专利名称：抛光机的上抛光盘的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及硅片研磨机或抛光机的结构，尤其涉及硅片研磨机或抛光机上抛 光盘的结构。
背景技术：
用于薄脆材料尤其是硅片抛光机的上抛光盘，由于在抛光过程中会产生大量的 热，温度的变化必然会导致抛光盘发生形变，进而影响加工质量，因此必须严格控制抛光盘 的温度。近年来IC加工硅片的尺寸趋向大直径化，对硅片形貌的质量要求也越来越严格， 对于用来进行硅片双面抛光加工的抛光设备，必须严格控制抛光盘的形变。上抛光盘水冷 结构主要用于抛光盘的温度控制。此前双面抛光机的抛光盘采用整体式结构，没有进行专门温度控制的装置，抛光 加工过程中所产生的热量主要靠抛光液带走，属于被动式冷却，抛光盘温度的变化不可控 制。传统的设备也大多应用在非IC行业，对上抛光盘的温度控制要求不高。硅片加工，必 需对上下抛光盘进行精密温度控制，因此必须采用新的上盘结构，以便对抛光盘进行冷却， 达到温度精确控制的目的。发明内容本实用新型的目的在于避免现有技术的不足，提供一种抛光机的上抛光盘。以实 现抛光盘主动冷却，做到抛光盘温度的精确控制。为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为一种抛光机的上抛光盘，包括有 上盘工作盘(7)，其主要特点在于还包括有在上盘工作盘(7)的上方设有上盘水冷盘(5)， 上盘工作盘(7)与上盘水冷盘( 之间形成空腔O)，在上盘水冷盘( 上设有进水口(3) 和出水口(6)，分别与空腔⑵连通。所述的抛光机的上抛光盘，在所述的上盘水冷盘(5)与所述的上盘工作盘(7)形 成空腔O)，所述的空腔( 是在上盘水冷盘( 上设有数个下凹的扇形区域，以形成数个 扇形冷却空腔。每个下凹的扇形区域由凸出的分隔筋分为两个互为连通的下凹的 进水区0-2)、出水区0-3)，在进水区(2- 设有进水口(3)，在出水区(2- 设有出水口 (6)。所述的抛光机的上抛光盘，在所述的进水区(2- 上还设有进水区凸出筋(2-4)， 在所述的出水区(2- 设有出水区凸出筋0-5)；进水区凸出筋0-4)、出水区凸出筋 (2-5)与分隔筋相向设置，形成迷宫式水道。所述的抛光机的上抛光盘，所述的上盘工作盘(7)与上盘水冷盘( 之间外圈设 有外圈密封圈(1)，内圈设有内圈密封圈G)。使循环冷却液不向外泄漏。所述的抛光机的上抛光盘，在所述的上盘水冷盘( 上还设有温度传感器衬套孔 (16)。所述的抛光机的上抛光盘，在所述的上盘水冷盘( 上还设有抛光液流液孔(14)，其上设有密封圈(8)。在通抛光液的衬套处均设有的密封圈(8)，防止冷却水泄露污 染抛光液。所述的抛光机的上抛光盘，在所述的上盘水冷盘(5)与上盘工作盘(7)由连接螺 钉(1 连接，在螺钉连接处设有密封圈(12)，防止冷却水泄露污染抛光液。本实用新型的有益效果特殊的水冷盘结构由几个独立的扇形区域腔构成，每个 扇形区域腔有各自的进出水口，水路设计为迷宫式，避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充 满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产 生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。结合精密的测温系 统及冷却水流量调节系统，实现了抛盘温度的精密控制。
图1是本实用新型的结构示意图；图2是图1的A-A剖视图；图3是图2的B-B剖视图。图中1.外圈密封圈；2、腔体；3、进水口；4、内圈密封圈；5、上盘水冷盘；6、出水 口 ；7、上盘工作盘；8、第一密封圈；9、抛光液衬套；10、第二密封圈；11、工作盘；12、第三密 封圈；13、连接螺钉；14、流液孔；15、第二密封圈槽；16、温度传感器衬套孔；17、连接螺钉 孔；19、第一密封圈槽；2-1、分隔筋；2-2、进水区；2-3、出水区；2_4、进水区凸出筋；2_5、出 水区凸出筋。
具体实施方式
以下对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并 非用于限定本实用新型的范围。实施例1 见图1、图2、图3，一种抛光机的上抛光盘，包括有上盘工作盘7，在上盘 工作盘7的上方设有上盘水冷盘5，上盘工作盘7与上盘水冷盘5之间形成空腔2，在上盘 水冷盘5上设有进水口 3和出水口 6，所述的进水口 3和出水口 6分别与空腔2连通。在所述的上盘水冷盘5与所述的上盘工作盘7形成空腔2，所述的空腔2是在上盘 水冷盘5上设有数个下凹的扇形区域，以形成数个扇形冷却空腔。每个下凹的扇形区域由 凸出的分隔筋2-1分为两个互为连通的下凹的进水区2-2、出水区2-3，在进水区2-2设有 进水口 3，在出水区2-3设有出水口 6。所述的空腔2，即下凹的扇形区域为10个。在所述的进水区2-2上还设有进水区凸出筋2-4，在所述的出水区2-3设有出水 区凸出筋2-5;进水区凸出筋2-4、出水区凸出筋2-5与分隔筋2-1相向设置，形成迷宫式水道。所述的上盘工作盘7与上盘水冷盘5之间的外圈设有第一密封圈槽，在第一密封 圈槽19内设有外圈密封圈1，所述的上盘工作盘7与上盘水冷盘5之间的内圈设有设有第 二密封圈槽15，在第二密封圈槽15内设有内圈密封圈4。使循环冷却液不向外泄漏。在所述的上盘水冷盘5上还设有温度传感器衬套孔16。在所述的上盘水冷盘5上还设有抛光液流液孔14，其上设有第一密封圈8 ；抛光液流液孔14内设有抛光液的衬套9，在通抛光液的衬套9处设有的第二密封圈10。防止冷却 水泄露污染抛光液。在所述的上盘水冷盘5与上盘工作盘7由连接螺钉13连接，在螺钉连接处设有第 三密封圈12，防止冷却水泄露污染抛光液。上抛光盘采用复合结构，分为工作盘和水冷盘两层，上层为水冷盘，下层为工作 盘，两盘间采用螺钉连接，两盘结合面内外侧均装有密封圈，用于防止泄露。同时由于上盘 有流液孔，为了防止冷却水泄露污染抛光液，在螺钉连接处和通抛光液的衬套处均装有密 封圈。其中水冷盘设有十个独立的水冷通道，采用独特的循环通道，在上盘基盘上设有迷宫 结构，冷却水的入口和出口分别位于迷宫的两端，确保冷却水流过的通路够长而不走捷径， 冷却水必须完全充满腔体后才能从回水口流出，确保抛盘能得到充分的冷却。上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新 型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护 范围之内。
权利要求1.一种抛光机的上抛光盘，包括有上盘工作盘(7)，其特征在于，还包括有在上盘工作 盘(7)的上方设有上盘水冷盘(5)，上盘工作盘(7)与上盘水冷盘( 之间形成空腔0)， 在上盘水冷盘(5)上设有进水口(3)和出水口(6)，所述的进水口(3)和出水口(6)分别与 空腔⑵连通。
2.如权利要求1所述的抛光机的上抛光盘，其特征在于，在所述的上盘水冷盘(5)与所 述的上盘工作盘(7)形成空腔O)，所述的空腔( 是在上盘水冷盘( 上设有数个下凹的 扇形区域，；每个下凹的扇形区域由凸出的分隔筋(2-1)分为两个互为连通的下凹的进水区 0-2)、出水区0-3)，在进水区(2- 设有进水口(3)，在出水区(2- 设有出水口(6)。
3.如权利要求1所述的抛光机的上抛光盘，其特征在于，在所述的进水区(2-2)上还 设有进水区凸出筋0-4)，在所述的出水区(2- 设有出水区凸出筋0-5)；进水区凸出筋 0-4)、出水区凸出筋0-5)与分隔筋相向设置，形成水道。
4.如权利要求1所述的抛光机的上抛光盘，其特征在于，所述的上盘工作盘(7)与上 盘水冷盘( 之间的外圈设有第一密封圈槽(19)，第一密封圈槽(19)内设有外圈密封圈 (1)，所述的上盘工作盘(7)与上盘水冷盘( 之间的内圈设有第二密封圈槽(15)，第二密 封圈槽(1 内设有内圈密封圈G)。
5.如权利要求1所述的抛光机的上抛光盘，其特征在于，在所述的上盘水冷盘(5)上还 设有温度传感器衬套孔(16)。
6.如权利要求1所述的抛光机的上抛盘，其特征在于，在所述的上盘水冷盘(5)上还设 有抛光液流液孔(14)，其上设有第一密封圈(8)；抛光液流液孔(14)内设有抛光液的衬套 (9)，在通抛光液的衬套(9)处设有的第二密封圈(10)。
7.如权利要求1所述的抛光机的上抛光盘，其特征在于，在所述的上盘水冷盘(5)与上 盘工作盘(7)由连接螺钉(1 连接，在螺钉连接处设有第三密封圈(12)。
专利摘要本实用新型涉及硅片研磨机或抛光机的结构，尤其涉及硅片研磨机或抛光机上抛光盘的结构。一种抛光机的上抛光盘，包括有上盘工作盘(7)，其主要特点在于还包括有在上盘工作盘(7)的上方设有上盘水冷盘(5)，上盘工作盘(7)与上盘水冷盘(5)之间形成空腔(2)，在上盘水冷盘(5)上设有进水口(3)和出水口(6)，分别与空腔(2)连通。本实用新型的优点是特殊的水冷盘结构由几个独立的扇形区域腔构成，每个扇形区域腔有各自的进出水口，水路设计为迷宫式，避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠。
文档编号B24D13/18GK201824260SQ20102051530
公开日2011年5月11日 申请日期2010年8月30日 优先权日2010年8月30日
发明者李娟 , 梁春, 金万斌 申请人:兰州瑞德实业集团有限公司