Ito镀膜工艺中的氩气传输装置制造方法
【专利摘要】一种ITO镀膜工艺中的氩气传输装置，包括进气管、散气管和出气管，散气管设置在出气管内部，进气管穿过出气管后插入散气管内设置，其特征在于：所述进气管外表面中下部开有进气孔，进气管下端口封闭，散气管外表面开有散气孔，散气管上端口和下端口均被密封，出气管右侧外表面开有出气孔，出气管上端口和下端口均被密封。本实用新型结构简单，制造成本低，氩气能均匀分布在靶材附近，使镀在玻璃基板上的膜层厚度平均，使各处电阻均匀，从而提高产品质量。
【专利说明】ITO镀膜工艺中的氩气传输装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种氩气传输装置，尤其涉及一种ITO镀膜工艺中的氩气传输装置。
【背景技术】
[0002]在ITO镀膜的工艺中氩气是不可缺少的溅射气体，为了得到均匀的膜层，充气系统设计是非常重要的环节之一。以前设备配备的氩气充气系统是由质量流量控制器控制，经6_的不锈钢充气管道直接输送进设备真空系统，在正常生产中，经常会出现镀在玻璃基板上的膜层厚度不平均，电阻不均匀的现象(一般为上面电阻小，下面电阻大)，造成产品质量不稳定，特别是目前使用的2.5米高的设备，充气不均现象困扰着产品质量的提高。
【发明内容】
[0003]经过反复实验研究，对气体分散的路径改变使气体能够较均匀的分散在靶材附近，能使气体分布达到所需要求，使镀在玻璃基板上的膜层厚度平均，使各处电阻均匀。
[0004]为了达到上述目的，本实用新型的技术方案为:一种ITO镀膜工艺中的氩气传输装置，包括进气管、散气管和出气管，散气管设置在出气管内部，进气管穿过出气管后插入散气管内设置，进气管外表面中下部开有进气孔，进气管下端口封闭，散气管外表面开有散气孔，散气管上端口和下端口均被密封，出气管右侧外表面开有出气孔，出气管上端口和下端口均被密封。
[0005]进气孔均匀设置在进气管中下部侧壁上，散气孔均布设置在散气管侧壁上，出气孔均布设置在出气管右侧壁上，所述进气孔、散气孔和出气孔不均在同一轴线上。
[0006]所述进气孔直径为0.1mm。
[0007]所述进气管外径为6mm,所述散气管外径为IOmm,所述出气管外径为14mm。
[0008]本实用新型结构简单，制造成本低，氩气能均匀分布在靶材附近，使镀在玻璃基板上的膜层厚度平均，使各处电阻均匀，从而提高产品质量。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型结构示意图；
[0010]图2为图1中A处局部放大示意图。
【具体实施方式】
[0011]如图1和图2所示，一种ITO镀膜工艺中的氩气传输装置，包括进气管1、散气管2和出气管3，散气管2设置在出气管3内部，进气管I穿过出气管3后插入散气管2内设置，其特征在于:所述进气管I外表面中下部开有进气孔4，进气管I下端口封闭，散气管2外表面开有散气孔5,散气管2上端口和下端口均被密封,出气管3右侧外表面开有出气孔6，出气管3上端口和下端口均被密封。[0012]进气管I与外部氩气供应管道连接，氩气进入进气管I后，从进气孔4进入散气管2，因为进气孔4、散气孔5和出气孔6不均在同一轴线上，所以氩气先与散气管2内壁发生碰撞反弹，然后经过散气孔5进入出气管3，与出气管3内壁碰撞反弹，氩气经过在散气管2和出气管3内部的碰撞反弹之后可以均匀的从气孔6喷出。
[0013]进气孔4直径为0.1mm。进气管I外径为6mm,散气管2外径为IOmm,出气管3外径为14mm，可以满足ITO镀膜工艺的用气需求，且不会造成浪费。
【权利要求】
1.一种ITO镀膜工艺中的氩气传输装置，包括进气管、散气管和出气管，散气管设置在出气管内部，进气管穿过出气管后插入散气管内设置，其特征在于:所述进气管外表面中下部开有进气孔，进气管下端口封闭，散气管外表面开有散气孔，散气管上端口和下端口均被密封，出气管右侧外表面开有出气孔，出气管上端口和下端口均被密封。
2.如权利要求1所述的ITO镀膜工艺中的氩气传输装置，其特征在于:进气孔均匀设置在进气管中下部侧壁上，散气孔均布设置在散气管侧壁上，出气孔均布设置在出气管右侧壁上，所述进气孔、散气孔和出气孔不均在同一轴线上。
3.如权利要求1所述的ITO镀膜工艺中的氩气传输装置，其特征在于:所述进气孔直径为0.1mm。
4.如权利要求1所述的ITO镀膜工艺中的氩气传输装置，其特征在于:所述进气管外径为6mm，所述散气管外径为10mm，所述出气管外径为14mm。
【文档编号】C23C14/34GK203668505SQ201320819671
【公开日】2014年6月25日 申请日期:2013年12月14日 优先权日:2013年12月14日
【发明者】胡凡, 范永生, 王旭亮 申请人:三门峡康耀电子有限公司