Pvd纳米涂层在医疗器械、制药压片模具制造中的应用的制作方法

文档序号:3342512阅读:636来源:国知局
专利名称:Pvd纳米涂层在医疗器械、制药压片模具制造中的应用的制作方法
技术领域
本发明涉及PVD纳米涂层技术领域,尤其涉及PVD纳米涂层在医疗器械、制药压片模具制造中的应用。
背景技术
金属医疗器械、制药压片模具工件应用非常广泛,但有些金属医疗器械、制药压片模具工件应用在一些特殊的环境中,长期受到工作特殊界面的磨擦以及工作环境严重的腐蚀,极大的考验了工件的耐磨性以及耐腐蚀性。
GMP(98版)I第32条认为“与药品直接接触的设备表面应光洁、平整、易清洗或消毒、耐腐蚀,不与药品发生化学变化或吸附药品。”再看美国CGMP3中211. 65条(a)款,其认为“设备表面与组份、中间物料或药品接触时应不起反应,无吸着、吸附作用,以不致改变药品的安全性、鉴别特征、含量或效价、质量或纯度而使之超出法定或其它既定要求。”2、制药工艺对制药设备的材料要求人们在关注制药设备材料应“易清洗或消毒、耐腐蚀,不与药品发生化学变化或吸附药品”的同时,更不要遗忘另一个选材原则,这便是不溶性微粒的有效控制。不溶性微粒产生的主要原因包括由于医药机械与所作用的药物之间打磨硬度之间的相对值基本一致,带来的粉碎微粒。如何避免这些不溶性微粒,是本领域常常遇到的问题。

发明内容
本发明的目的是提供一种医疗器械、制药压片模具及其生产工艺。本发明的又一目的在于提供PVD纳米涂层在医疗器械、制药压片模具领域的应用。根据本发明的一个方面,本发明提供了一种医疗器械、制药压片模具,包括金属医疗器械、制药压片模具的工件本体,所述金属医疗器械、制药压片模具的工件本体上镀PVD纳米涂层。所述医疗器械、制药压片模具,其生产工艺包括以下步骤I)超声波清洗;2) 二次炉内离子束放电清洗; 3)第三次离子束电弧清洗;4)真空炉内电场和磁场中以金属离子致密成膜。具体地,所述超声波清洗,具体为模具工件放进带中性净洗剂的超声波中清洗后,通过纯净水清洗,吹干或烘干处理后,进行检验合格后装夹。具体地,所述二次炉内离子束放电清洗,具体为将模具工件装进PVD真空镀膜机关门抽真空;在PVD真空镀膜机内进行加温处理,加温至100-450度,进行二次炉内离子束放电清洗。
具体地,所述第三次离子束电弧清洗,具体为,在真空背景下,炉内加入惰性气体,给模具工件加上100-1000V负偏压,打开电弧靶,进行炉内第三次离子束电弧清洗。具体地,所述真空炉内电场和磁场中以金属离子致密成膜,具体为炉内第三次离子束电弧清洗后,降低偏压、调节靶的电流、惰性气体的流量,真空炉内通过电场和磁场的作用下,使单金属靶或合金靶上的金属以离子方式在模具工件上致密成膜涂层,冷却出炉。具体地,所述惰性气体可以为氮气或氩气。具体地,所述医疗器械、制药压片模具可以是医疗塑料耗材模具的滑动顶针、滑块、滑动部件;还可以是压片机的冲杆和冲模、分装机的计量螺杆模具、药材粉碎机模具。
进一步地,所述医疗塑料耗材模具可以是注射器模具或点滴袋模具。进一步地,所述PVD纳米涂层的种类包括TiN、CrN、AlTiCrCN。PVD纳米涂层在医疗器械、制药压片模具制造中的应用。所述医疗器械、制药压片模具可以是医疗塑料耗材模具的滑动顶针、滑块、滑动部件;还可以是压片机的冲杆和冲模、分装机的计量螺杆模具、药材粉碎机模具。本发明具有以下有益效果其一、所提供的制药设备易清洗、消毒、更好的耐腐蚀,不与药品发生化学变化或吸附药品,其不溶性微粒也得到有效控制。其二、所提供的制作工艺,简单,易于操作和推广。其三、使PVD纳米涂层,在制药领域和医疗器械领域得到了推广和使用,给医疗器械和制药领域带来更为耐磨和耐腐蚀的材料。
具体实施例方式下面结合实施例对本发明的技术方案进一步说明。实施例一一种医疗器械、制药压片模具,包括金属医疗器械、制药压片模具的工件本体,所述金属医疗器械、制药压片模具的工件本体上镀PVD纳米涂层。所述医疗器械、制药压片模具,其生产工艺包括以下步骤I)超声波清洗;2) 二次炉内离子束放电清洗;3)第三次离子束电弧清洗;4)真空炉内电场和磁场中以金属离子致密成膜。具体地,所述超声波清洗,具体为模具工件放进带中性净洗剂的超声波中清洗后,通过纯净水清洗,吹干或烘干处理后,进行检验合格后装夹。具体地,所述二次炉内离子束放电清洗,具体为将模具工件装进PVD真空镀膜机关门抽真空;在PVD真空镀膜机内进行加温处理,加温至100-450度,进行二次炉内离子束放电清洗。具体地,所述第三次离子束电弧清洗,具体为,在真空背景下,炉内加入惰性气体,给模具工件加上100-1000V负偏压,打开电弧靶,进行炉内第三次离子束电弧清洗。具体地,所述真空炉内电场和磁场中以金属离子致密成膜,具体为炉内第三次离子束电弧清洗后,降低偏压、调节靶的电流、惰性气体的流量,真空炉内通过电场和磁场的作用下,使单金属靶或合金靶上的金属以离子方式在模具工件上致密成膜涂层,冷却出炉。具体地,所述惰性气体可以为氮气或氩气。实施例二根据医疗器械、制药压片模具的应用环境,在适用材质上可选用不同的PVD纳米涂层,涂层的种类包括TiN、CrN、AlTiCrCN。TiN是通用型标准的涂层高耐磨性和耐腐蚀性,适用医疗器械易磨损部件和制药压片模具;CrN高耐腐蚀性、耐高温和耐磨损,适用医疗塑料耗材模具,如注射器模具、点滴袋模具等;AlTiCrCN低磨擦系数和良好的抗磨损性,适用于塑胶模具上的滑动顶针、滑块、滑动部件,改善粘模。本发明并不局限于上述具体实施方式
,根据上述说明书的揭示和指导,本发明所属领域的技术人员还可对上述实施方式进行适当的变更和修改,其变更也应当落入本发明 的权利要求的保护范围。此外,尽管本说明书中使用了一些特定的术语,但这些术语只是为了方便说明,并不对本发明构成任何限制。
权利要求
1.医疗器械、制药压片模具,其特征在于包括金属医疗器械、制药压片模具的工件本体,所述金属医疗器械、制药压片模具的工件本体上镀PVD纳米涂层。
2.根据权利要求1所述医疗器械、制药压片模具,其特征在于其生产工艺包括以下步骤1)超声波清洗;2)二次炉内离子束放电清洗;3)第三次离子束电弧清洗;4)真空炉内电场和磁场中以金属离子致密成膜。
3.根据权利要求2所述医疗器械、制药压片模具,其特征在于所述超声波清洗,具体为模具工件放进带中性净洗剂的超声波中清洗后,通过纯净水清洗,吹干或烘干处理后,进行检验合格后装夹。
4.根据权利要求2所述医疗器械、制药压片模具,其特征在于所述二次炉内离子束放电清洗,具体为将模具工件装进PVD真空镀膜机关门抽真空;在PVD真空镀膜机内进行加温处理,加温至100-450度,进行二次炉内离子束放电清洗。
5.根据权利要求2所述医疗器械、制药压片模具,其特征在于所述第三次离子束电弧清洗,具体为,在真空背景下,炉内加入惰性气体,给模具工件加上100-1000V负偏压,打开电弧靶,进行炉内第三次离子束电弧清洗。
6.根据权利要求2所述医疗器械、制药压片模具,其特征在于所述真空炉内电场和磁场中以金属离子致密成膜,具体为炉内第三次离子束电弧清洗后,降低偏压、调节靶的电流、惰性气体的流量,真空炉内通过电场和磁场的作用下,使单金属靶或合金靶上的金属以离子方式在模具工件上致密成膜涂层,冷却出炉。
7.根据权利要求1所述医疗器械、制药压片模具,其特征在于所述医疗器械、制药压片模具可以是医疗塑料耗材模具的滑动顶针、滑块、滑动部件;还可以是压片机的冲杆和冲模、分装机的计量螺杆模具、药材粉碎机模具。
8.根据权利要求1所述医疗器械、制药压片模具,其特征在于所述PVD纳米涂层的种类包括TiN、CrN、AlTiCrCN。
9.PVD纳米涂层在医疗器械、制药压片模具制造中的应用。
10.根据权利要求9所述PVD纳米涂层在医疗器械、制药压片模具制造中的应用,其特征在于所述医疗器械、制药压片模具可以是医疗塑料耗材模具的滑动顶针、滑块、滑动部件;还可以是压片机的冲杆和冲模、分装机的计量螺杆模具、药材粉碎机模具。
全文摘要
本发明公开了一种医疗器械、制药压片模具,包括金属医疗器械、制药压片模具的工件本体,所述金属医疗器械、制药压片模具的工件本体上镀PVD纳米涂层。所述医疗器械、制药压片模具生产工艺,包括以下步骤超声波清洗;二次炉内离子束放电清洗;第三次离子束电弧清洗;真空炉内电场和磁场中以金属离子致密成膜。本发明具有以下有益效果其一、所提供的制药设备易清洗、消毒、更好的耐腐蚀,不与药品发生化学变化或吸附药品,其不溶性微粒也得到有效控制。其二、所提供的制作工艺,简单,易于操作和推广。其三、使PVD纳米涂层,在制药领域和医疗器械领域得到了推广和使用,给医疗器械和制药领域带来更为耐磨和耐腐蚀的材料。
文档编号C23C14/06GK103014629SQ20121053651
公开日2013年4月3日 申请日期2012年12月12日 优先权日2012年12月12日
发明者何霞文 申请人:何霞文
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