专利名称：蚀刻机的制作方法
技术领域：
本实用新型公开了一种蚀刻机，属于蚀刻设备技术领域。
背景技术：
现有蚀刻机的进液方式为非对流式，如图1所示，蚀刻液由数个
位于同侧的进液口 1进入各自对应的喷淋管2内，再由安装在各喷淋 管2上的数个喷嘴3将蚀刻液雾化后喷出。每个进液口 1连通两条上 下分布的喷淋管2。各上、下喷淋管2的喷嘴3之间安装有滚轮输送 装置4。金属板5由滚轮输送装置4的前侧进入，后侧传出。输送过 程中，蚀刻液经各上、下喷淋管2的喷嘴3雾化后，从上、下方向喷 淋到金属板5上，对金属板5进行蚀刻。由该非对流式蚀刻机蚀刻出 来的金属板5，存在蚀刻不均匀的问题，而该问题主要由以下原因造 成位于喷淋管2进液端的喷嘴3压力大，位于喷淋管2末端的喷嘴 3压力小，从而导致蚀刻不均匀，影响产品性能。
实用新型内容
为了解决上述问题，本实用新型提供了 一种蚀刻均匀的蚀刻机。
为了实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案为一种蚀刻机，包括安装在箱体内的滚轮输送装置，所述箱体左右 两侧均开设有数个进液口，每个进液口连通有两条上下分布的喷淋管， 每条喷淋管上安装有数个喷嘴，滚轮输送装置位于各上、下喷淋管的 喷嘴之间，且连通左侧进液口的各喷淋管与连通右侧进液口的各喷淋 管相互间隔排列。
作为上述方案的进一步设置，所述各喷淋管的间隔距离H为15厘米。
所述连通左侧进液口的各喷淋管上安装有7个喷嘴，连通右侧进 液口的各喷淋管上安装有6个喷嘴。
采用上述方案后，本实用新型在箱体左右两侧均开设有进液口， 连通左侧进液口的各喷淋管与连通右侧进液口的各喷淋管相互间隔排 列，解决了单侧进液口，因位于喷淋管进液端的喷嘴压力大、位于喷 淋管末端的喷嘴压力小而产生的蚀刻不均匀问题。
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型作进一步说明。
图1为现有技术非对流式蚀刻机的结构示意图； 图2为本实用新型蚀刻机的结构示意图。
具体实施方式
如图2所示，本实用新型蚀刻机，包括左右两侧均开设有数个进 液口 8的箱体6，每个进液口 8连通有两条上下分布的喷淋管9，每条 喷淋管9上安装有数个喷嘴10，各上、下喷淋管9的喷嘴10之间安 装有滚轮输送装置7，且连通左侧进液口 8的各喷淋管9与连通右侧
4进液口 8的各喷淋管9相互间隔排列。
连通左侧进液口 8的各喷淋管9，其位于喷淋管9进液端的喷嘴 10压力大、位于喷淋管9末端的喷嘴10压力小；连通右侧进液口 8 的各喷淋管9，其位于喷淋管9进液端的喷嘴10压力大、位于喷淋管 9末端的喷嘴10压力小。通过左右两侧进液口 8的结合设置，克服了 单侧进液的缺点，解决了金属板ll蚀刻不均匀问题。
为了使各喷淋管9及喷嘴10的布局更为合理，以便进一步提高蚀
刻效果及生产效率，各喷淋管9的间隔距离H为15厘米；连通左侧进
液口 8的各喷淋管9上安装有7个喷嘴10，连通右侧进液口 8的各喷
淋管9上安装有6个喷嘴10。
上述实施例仅用于解释说明本实用新型的发明构思，而非对本实
用新型权利保护的限定，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的
改动，均应落入本实用新型的保护范围。
权利要求1、一种蚀刻机，包括安装在箱体(6)内的滚轮输送装置(7)，其特征在于所述箱体(6)左右两侧均开设有数个进液口(8)，每个进液口(8)连通有两条上下分布的喷淋管(9)，每条喷淋管(9)上安装有数个喷嘴(10)，滚轮输送装置(7)位于各上、下喷淋管(9)的喷嘴(10)之间，且连通左侧进液口(8)的各喷淋管(9)与连通右侧进液口(8)的各喷淋管(9)相互间隔排列。
2、 如权利要求1所述的蚀刻机，其特征在于所述各喷淋管(9)的间隔距离H为15厘米。
3、 如权利要求1所述的蚀刻机，其特征在于所述连通左侧进液口 (8)的各喷淋管(9)上安装有7个喷嘴(10)，连通右侧进液口 (8) 的各喷淋管(9)上安装有6个喷嘴(10)。
专利摘要本实用新型公开了一种蚀刻机，属于蚀刻设备技术领域，包括安装在箱体内的滚轮输送装置，所述箱体左右两侧均开设有数个进液口，每个进液口连通有两条上下分布的喷淋管，每条喷淋管上安装有数个喷嘴，滚轮输送装置位于各上、下喷淋管的喷嘴之间，且连通左侧进液口的各喷淋管与连通右侧进液口的各喷淋管相互间隔排列。本实用新型蚀刻机，蚀刻均匀、生产效率高。
文档编号C23F1/08GK201313937SQ200820168518
公开日2009年9月23日 申请日期2008年11月20日 优先权日2008年11月20日
发明者沈慕禹 申请人:绍兴华立电子有限公司