专利名称：新型高真空激光镀膜机的制作方法
技术领域：
本发明为热处理行业领域，特别是一种利用激光加热来实现真空镀膜的设备。
背景技术：
目前的真空镀膜机，其蒸发源主要是依靠电阻加热或中频加热的方式来对 蒸发源进行加热，加热温度往往不太高，随着零部件表面的耐腐蚀和耐磨性要 求的不断增加， 一些高熔点的耐磨材料也越来越哟了更的的市场。激光真空镀 膜也主要是解决高熔点材料在电阻和中频加热的情况下，蒸发源镀膜材料无法 达到沸点温度而蒸发的问题。
发明内容
真空激光镀膜是用高功率激光束，聚焦照射到蒸镀材料的表面，使其表面 温度达到沸点温度以上，从而来蒸发镀膜的方法。由于激光束的能量密度高， 可以用来加热蒸发那些高熔点的镀膜材料，如陶瓷材料等，且能够实现化合物 的蒸发沉积而不讳产生分馏现象，能蒸发任何高熔点材料。
具体实施例方式
该设备主要由激光器、钟罩式双塑水冷外壳、真空系统、电控系统、蒸发 源坩埚等组成。如图由1激光器，通过折射将高功光束，聚焦照射到蒸发材料
的表面，即4坩埚内，从而将镀膜材料升温到沸点挥发，从而达到真空镀膜的 目的。图中5连接真空机组。
权利要求
在新型高真空状态下，用高功率激光束，聚焦照射到蒸镀材料的表面，使镀膜材料的蒸发源的温度达到沸点，从而来达到蒸膜的目的。
全文摘要
新型高真空激光镀膜机属于热处理行业领域的一种靠激光加热来实现蒸发源蒸发的真空镀膜设备。该设备主要由激光器、钟罩式双塑水冷外壳、真空系统、电控系统、蒸发源坩埚等组成。如图由1激光器，通过折射将高功光束，聚焦照射到蒸发材料的表面，即4坩埚内，从而将镀膜材料升温到沸点挥发，从而达到真空镀膜的目的。图中5连接真空机组。
文档编号C23C14/26GK101497989SQ20081024280
公开日2009年8月5日 申请日期2008年12月26日 优先权日2008年12月26日
发明者顾啸强 申请人:苏州市万泰真空炉研究所有限公司