离化装置及应用离化装置的镀膜装置的制作方法

文档序号:12008400阅读:331来源:国知局
离化装置及应用离化装置的镀膜装置的制作方法
本发明涉及一种离化装置及应用该离化装置的镀膜装置,尤其涉及一种用以提高蒸料离化率的离化装置。

背景技术:
现有采用蒸发镀膜装置进行镀膜的方法为:在真空条件下,用电子束或热电阻丝加热的方法,将放置于坩埚之中的蒸料加热至蒸发温度,使其蒸料蒸发并沉积在基材上形成膜层。然而,在沉积成膜的过程中,蒸发的蒸料离化率不足,蒸料的能量低,沉积速率低,导致所镀膜层与基材附着力较差,容易脱膜,且膜层的密度较小,因此难以制备出品质较好的膜层。

技术实现要素:
有鉴于此,提供一种能够有效提高蒸发镀膜膜层与基材结合力的离化装置。另外,还有必要提供一种应用上述离化装置的镀膜装置。一种离化装置,用于蒸发镀膜装置中,用以对蒸料原子或分子进行离化,该离化装置包括主体及装设于主体上的热电子发射系统和磁场发生装置,该主体呈管状结构,该主体包括一侧壁,侧壁围成腔体;该热电子发射系统包括设置于腔体内的电阻丝,该电阻丝与主体之间设置有直流电压;该磁场发生装置包括绕设于主体的密匝线圈及与密匝线圈相连通的第一电源。一种应用离化装置的蒸发镀膜装置,该蒸发镀膜装置包括反应室及设置于反应室内的坩埚,该离化装置设置于坩埚上方,该离化装置包括主体及装设于主体上的热电子发射系统和磁场发生装置,该主体呈管状结构,该主体包括一侧壁,侧壁围成腔体;该热电子发射系统包括设置于腔体内的电阻丝,该电阻丝与主体之间设置有直流电压;该磁场发生装置包括绕设于主体的密匝线圈及与密匝线圈相连通的第一电源。本发明离化装置应用于蒸发镀膜装置中,其可对蒸料原子或蒸料分子进行离化,进而提高蒸料的能量和沉积速率,使用该离化装置所制得的膜层与基材结合力较强,且膜层的质量高。附图说明图1为本发明一较佳实施例的离化装置的示意图;图2为图1中离化装置沿II-II方向的剖视示意图;图3为本发明一较佳实施例的离化装置的俯视示意图。主要元件符号说明离化装置100主体10腔体11侧壁13直流电源15热电子发射系统20电阻丝21绝缘垫23第一电源25磁场发生装置30密匝线圈31第二电源33冷却槽40如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。具体实施方式请参阅图1,本发明离化装置100,其用于蒸发镀膜装置(图未示)中,不仅可对气体进行离化,还可将蒸料原子或分子进行离化。结合参阅图2,该离化装置100包括一主体10及装设于主体10上的热电子发射系统20、磁场发生装置30和冷却槽40。该主体10为管状结构,且上下端均为开口设置。该主体10包括一侧壁13,该侧壁13围成一腔体11。该侧壁13的厚度为1-5cm,优选3cm。该主体10的材质为导电导热性能良好的金属或合金,如铝、不锈钢或铜等,优选为铜。该主体10的大小依据蒸发镀膜装置中的坩埚(图未示)的大小进行设计,通常主体10的直径为坩埚直径的1~3倍,优选为1.5倍。请参阅图2,该热电子发射系统20包括一电阻丝21及二绝缘垫23。该电阻丝21设置于腔体11内,且平行于侧壁13。该二绝缘垫23穿过侧壁13,且分别固接电阻丝21的两端,从而使电阻丝21固定于主体10的腔体11内。该电阻丝21的材质为钨或硼化镧。该绝缘垫23为陶瓷材质。该电阻丝21连通一第一电源25,开启该第一电源25,可使电阻丝21通电产生大量热量至发光状态,并向腔体11中发射热电子。该主体10与电阻丝21连接有一直流电源15,使主体10与电阻丝21形成直流电压,该主体10的外壁连接直流电源15的正极,该电阻丝21连接直流电源15的负极,即主体10的电位高于电阻丝21的电位。如此可使腔体11内产生由主体10指向电阻丝21的方向的电场,如图3所示。该磁场发生装置30包括绕设于侧壁13的一密匝线圈31及与密匝线圈31相连通的一第二电源33。该第二电源33可为直流或交流电源,并可调节通过密匝线圈31的电流大小。当密匝线圈31接通直流电源时,该磁场发生装置30将产生一沿着密匝线圈31纵向方向且垂直于电场线的恒定磁场;当密匝线圈31接通交流电源时,该磁场发生装置30将产生一沿着密匝线圈31纵向方向且垂直于电场线的交变磁场。该冷却槽40设置于侧壁13的内部。该冷却槽40内流通的冷却媒介可为水或氟氯烃。该冷却槽40还连接有一泵组(图未示),以驱动冷却媒介在冷却槽40中流通。当冷却媒介在冷却槽40内流通时,可对离化装置100进行降温。应用该离化装置100工作时,将其放入一蒸发镀膜装置(图未示)中的坩埚(图未示)上方;开启该第一电源25使电阻丝21通电,开启直流电压15使主体10与电阻丝21间形成电势差,开启与密匝线圈31相连接的第二电源33使密匝线圈31通电产生磁场。电阻丝21产生的热电子沿着电场线的反方向向主体10加速运动,并在磁场作用下,热电子被束缚在腔体11内作环形运动,形成环形的霍尔电流;坩埚内的蒸料原子或分子经蒸发从主体10底部进入腔体11内,并与运动的热电子发生碰撞进而被离化,成为带电的蒸料离子体。此外,蒸发镀膜装置内的气体原子或分子也可与热电子发生碰撞进而被离化。本发明离化装置100应用于蒸发镀膜装置中,其可对蒸料原子或蒸料分子进行离化,进而提高蒸料的能量和沉积速率,使用该离化装置100所制得的膜层与基材结合力较强,且膜层的质量高。
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