专利名称：一种压敏电阻片烧钵研磨的方法及其使用的研磨设备的制作方法
技术领域：
本发明属于 压敏电阻片制作技术领域，具体涉及一种压敏电阻片烧钵研磨的方法及其使用的研磨设备。
背景技术：
压敏电阻片作为一种敏感元器件，是大功率半导体，属于新材料应用范畴，是一种典型的陶瓷电工元件，其作为过电压保护器件和电压传感器，主要用于组装氧化锌避雷器及其监测仪器产品来保护电网中运行的各种电器设备免受过电压损害。在压敏电阻片的制造工艺中，烧结是最关键的制造工艺，该工艺过程直接决定着压敏电阻片性能的优劣。这是因为形成压敏电阻片非线性的ZnO晶粒和尖晶石晶界层的发育过程都在烧结过程中开始和结束。但是在压敏电阻的配方中，根据电性能的需要，存在着大量低熔点物质(Bi203、 Sb2O3),在高温烧结过程中，电阻片的配方体系容易由于低熔点物质的挥发而渐趋失衡，从而造成电阻片产品性能的劣化。电阻片坯体在高温烧结时可以看作是一个熔融体，在此状态下，低熔点、易挥发组分就会不间断地挥发，特别是Bi2O3，因为其分压较高，因此其挥发相当严重，在装载量较小时尤为如此。Bi2O3是形成电阻片晶界层的主要物质，它能够向ZnO晶粒边界分凝而形成晶粒表面无定形的Bi原子吸附层，引起ZnO晶粒表面能带弯曲。当电阻片烧结时，由于烧钵盖不严Bi2O3的挥发量大，从而导致一部分晶粒表面的Bi2O3原子吸附层不够完善，这种情况将直接引起电阻片晶界层发育的不完善，甚至晶界层消失，引起电阻片性能劣化，对电性能的影响则表现为残压比高、漏电流增大。因此，对于压敏电阻片的制造过程来说，烧钵的密封就显得尤为重要。烧钵体和盖体需重新加工后才能继续使用。目前，钵子研磨是将钵子口扣在金刚石磨盘上来回移动进行研磨，长时间、多次使用后，由于磨盘表面磨损物理损伤，平面度、粗糙度改变，导致钵子面磨不平，使用时密封不严，而且金刚石磨盘价格昂贵，综上可知传统的方法种种缺陷不利于其在生产制造过程中推广应用。发明人在长期从事压敏电阻的生产工程中，发现传统的压敏电阻烧钵研磨方法存在操作繁琐，效率、效果低，成本高的缺陷。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明的目的是提供一种压敏电阻烧钵研磨的方法及其使用的研磨设备，该方法操作方便，价格低廉，研磨效率高。为达到上述目的，本发明是按以下步骤进行研磨的将研磨器安装到钻床夹具上， 并将水管对准研磨器；将烧钵放置在钻床台面上；将钻床的研磨器降低至烧钵高度，开启钻床运转并来回移动烧钵进行研磨，研磨期间打开冷却水。在本发明中所使用的研磨设备包括钻床床体，在所述钻床床体的台面上部设置有研磨器，在所述研磨器的上部设置有水箱，从所述水箱中引出一水管。采用上述技术方案的有益效果是通过钻床来研磨的烧钵平整、密封性好，高温烧结时能有效的减少电阻片低熔点成分的挥发，提高产品性能；该方法操作方便，价格低廉， 研磨效率高。
下面结合附图对本发明作进一步说明。图1是本发明所述研磨设备的结构示意图。附图中，1.研磨器，2.钻床台面，3.烧钵，4.水管。
具体实施例方式本发明采用的研磨方法如下将研磨器1安装到钻床夹具上，并将水管4对准研磨器将烧钵3放置在钻床台面2上，将钻床的研磨器1降低至烧钵3高度，开启钻床运转并来回移动烧钵3进行研磨，研磨期间必须打开冷却水。在本发明中所使用的研磨设备包括钻床床体，在所述钻床床体的台面2上部设置有研磨器1，在所述研磨器1的上部设置有水箱，从所述水箱中引出一水管4。
权利要求
1.一种压敏电阻片的烧钵研磨的方法，其特征在于该研磨方法按下述步骤进行研磨的将研磨器安装到钻床夹具上，并将水管对准研磨器；将烧钵放置在钻床台面上；将钻床的研磨器降低至烧钵高度，开启钻床运转并来回移动烧钵进行研磨，研磨期间打开冷却水。
2.一种在权利要求1中使用的研磨设备，其特征在于该研磨设备包括钻床床体，在所述钻床床体的台面上部设置有研磨器，在所述研磨器的上部设置有水箱，从所述水箱中引出一水管。
全文摘要
本发明公开了一种压敏电阻烧钵研磨的方法及其使用的研磨设备，本发明是按以下步骤进行研磨的将研磨器安装到钻床夹具上，并将水管对准研磨器；将烧钵放置在钻床台面上；将钻床的研磨器降低至烧钵高度，开启钻床运转并来回移动烧钵进行研磨，研磨期间打开冷却水。在本发明中使用的研磨设备包括钻床床体，在所述钻床床体的台面上部设置有研磨器，在所述研磨器的上部设置有水箱，从所述水箱中引出一水管。采用上述技术方案的有益效果是通过钻床来研磨的烧钵平整、密封性好，高温烧结时能有效的减少电阻片低熔点成分的挥发，提高产品性能；该方法操作方便，价格低廉，研磨效率高。
文档编号B24B37/00GK102152230SQ20111003139
公开日2011年8月17日 申请日期2011年1月28日 优先权日2011年1月28日
发明者傅鹏立, 姚婴初, 李越, 杨婧, 靳国青 申请人:南阳金牛电气有限公司