专利名称：挠性基材连续式化学水浴沉积之装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种挠性基材连续式化学水浴沉积之装置。
背景技术：
现今电子工业迅速发展，许多电子产品都需要应用到物理沉积技术或化 学沉积技术。另外全世界面临石油能源耗竭、成本高昂及环保等问题，造成 太阳能与氢能源燃料电池的需求与日倶增，由于太阳能电池制造时，必须在 一基材上构成多种沉积层(薄膜)，才能有效的发挥其功能，足见沉积过程 为电子产业及民生产业一个极为关键的技术。
已知的化学浴沉积(Chemical Bath Deposition, CBD)过程及其设备， 亦为沉积技术之一，其是将表面预作处理的一基材(例如不锈钢板等)浸入 化学药液中持续一定时间，在该基材表面沉积形成半导体薄膜。但已知的化 学浴沉积设备，是将基材完全浸入化学药液之中，如此将导致该基材双面都 成膜，然而该基材实际应用上只需要其中一面已足，多余部分形同资源的浪 费，并导致制造成本增加。
因此，如何设计出一种化学水浴沉积设备，以使该化学水浴沉积设备可 在挠性基材的单面进行化学浴沉积，并能适时进行加热处理，将是当前需要 解决的问题。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种挠性基材连续式化学水浴 沉积之装置，其通过该加热传动装置的一加热器，及两侧的基材滚巻单元结 构设计，使连续输入的一基材可被该加热传动装置暂时弯曲，以在该基材上 输入化学药液进行单面沉积处理，并可通过该加热器配合化学药液的反应时间进行表面加热处理，进而达到在该基材单面连续制成氧化物薄膜之目的。 为了解决上述问题，本实用新型提供了 一种挠性基材连续式化学水浴沉
积之装置，包含 一加热器，为一种电加热器，其上端设有一加热板，其两 侧分别结合一基材滚巻单元。基材滚巻单元，其具有一纵向调整座，该纵向 调整座上结合至少一横向调整座，并于该横向调整座选定处结合可转动的至 少一导轮，使该导轮位在该加热器两侧的上方，藉此组成挠性基材连续式化 学水浴沉积之装置。
与现有技术相比，应用本实用新型，可以连续地进行基材的单面化学水 浴沉积处理，避免在基材制造多余的半导体薄膜，降低了制造成本。
图1为本实用新型的较佳具体实施例之组合立体图； 图2为本实用新型的较佳具体实施例之分解立体图； 图3为本实用新型的较佳具体实施例之应用状态立体图； 图4为本实用新型的较佳具体实施例之应用动作示意图； 图5为本实用新型的较佳具体实施例之沉积过程的示意图一； 图6为本实用新型的较佳具体实施例之沉积过程的示意图二。
具体实施方式
为充分了解本实用新型之目的、特征及功效，兹通过下述具体之实施例， 并配合所附之图式，对本实用新型做一详细说明，说明如后
如图l及图2所示，本实用新型的挠性基材连续式化学水浴沉积之装置， 其较佳实施例包含一加热器1 ,及加热器1两侧的基材滚巻单元2所组成， 其中
加热器l,如图2所示，为一种将电能转换成为热能的电加热器，其上 端设有一加热板l 1,该加热板l 1可为一平4反或其它形状的板块，藉此， 于该加热器1的两侧采用螺丝1 2分别固定结合一下述的基材滚巻单元2 。基材滚巻单元2 ，如图l及图2所示，其具有一纵向调整座2 1 ,于该 纵向调整座2 1上结合至少一横向调整座2 2 (图示为两个横向调整座2 2 )，并于该横向调整座2 2选定处结合可转动的至少一导轮2 3 ,使该导 轮2 3位在该加热器1两侧的上方。
该纵向调整座2 1 ，包含一底座2 1 1 ,该底座2 1 l上部结合可分离 的一立柱2 12，及与该加热器1结合的一固定片213,该立柱2 1 2设 有一通孔2 1 4 ，该通孔2 1 4穿设一螺栓2 1 5 ，该螺栓2 1 5是结合在 该底座2 1 l上；该底座2 1 1的底部设有复数个结合在化学水浴沉积设备 的固定架3上滑移的T形槽2 1 6 (如图l及图3所示)，使底座2 1 l可 调整其空间位置。
该横向调整座2 2,包含结合在该纵向调整座2 l上的一固定座2 2 1,该固定座2 2 l设有至少一个滑轨2 2 2 (图示为两个滑轨2 2 2 ), 于该滑轨2 2 2上设有一螺孔2 2 3 ;及一活动座2 2 4,该活动座2 2 4 的选定面设有与该滑轨2 2 2相嵌合的一滑槽2 2 5，该滑槽2 2 5中设有 一长条状的贯穿孔2 2 6 ，于该贯穿孔2 2 6中穿设一螺丝2 2 7 ，该螺丝 2 2 7结合在该固定座2 2 1的螺孔2 2 3 。藉此，可在*>弛该螺丝227 时调整该活动座2 2 4的空间位置，并可旋紧该螺丝2 2 7将活动座2 2 4 固定。
该导轮2 3,为下端直径较大而上端直径较小的锥形轮，其中心设有轮 轴2 3 1、轴承2 3 2 、密封组件2 3 3及固定组件2 3 4等必要的组件， 该轮轴2 3 l是结合在该横向调整座2 2的活动座2 2 4下面，使该导轮2 3位在前述该加热器1两侧的上方。
通过上述挠性基材连续式化学水浴沉积之装置结构设计，如图3所示， 是将复数个该加热传动装置并排结合于化学水浴沉积设备内的固定架3上， 于各组加热传动装置的加热器1之间设有一滚轮4 ,并在选定的基材滚巻单 元2上另外结合一压轮5 ，藉此如图4所示，即组成可让一基材6连续输送 通过各组加热传动装置上的沉积设备。
本实用新型的化学水浴沉积设备之加热传动装置应用时，如图4至图6 所示，是将预作处理的不锈钢或其它材质的基材6由入料装置7输入该加热传动装置的加热器l (加热板l 1 )上，该基材6的两侧边将被该基材滚巻 单元2的导轮2 3推挤而往上弯曲(如图4所示)，并利用该压轮5暂时将 基材6保持在弯曲状态下输送。若此即可由化学水浴沉积设备在该基材6上 导入(喷溅)化学药液，使该基材6的单面被化学药液浸泡，进而在基材6 产生化学水浴沉积作用，藉此，可使特定的化合物吸附(Adsorption)在基材 6上形成半导体薄膜。而该加热器1控制在0 °C ~ 3 5 0 。C之间，可配合化 学药液的反应时间进行加热及烧结处理，当基材6被热处理完成而输出加热 传动装置后，即可解除该基材6两侧边弯曲的状态，并由收料装置8加以巻 收。如此即能连续进行基材6的单面化学水浴沉积处理。
如上所述，本实用新型通过挠性基材连续式化学水浴沉积之装置结构设 计，使连续输入的一基材可被该加热传动装置暂时弯曲，以在该基材上输入 化学药液进行单面沉积处理，并可通过该加热器配合化学药液的反应时间进 行表面加热处理，进而达到在该基材单面连续制成半导体薄膜的效用。利用 本实用新型所衍生的产品，当可充分满足目前市场的需求。
以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式
，但本实用新型的保护 范围并不局限于此，任何熟悉该技术的人在本实用新型所公开的技术范围 内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因 此，本实用新型的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。
权利要求1、一种挠性基材连续式化学水浴沉积之装置，其特征在于，包含一加热器，为一种电加热器，其上端设有一加热板，其两侧分别结合一基材滚卷单元；所述基材滚卷单元，其具有一纵向调整座，该纵向调整座上结合至少一横向调整座，并于该横向调整座选定处结合可转动的至少一导轮，使该导轮位于所述加热器两侧的上方，藉此组成挠性基材连续式化学水浴沉积之装置。
2、 如权利要求1所述的挠性基材连续式化学水浴沉积之装置，其特 征在于，所述加热器的加热板为一平板。
3、 如权利要求1所述的挠性基材连续式化学水浴沉积之装置，其特 征在于，所述基材滚巻单元的纵向调整座是包含一底座，该底座上部结合可 分离的一立柱，该立柱设有一通孔，该通孔穿设一螺栓，该螺栓结合在该底 座。
4、 如权利要求3所述的挠性基材连续式化学水浴沉积之装置，其特 征在于，所述底座的底部是设有复数个结合在化学水浴沉积设备的固定架上 滑移的T形槽，该底座的上部设有与所述加热器结合的一 固定片。
5、 如权利要求1所述的挠性基材连续式化学水浴沉积之装置，其特 征在于，所述基材滚巻单元的横向调整座是包含结合在所述纵向调整座上的 一固定座，该固定座设有至少一个滑轨；及一活动座，其选定面设有与滑轨 嵌合的一滑槽。
6、 如权利要求5所述的挠性基材连续式化学水浴沉积之装置，其特 征在于，所述固定座的滑轨上设有一螺孔，所述活动座的滑槽设有一长条状 的贯穿孔，于该贯穿孔穿设一螺丝，该螺丝是结合在该固定座的螺孔。
7、 如权利要求1所述的挠性基材连续式化学水浴沉积之装置，其特 征在于，所述导轮为下端直径较大而上端直径较小的锥形轮，其中心设有轮轴、轴承、密封组件及固定组件，该轮轴是结合在所述横向调整座下面。
8、 如权利要求1所述的挠性基材连续式化学水浴沉积之装置，其特 征在于，更包含复数个加热传动装置并排结合于化学水:浴沉积设备的固定架 上。
9、 如权利要求1所述的挠性基材连续式化学水浴沉积之装置，其特 征在于，所述基材滚巻单元上另外结合一压轮。
专利摘要本实用新型公开了一种挠性基材连续式化学水浴沉积之装置，其包含一加热器的两侧分别结合一基材滚卷单元，该基材滚卷单元是一纵向调整座上结合至少一横向调整座，并于该横向调整座结合可转动的至少一导轮所组成，使该导轮位于该加热器两侧的上方，藉此组成挠性基材连续式化学水浴沉积设备之装置。本实用新型之加热传动装置可并排组装在化学水浴沉积设备的过程固定架上，在该加热器上连续输送一基材，通过该基材滚卷单元的导轮将该基材的两侧边略弯曲，以在基材上输入化学药液进行单面沉积处理，并可通过该加热器进行加热处理，以达到成膜之条件。
文档编号C23C18/00GK201367462SQ20092000434
公开日2009年12月23日 申请日期2009年2月4日 优先权日2009年2月4日
发明者郭年宏 申请人:睿明科技股份有限公司