流体抛光机的制作方法

文档序号:3407360阅读:1664来源:国知局
专利名称:流体抛光机的制作方法
技术领域
本实用新型属于一种抛光机,尤其是一种利用流体磨料对工件内壁进行抛光、研 磨的流体抛光机。
背景技术
抛光是机械加工中的一道重要工序,抛光水平的好坏对产品质量来说尤为重要。 随着产品形状的多样化、精度要求的不断提高,特别是对于凹陷面与弯曲孔道的加工而言, 传统的手工研磨抛光已经无法满足客户要求,对于复杂形状的工件内壁,普通刀具、磨具达 很难达到,即便能操作,其耗时也长达几个小时,且尺寸精度、形状精度都难以保证,如果大 批量生产时,产品互换性也会受到影响。
发明内容本实用新型所要解决的技术问题就是提供一种流体抛光机,机器结构简单、动作 灵敏可靠、操作安全方便,使复杂的工件内壁抛光与研磨更加便利、轻松,显著提高工件的 性能、质量、光洁度,达到镜面等级。为解决上述技术问题,本实用新型采用如下技术方案流体抛光机,其特征在于 包括机身、上模架、下模架及合模装置,上模架与下模架上分别设有研磨机构,所述研磨机 构包括磨料缸筒及用于推动磨料缸筒内磨料运动的研磨缸,磨料缸筒固定在上模架与下模 架上,工件通过合模装置夹持在上模架与下模架的两个磨料缸筒之间,上模架与下模架上 的两个研磨缸推动磨料沿工件内壁上、下往复运动完成抛光。通过流体抛光加工的工件,其 加工面的抛光痕迹与工件实际的流体导通方向是相一致的,有助于工件使用性能的提高。进一步的,研磨缸包括研磨缸筒及研磨活塞,研磨缸筒与磨料缸筒连接,研磨活塞 伸入磨料缸筒内推动磨料运动。进一步的,所述研磨活塞上套有密封环。除了防止磨料泄露外,还起到稳定抛光机 工作气压的作用。进一步的,下模架上的磨料缸筒上端设有固定工件用的定位模具。提高定位精度 及抛光效果。进一步的,所述合模装置为一对合模缸,合模缸的缸体固定于下模架上,合模缸的 活塞杆端部通过螺母锁固在上模架上,合模缸的活塞杆驱动上模架、下模架的压合实现工 件的夹持固定。进一步的,机身上还设有控制研磨机构与合模缸动作的控制系统,该控制系统包 括液压站、电控柜及操作面板。进一步的,所述研磨机构数量为1至3组。本实用新型的有益效果本实用新型对于凹陷面与弯曲孔道等通常刀、磨具达不 到的复杂形状尤为有效,打破了传统的手工研磨抛光工序,使微孔、多孔、长孔、弯孔、异形 孔的工件抛光研磨便利、轻松,尤其是在气体、液体类的导通管内进行镜面抛光,使抛光痕迹和管内流体导通方向一致,有效的提高模具或工件的性能、质量、光洁度,达到鏡面等级, 同时延长模具及工件的使用寿命,更能提升产品的品质和产能。
以下结合附图对本实用新型作进一步的说明


图1为本实用新型结构示意图。
具体实施方式

图1所示,流体抛光机,包括机身1、上模架10、下模架11及合模装置,上模架10 与下模架11上分别设有三组研磨机构,所述研磨机构包括磨料缸筒4及用于推动磨料缸筒 4内磨料运动的研磨缸,磨料缸筒4固定在上模架10与下模架11上,工件9通过合模装置 夹持在上模架10与下模架11的两个磨料缸筒4之间,上模架10与下模架11上的两个研 磨缸推动磨料沿工件内壁上、下往复运动完成抛光。研磨缸包括研磨缸筒2及研磨活塞21, 研磨缸筒2与磨料缸筒4连接,研磨活塞21伸入磨料缸筒4内推动磨料运动;研磨活塞21 上套有密封环22,除了防止磨料泄露,还起到稳定抛光机工作气压的作用;下模架11上的 磨料缸筒上端设有定位模具8用于固定工件9,提高定位精度及抛光效果;合模装置为一对 合模缸3,合模缸的缸体固定于下模架11上,合模缸的活塞杆端部通过螺母锁固在上模架 10上,合模缸的活塞杆驱动上模架10、下模架11的压合实现工件的夹持固定;机身1上设 有控制研磨机构与合模缸动作的控制系统,该控制系统包括液压站5、电控柜7及操作面板 6。抛光前,将磨料注入下模架11的磨料缸筒4内,在该磨料缸筒4上端安装定位模 具,工件通过定位模具固定在磨料缸筒4上;启动合模缸,使上模架10与下模架11压合, 上模架10与下模架11上的两个磨料缸筒4相向夹持工件。抛光时,下方的研磨活塞21上 升推动磨料经工件内腔进入上方的磨料缸筒4内,待磨料上升一定高度后,上方的研磨活 塞21推抵磨料向下运动,下降至一定高度后,下方的研磨活塞21再次上升,如此循环往复; 控制系统可根据实际需要选择抛光工艺为“计时模式”或者“计数模式”,选择“计时模式” 时,当循环时间到达设定值,循环便停止;选择“计数模式”时,当循环次数到达设定值便会 停止,上、下两个研磨活塞21各一个来回计数一次。当循环停止后合模缸自动打开,上模架 10与下模架11分离,便可拿出工件。
权利要求1.流体抛光机,其特征在于包括机身(1)、上模架(10)、下模架(11)及合模装置,上 模架(10)与下模架(11)上分别设有研磨机构,所述研磨机构包括磨料缸筒(4)及用于推 动磨料缸筒内磨料运动的研磨缸,磨料缸筒(4)固定在上模架(10)与下模架(11)上, 工件(9)通过合模装置夹持在上模架(10)与下模架(11)的两个磨料缸筒(4)之间,上模 架(10)与下模架(11)上的两个研磨缸推动磨料沿工件(9)内壁上、下往复运动完成抛光。
2.根据权利要求1所述的流体抛光机,其特征在于研磨缸包括研磨缸筒(2)及研磨 活塞(21),研磨缸筒⑵与磨料缸筒⑷连接,研磨活塞伸入磨料缸筒⑷内推动磨 料运动。
3.根据权利要求2所述的流体抛光机,其特征在于所述研磨活塞上套有密封环 (22)。
4.根据权利要求4所述的流体抛光机,其特征在于下模架(11)上的磨料缸筒(4)上 端设有固定工件(9)用的定位模具(8)。
5.根据权利要求1至4任意一项所述的流体抛光机,其特征在于所述合模装置为一 对合模缸(3),合模缸C3)的缸体固定于下模架(11)上,合模缸C3)的活塞杆端部通过螺母 锁固在上模架(10)上,合模缸C3)的活塞杆驱动上模架(10)、下模架(11)的压合实现工件 (9)的夹持固定。
6.根据权利要求5所述的流体抛光机,其特征在于机身(1)上还设有控制研磨机构 与合模缸(3)动作的控制系统,该控制系统包括液压站(5)、电控柜(7)及操作面板(6)。
7.根据权利要求1至4任意一项所述的流体抛光机,其特征在于所述研磨机构数量 为1至3组。
专利摘要本实用新型公开了流体抛光机,包括机身、上模架、下模架及合模装置,上模架与下模架上分别设有研磨机构,所述研磨机构包括磨料缸筒及用于推动磨料缸筒内磨料运动的研磨缸,磨料缸筒固定在上模架与下模架上,工件通过合模装置夹持在上模架与下模架的两个磨料缸筒之间,上模架与下模架上的两个研磨缸推动磨料沿工件内壁上、下往复运动完成抛光。通过流体抛光加工的工件,其加工面的抛光痕迹与工件实际的流体导通方向是相一致的,有助于工件使用性能的提高。
文档编号B24B37/00GK201856159SQ20102054004
公开日2011年6月8日 申请日期2010年9月17日 优先权日2010年9月17日
发明者冯建平, 李振华, 李越, 裘华刚, 阮哲峰, 黄强 申请人:浙江海亮股份有限公司, 绍兴金氏机械设备有限公司
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