本。
当石墨的锁定特性在20度以下时，其取向性更高，其表面平滑性提高。
当功能部为支承转轴的轴承部件时，可减低轴承部件的加工成本。
当功能部为使移动件滑动的滑动部件时，可减低滑动部件的加工成本。
当功能部为等离子装置的电极部件时，可减低电极部件的加工成本。
当功能部为焊炬的喷嘴部件时，可减低喷嘴部件的加工成本。
当功能部为设于真空装置或真空容器中的光学部件或内置辐射线、尤其是X射线等的传感器的光学窗部件时，可减低光学窗部件的加工成本。
当具有高取向性的石墨结构为将多张高分子树脂薄膜焙烧而得、且所述平滑表面为可剥离的层状时，可以通过在磨损或破损时剥离表面层而不作部件替换以获得新的平滑表面，延长部件的使用寿命。
当表面平滑部件是将粉末化石墨和溶剂或粘结剂、金属、无机、有机粘结剂掺合而成的组合物，且其中的粉末化石墨系通过将有高取向性的石墨粉碎成高扁平状的粉末而成时，可以低成本制得任意形状的成形物。实施例1
图1中，采用了本发明的一个实施例的VTR的磁带行走机构1具有用于供磁带信号再生、录像用的旋转磁头部2。旋转磁头部2作倾斜设置。在旋转磁头部2的行走方向上游一侧，按如下顺序，分别设置有用于消去图像信号的全幅消像磁头3、用于防止磁带纵向振动的机械阻抗辊4、用于将磁带斜向卷装于旋转磁头部2上的一对磁带导杆5，6。
在旋转磁头部2的磁带行走方向下游一侧，设置有用于将倾斜地卷装于旋转磁头部2上的磁带返回原处的一对磁带导杆7、8，一对抹音磁头9及声音调节磁头10，用于使磁带稳定行走的主导轴11及紧带轮12。
这里，卷装于磁带给盘13上的磁带在录像时，其图象数据因全幅消像磁头而被消去，图像数据由旋转磁头部2记录下来，并被卷取磁带盘4卷取。又，再生时，可将用旋转磁头部2储存于磁带上的图像数据再生。
旋转磁头部2包括下盒盖20，竖设于下盒盖20上的中心轴21，固定于下盒盖20上的下部圆筒体22，可旋转自如地支承于中心轴21上的上部圆筒体23，安装于上部圆筒体23上的磁头24。上部圆筒体23通过转动套管25可转动自如地支承于中心轴21。转动套筒25上，固定有旋转侧旋转变压器26，在下部圆筒体22上固定有图象侧旋转变压器21。旋转变压器26、27无接触地将磁头24的信号从旋转侧输送到固定侧。
在下盒体20内，配置有直接驱动马达30。直接驱动马达30包括固定于下盒体20上的定子31，和通过旋转侧旋转变压器26固定于旋转套筒25上的旋转磁铁32。
在中心轴21上，有隔着间隔形成于上下的、作为一种非正圆轴承的螺纹轴承33和34。在中心轴31的上端，形成有大直径的轴端护环35。在轴端护环35的中心部位，形成有构成止推轴承的密纹36。轴端护环(突缘)35的设置是用于防止旋转套筒25通过磁性流体发生推力方向的移动，另一方面，构成止推轴承之一部分的上盖28径密封圈29连接在旋转套筒25的上部。在中心轴21和旋转套筒25之间封装有磁性流体作为润滑油。在旋转套筒25的下端开口部设有用于防止磁性流体泄漏的磁密封口37。
这里，上盖28通过磁性流体与形成于轴端突缘35的中心部的密纹部分36接触，防止了旋转套筒25在推力方向的移动。因此，上盖8用具有高取向性的石墨制造。该石墨，系将如聚酰亚胺等的高分子树脂在3000℃左右的高温下焙烧制成，其结晶取向均匀地位于面发向上，且具有可层状剥离的表面。因此，由于随时间延长而劣化的上盖28正对密纹部分36的一面磨损时，卸去上盖28，剥离去磨损表面，即可露出新的平滑面。从而，材料弹性率高，部件替换周期也延长，可延长部件使用寿命。
另外，也可不用高取向性石墨材料来形成整个上盖，而是仅在正对于密纹部分36的部分上使用高取向性石墨。又，在35的下面，也可对置地将环状的石墨材料固接于旋转套筒25上。
又，轴承45、46等的径向轴承，也可从将具有高取向性的石墨粉碎成高度扁平状的粉末，再将该粉末化的石墨与溶剂或接合剂、金属、无机或有机粘结剂掺合而成的组合物制得。这时，可制造出无损于润滑性的小型的、轻的轴承。实施例2在实施例2中，说明将具有平滑面的高取向性石墨材料用于作为表面平滑部件的涡管压缩机的止推轴承的滑动部位时的情况。
图3中，涡卷式压缩机40包括将由渐开线状体组成的一对涡卷体形成作互为偏心的组合而形成压缩室的固定涡卷体41及摆动涡卷体42。摆动涡卷体42由涡卷体轴承44作转动自如的支承，所述涡卷体轴承固定于形成于主轴43上端部的大口径部分43a的偏心孔43b内。另外，摆动涡卷体42籍十字头连轴节(图中未示)而防止了自转，仅可作公转。其结果。摆动涡卷体42随着主轴43的转动，相对于固定涡卷体41作公转运动。
主轴43由马达51转动，其上部由设置于大直径部分45的外周侧的轴承45作转动自如的支承，其下部由设置于主轴43中段的轴承46作转动自如的支承。上述轴承45、46固定于固定架48上，固定架48又固定于盒体47上。摆动涡卷体42的下面由固定于固定架48上端的止推轴承49作轴向支承。该止推轴承49系将高取向性石墨材料加工成环状而成。主轴43的大直径部分43a和小直径部分之间的阶差由固定于固定架48的中间上端面上的止推轴承50作轴向支承。该止推轴承50同样也是由将高取向性石墨材料加工成环状而成。
下面，就实施例2的动作作一说明。
马达51转动，主轴43转动，摆动涡卷体42开始公转。同时，固定涡卷体41静止，摆动涡卷体42因是以相对于固定涡卷体41偏移180°的位移相的状态作组合，它不作自转，仅以固定涡卷体41为中心作公转。如图4(a)～(d)所示，作0°、90°、180°、270°的运动。而且，摆动涡卷体42和固定涡卷体41之间的压缩室随上述运动而渐次减少容积，封于其内的气体被压缩，从设于固定涡卷体41中心部位的排放孔排出。
在上述的公转中，摆动涡卷体42的下面由止推轴承49支承。该止推轴承49由高取向性的石墨材料构成，其表面硬且平滑，所以可延长轴承的使用寿命。又因石墨材料具有自身润滑性，因此可减少或免去润滑处理。同样，止推轴承50也可延长使用寿命并免去润滑。这些轴承49、50在发生磨损时，也可通过将磨损的表面层剥离，而获得新的平滑表面。
实施例3在实施例3中，就具有平滑面的高取向性石墨材料作为表面平滑部件用于等离子蚀刻装置的电极的例子作一说明。
图5中，等离子蚀刻装置55包括处理槽60、上、下平行地设置于处理槽60内的上电极61及下电极62。上电极61如图6所示，是将二块直径不同的高取向性石墨圆板贴合而成，包括大直径部分61a及与该大直径部分61a同心的小直径部分61b。在小直径部分61b的下面，用激光加工方法开有纵横向的0.3mm直径的小孔68。在下电极62上，由静电吸附等方法保持着例如垫片之类的被加工物65。在下电极65之周围设有用于使电场集中于被加工物65上的电极覆盖材料64。下电极65连接于高频电源66，从该电源施加高频电压。另外，上电极61接地。在处理槽60内连接有气体管道67，氟气由此导入。另外，没有必要将整个电极作成石墨制，在其表面形成具有高取向性的石墨层即可。
下面，就上述实施例3的动作作一说明。
在该等离子蚀刻装置60中，当在下电极62上施加高频时，则由于电子和离子的移动之差和有效电极面积之差，使下电极62成负电位。另一方面，等离子区中的电位因电子的扩散而稍带正。其结果，在被加工物65上面形成几乎仅由离子和中性物种组成的阴极电压降域，活性离子垂直入射于被加工物65上。当离子垂直入射于被加工物65上时，由于物理的溅射效应，发生蚀刻。
此时，被加工物65受蚀刻而溅散，溅飞物易附着于上电极61及下电极62上，上电极61因是用高取向性石墨材料制的，其表面光滑，故难附着溅散物。其结果，可防止被加工物65因溅飞物的附着被污染。又，在发生溅飞物附着或坏损的场合时，剥去表面层即可得到新的平滑面。因此，用简单的操作即可延长电极的更换周期，使其使用寿命延长。实施例4在实施例4中，就具有平滑面的高取向性石墨材料作为表面平滑部件用于焊炬的喷嘴部件的场合作一说明。
图7中，等离子弧焊用的焊炬(枪)70包括加工用电极71，和设置于电极71的周围的、等离子用喷孔部件72。在喷孔(嘴)部件72之前端，形成用于喷出等离子粒的喷孔73。其下方固附着由高取向性石墨材料组成的保护层74。高取向性石墨的表面可沿其取向作层状剥离。该保护层74用于防止喷孔部件72因焊接时的冲击力而散落。又，该保护层也可防止飞溅物粘附于其前端。
在上述焊接用焊炬(枪)中，在加工前，供电至电极71和喷孔部件72，使发生所谓的辅助电弧(パイロツトア—ク)。其后，加工时，供电至电极71和被加工物(图中未示)之间，使在电极71和被加工物之间发生主电弧(メインア—ク)。又，在辅助电弧发生之前后，将适当的工作气体供至电极71和喷孔部件72之间，由该工作气体将狭窄的主电弧从喷孔部件72的喷孔73喷射至被加工物，进行等离子弧焊接加工。
在如上的加工中，可能在喷孔部件72和电极71之间，及在喷孔部件72和被加工物之间发生不测的电弧，即所谓的双弧。该双弧的发生使喷孔部件72产生过度的消耗。
为对付上述情况，设置了由高取向性石墨材料组成的保护层74。又因保护层74表面平滑，飞溅物难以附着。再有，保护层74即使磨损，也不必更换喷孔部件72。这是由于，保护层74表面可以剥离，仅剥去其表面层即可生成新的平滑表面。其结果，若增大保护层厚度，则以此简单操作便可延长喷孔部件72的更换周期，延长了焊炬的使用寿命。实施例5在实施例5中，具有平滑面的高取向性石墨材料作为表面平滑部件用于真空容器的光学窗。
光学窗81包括不锈钢合金制的法兰部件82、底部以焊接连接于该凸缘部件82内侧的不锈钢合金制的套筒83、插入于套筒83的前端部，由高取向性石墨材料组成的圆片状窗孔材料84，窗孔材料84由钴等的钎焊材料焊接于套筒83上，密封容器内部。
法兰部件82通过铜制的垫圈86连接于不锈钢合金制的真空容器主体85上。
上述窗孔材料84因具有高取向性和平滑面，不会漫反射X线或激光，容易透过。另外，其耐热性也好，在其外侧或内侧而受到损伤时，只须剥离表面层即可露出新的平滑面。其结果，可延长光学窗的更换周期，延长使用寿命。实施例6在显示实施例6的图11及图12中，作为荧光X射线分析装置的气体封闭型X射线检测器90包括带底的圆筒状壳体91、设于壳体91前面的、具高取向性石墨制的X射线窗92、卡紧X射线窗的垫圈93。又，在上述检测装置的内部空间94中，封入Ne、Ar、Kn、Xe等气体，同时，在其上下配置有检测用芯线95。芯线95上连接有信号端子96。这样构成的X射线检测器90可用不同的灵敏度分析因封入的气体不同而产生的不同元素的X射线。这里，由于X射线窗92为高取向性的石墨，比起铍来，检测面积可增大，敏感度可提高。
用于本发明的表面平滑部件的高取向性石墨材料，只要其中结晶取向一致地排列于面方向上，且其锁定特性在20度以下即可，该类石墨材料可举出有用烃类气体以CVD法使碳原子层积于基片上后退火所得的材料，及将高分子化合物薄膜石墨化而得的材料。其中，使用将高分子化合物薄膜石墨化的材料可得到平滑表面而优先选用，这里所测的锁定特性，为用理学电机公司制的口—タフレツクスRu—200B型X射线衍射装置，石墨(0002)线的峰值位置处为锁定特性。
作为上述高分子化合物，可具体选自各种聚噁二唑(POD)、聚苯并噻唑(PBT)，聚苯并联噻唑(PBBT)聚苯并噁唑(PBO)、聚苯并联噁唑(PBBO)、各种聚酰亚胺(PI)、各种聚酰胺(PA)、聚亚苯基苯并咪唑(PBI)、聚亚苯基苯并联咪型(PPBI)、聚噻唑(PT)对聚苯亚乙烯基(ポリパラフェニレンピニレン)(PPV)中的至少一种。
作为上述的各种聚噁二唑，有对聚苯-1，3，4-噁二唑及其异构体。
上述各种聚酰亚胺包括以下述通式(1)表示的芳香族聚酰亚胺。 其中R1＝ R2＝ 上述各种聚酰胺包括以下述通式(2)表示的芳香族聚酰胺。 本发明中可用的聚酰亚胺、聚酰胺并不限于上述结构。
对上述高分子化合物薄膜作石墨化加工的焙烧条件并无特别限制，当焙烧温度达2000℃以上，更好地达3000℃左右的温度区域时，可得到取向性更好的优异石墨材料，因而优选被采用。焙烧通常在惰性气体中进行。焙烧时，为将处理气氛作成加压气氛，以抑止在石墨化过程中发生的气体的影响，高分子化合物薄膜厚度最好在100μm以上。焙烧时的压力依薄膜厚度不同而异，但通常以0.1～50Kg/cm2的压力为理想。当最高温度不到2000℃进行焙烧时，所制得的石墨易变硬变脆。此时，焙烧后，也可以再按需要作压延处理。所述高分子化合物薄膜的石墨化加工可由下述石墨化过程加以进行将高分子化合物薄膜截成适当大小，将截下的薄膜层积成约1000块后，放入焙烧炉，升温至3000℃进行石墨化。烧成后，也可按需要再作压延处理。
如上所制得的高取向性石墨材料可以是薄膜状、薄片状及板状中之任一种形态。例如，焙烧芳香族聚酰亚胺得到的高取向性石墨材料，其比重为2.25(Al为2.67)，其在AB面方向上的导热率为860千卡/m·h·℃(是Cu的2.5倍，Al的4.4倍)，其在AB面方向上的导电率为250,000s/cm，其在AB面方向的弹性率为84,300Kgf/mm2。
在使用薄膜状的高取向性石墨材料时，作为原料的高分子化合物的薄膜厚度最好在400μm以下的范围，更好地，在5～200μm的范围。当原料薄膜的厚度超过400微米的，在热处理过程中，易从薄膜内部产生气体，使薄膜成松软溃散状，难以单独用作优良的石墨材料。
然而，溃散状态的石墨如和已知的所谓特氟隆的聚四氟乙烯的氟树脂做成复合物，则仍可能用作石墨材料。
又，对上述的高取向性石墨材料作鳞片粉末化处理，将该粉末化的石墨材料与铝等的金属粘结剂、无机粘结剂、有机粘结剂或氟树脂等的高分子树脂作成复合材料，也可用于冷却装置20和密封壳体14及各种轴承。在上述场合，石墨和高分子树脂的比率(重量比)，宜为石墨高分子树脂＝50∶1～2∶1的范围。挤出成形该复合材料，则如图9及图10所示，碳结晶87在垂直于该复合材料从挤出机88内挤出方向的方向上取向，该方向的弹性率变高。又，通过涂敷复合材料，也同样可使取向集中于涂敷方向上。
本发明的功能部并限于上述实施例，还可用于以具高取向性的石墨材料制的、使用了具平滑面的石墨材料的所有转动件的轴承部件、移动件的滑动部件、等离子装置的电极部件、焊炬(枪)的喷咀部件及真空容器的光学窗等。
在本发明有关的表面平滑部件中，其由支承部支承于装置上的功能部由具高取向性的石墨材料制造，该功能部的和石墨结晶取向方向平行的面用作平滑表面。这样，因功能部具有平滑表面，可不经机械加工而得到平滑面，降低了加工成本。
当石墨的锁定特性在20度以下时，其取向性更高，其表面平滑性提高。
当功能部为支承转轴的轴承部件时，可减低轴承部件的加工成本。
当功能部为使移动件滑动的滑动部件时，可减低滑动部件的加工成本。
当功能部为等离子装置的电极部件时，可减低电极部件的加工成本。
当功能部为焊炬的喷嘴部件时，可减低喷嘴部件的加工成本。
当功能部为设于真空装置或真空容器中的光学部件或内置辐射线、尤其是X射线等的传感器的光学窗部件时，可减低光学窗部件的加工成本。
当具有高取向性的石墨结构为由多张高分子树脂薄膜焙烧而得、且所述平滑表面为可剥离的层状时，可以通过在磨损或破损时剥离表面层而不作部件替换以获得新的平滑表面，延长部件的使用寿命。
当表面平滑部件是将粉末化石墨和溶剂或粘结剂、金属、无机、有机粘结剂掺合而成的组合物，且其中的粉末化石墨系通过将有高取向性的石墨粉碎成高扁平状的粉末而成时，可以低成本制得任意形状的成形物。
图1为采用了本发明的一个实施例的VTR磁带行走机构的斜视示意图。
图2为图1中VTR的旋转磁头部的纵截面图。
图3为采用了本发明的实施例2的涡卷式压缩器的纵向截面图。
图4为显示图3中涡卷式压缩器的压缩动作示意图。
图5为采用了本发明的实施例3的等离子蚀刻装置的截面示意图。
图6为图5中的等离子蚀刻装置中的上电极平面图。
图7为采用了本发明的实施例4的等离子弧焊炬的纵向截面图。
图8为采用了本发明的实施例5的光学窗的截面图。
图9为石墨粉末的平面放大示意图。
图10为图9中的石墨粉末的截面示意图。
图11为采用了本发明的实施例6的光学窗的正视图。
图12为图11中的光学窗的截面图。
图中，21为中心轴，23为上部转筒，28为上盖，42为摆动涡卷体，43为主轴，49，50为止推轴承，55为等离子蚀刻装置，61为上电极，70为焊炬，72为喷嘴部件，74为保护层，81为光学窗，84为窗材。
权利要求
1.一种表面平滑部件，包括具有光滑表面的功能部，和用于将所述功能部支承于装置上的支承部，其特征在于，所述功能部由具有高取向性的石墨制成，其平行于取向方向的一面用作所述平滑表面。
2.如权利要求1所述的表面平滑部件，其特征在于，所述石墨的锁定特性在20度以下。
3.如权利要求1或2所述的表面平滑部件，其特征在于，所述功能部为支承转轴的轴承部件。
4.如权利要求1或2所述的表面平滑部件，其特征在于，所述功能部为使移动件滑动的滑动部件。
5.如权利要求1或2所述的表面平滑部件，其特征在于，所述功能部为等离子装置的电极部件。
6.如权利要求1或2所述的表面平滑部件，其特征在于，所述功能部为焊炬的喷嘴部件。
7.如权利要求1或2所述的表面平滑部件，其特征在于，所述功能部为设于真空装置或真空容器上的光学窗(孔)部或内置辐射线特别是X射线的传感器的光学窗(孔)部。
8.如权利要求1至7中任一项所述的表面平滑部件，其特征在于，所述具高取向性的石墨由焙烧多张高分子树脂薄片而得，且所述平滑表面的结构为可以层状剥离的。
9.如权利要求1至7中之任一项所述的表面平滑部件，其特征在于，所述表面平滑部件系将具高取向性的石墨粉碎成高扁平形状的粉末，再将该粉末化的石墨和溶剂或粘合剂、金属、无机、有机粘结剂掺合而形成的组合物。
全文摘要
一种表面平滑部件，包括具有光滑表面的功能部和用于支承该功能部于装置上的支承部。所述功能部有具有高取向的石墨制成，其平行于结晶取向的一面用作圆滑表面。该功能部可以是，例如，轴向支承旋转磁头部2的上转筒23的上盖28。本发明的表面平滑部件可降低加工成本，在发生磨损和损坏时也易操作。
文档编号B23K10/00GK1117434SQ9510569
公开日1996年2月28日 申请日期1995年7月6日 优先权日1994年7月6日
发明者井上孝夫, 池田顺治, 西木直已 申请人:松下电器产业株式会社