薄膜电容器端子专用铸焊合金组合物的制作方法

文档序号:3324680阅读:193来源:国知局
薄膜电容器端子专用铸焊合金组合物的制作方法
【专利摘要】一种薄膜电容器端子专用铸焊合金组合物,其特征在于,是由以下质量百分比的组分构成:锡0.6-0.8%、钛0.2-0.4%、钇0.02-0.03%、金属铟0.006-0.007%、其余组分铜。本发明对传统铸焊合金的配方进行了优化,锡含量控制在0.6-0.8%之间,另外添加了0.2-0.4%的金属钛,保证合金流动性的同时,降低生产成本,提高耐腐性。
【专利说明】薄膜电容器端子专用铸焊合金组合物

【技术领域】
[0001] 本发明涉及合金材料【技术领域】,具体涉及一种薄膜电容器端子专用铸焊合金组合 物。

【背景技术】
[0002] 薄膜电容器是一种性能优越的电容器,其具有如下主要特性:无极性,绝缘阻抗很 高,频率特性优异(频率响应宽广),介质损失很小,并且体积小容量大。因此,薄膜电容 器有着较为广泛的用途,可以形成不同的系列产品,如高比能储能电容器、抗电磁干扰电容 器、抗辐射电容器、安全膜电容器、长寿命电容器、高可靠电容器、高压全膜电容器等。薄膜 电容器的结构形式主要有二种:一种结构形式是以金属箔当电极,将金属箔和塑料薄膜层 叠后卷绕在一起而制成;薄膜电容器的另一种结构形式,是采用金属化薄膜来制作,金属化 薄膜是由塑料薄膜上真空蒸镀上一层很薄的金属构成,该层金属被用来作为电极,即相当 于传统薄膜电容器的金属箔;采用金属化薄膜来制作薄膜电容器,可以省去电极箔的厚度, 进一步缩小电容器单位容量的体积,所以该种方式较容易制成体积小、容量大的电容器。传 统的铸焊端子用合金材料流动性能差,易腐蚀。


【发明内容】

[0003] 本发明所要解决的技术问题在于提供一种流动性好,耐腐蚀的薄膜电容器端子专 用铸焊合金组合物。
[0004] 本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
[0005] -种薄膜电容器端子专用铸焊合金组合物,是由以下质量百分比的组分构成:

【权利要求】
1. 一种薄膜电容器端子专用铸焊合金组合物,其特征在于,是由以下质量百分比的组 分构成: 锡 0. 6-0. 8% 钛 0. 2-0. 4% 令乙 0. 02-0. 03% 金试铟 〇. ()〇6-(). ()()7% 其余组分铜。
2. 根据权利要求1所述的薄膜电容器端子专用铸焊合金组合物,其特征在于,是由以 下质量百分比的组分构成: 锡 0? 7% 钛 0.3% 韦乙 0.025% 金属铟0. 0065% 其余组分铜。
【文档编号】C22C9/02GK104480343SQ201410697072
【公开日】2015年4月1日 申请日期:2014年11月26日 优先权日:2014年11月26日
【发明者】孔祥新 申请人:铜陵市新泰电容电器有限责任公司
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