真空涂覆设备的捕水机构的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空涂覆设备的捕水机构，包括固定在真空仓体上的冷阱仓体、设于冷阱仓体内部的制冷盘管和与冷阱仓体相连的调整机构，其中冷阱仓体包括本体和与本体相匹配的盖体，该盖体位于真空仓体的内部，盖体与调整机构相连。本实用新型真空涂覆设备的捕水机构具有工作效率高和产能消耗低的特点。
【专利说明】真空涂覆设备的捕水机构
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及到一种捕水机构，特别涉及到一种真空涂覆设备的捕水机构。
【背景技术】
[0002]真空涂覆设备广泛的运用于精密器件的镀膜操作中，其一般包括一个真空仓体，以满足真空镀膜的需要。为了使得真空仓体围成的腔体具有较高的真空度，现有的真空涂覆设备的真空仓体中设有捕水机构，该捕水机构的制冷盘管经常被安装在高阀与真空腔之间、真空腔内或卷绕镀膜上下室内等部位，该制冷盘管与真空室总是处于连通的状态，当真空涂覆设备需要开门取出成品时，往往需要通过加热除霜装置对制冷盘管进行加热，使其在每次开门之前恢复到常温，以避免制冷盘管从大气中吸收大量的水汽而结霜，影响下次抽真空。由于每次开门之前都需要有加热除霜装置对制冷盘管进行加热，因此这种真空涂覆设备的捕水机构具有工作效率低和产能消耗高的缺点。
实用新型内容
[0003]本实用新型要解决的技术问题是提供一种工作效率高和产能消耗低的真空涂覆设备的捕水机构。
[0004]根据本实用新型的一个方面，提供了一种真空涂覆设备的捕水机构，包括固定在真空仓体上的冷阱仓体、设于冷阱仓体内部的制冷盘管和与冷阱仓体相连的调整机构，其中冷阱仓体包括本体和与本体相匹配的盖体，该盖体位于真空仓体的内部，盖体与调整机构相连。
[0005]本实用新型真空涂覆设备的捕水机构的有益效果是:由于在冷阱仓体的本体和盖体围成的腔室中设有制冷盘管，且该盖体与调整机构相连，即可以实现当真空涂覆设备的真空仓体关门抽真空时，调整机构控制盖体与本体分离，此时冷阱仓体的腔室与真空仓体的腔室相连通，制冷盘管超低温表面能够有效地夺取腔室中水蒸气，从而实现真空仓体的真空腔室被快速抽真空；当真空涂覆设备的真空仓体需要开门取出成品时，调整机构控制盖体与本体气密封配合，此时冷阱仓体的腔室与真空仓体的腔室断开连通，因此可以直接打开真空仓体的仓门，而不需要每次开门前都需要有加热除霜装置对制冷盘管进行加热。综上所述，本实用新型真空涂覆设备的捕水机构具有工作效率高和产能消耗低的优点。
[0006]在一些实施方式中，制冷盘管可以为螺旋状，其一端为冷媒的流入端，另一端为冷媒的流出端，该流入端和流出端均由冷阱仓体的内部向外部延伸出。由于制冷盘管为紧密排列的螺旋状，即其表面积大，因此其具有捕集水蒸气速度快、效率高和占有体积小的优点。
[0007]在一些实施方式中，调整机构可以设于冷阱仓体内部，该调整机构包括气缸、设于气缸内部的柱塞和一端与柱塞相连的连杆，该连杆的另一端与盖体相连，该气缸固定在本体上。由于通过连杆连接柱塞和盖体，通过控制气缸的通气情况就可实现柱塞带动盖体实现盖体的打开和闭合，因此本实用新型真空涂覆设备的捕水机构具有结构简单和控制方便的优点。
[0008]在一些实施方式中，柱塞与连杆相连的一侧可以设有弹簧,另一侧与气缸围成气腔，该弹簧与连杆套接，该弹簧的一端与柱塞相连，另一端与气缸的内壁相连。由于柱塞与连杆相连的一侧可以设有弹簧，另一侧与气缸围成气腔，当向气腔中通入高压空气时，弹簧被压缩，冷阱仓体的盖体被打开；当停止向气腔中通入高压空气时，在弹簧的回复力的作用下，冷阱仓体的盖体闭合。因此本实用新型真空涂覆设备的捕水机构具有结构简单和控制方便的优点。
[0009]在一些实施方之中，还可以包括进气管，该进气管与气腔相连通。通过进气管的连通，可以为气腔提供所需的气压，从而实现冷阱仓体的盖体的打开和闭合。
[0010]在一些实施方之中，柱塞和连杆相连的一侧与气缸围成第一气腔，另一侧与气缸围成第二气腔。由于柱塞的两侧分别形成第一气腔和第二气腔，通过控制第一气腔和第二气腔的通气情况就可以实现冷阱仓体的盖体的打开和闭合，因此本实用新型真空涂覆设备的捕水机构具有结构简单和控制方便的优点。
[0011]在一些实施方式中，还可以包括第一进气管和第二进气管，其中第一进气管与第一气腔相连通，该第二进气管与第二气腔相连通。由于相应进气管和气腔的相连通，通过进气管可以为相应的气腔提供所需的气压，从而实现冷阱仓体的盖体的打开和闭合。
[0012]在一些实施方式中，还可以包括抽真空管，该抽真空管与冷阱仓体的内腔相连通。由于设有与冷阱仓体的内腔相连通的抽真空管，且该抽真空管的另一端与真空泵相连，即在正常工作中，其能够为冷阱仓体和真空仓体的腔室中的气流提供牵引力，同时通过该抽真空管可以及时排除除霜操作得到的水汽，因此本实用新型具有实用性强的优点。
[0013]在一些实施方式中，盖体的周围可以设有密封圈。通过在盖体的周围设有密封圈，可以保证在盖体闭合的情况下，其能够与冷阱仓体的本体更好的气密封配合，因此本实用新型真空涂覆设备的捕水机构具有实用性强的优点。
【专利附图】
【附图说明】
[0014]图1是本实用新型真空涂覆设备的捕水机构一种实施方式的结构示意图；
[0015]图2是图1中真空涂覆设备的捕水机构另一视角的结构示意图；
[0016]图3是图2中真空涂覆设备的捕水机构沿1-1的剖视图；
[0017]图4是本实用新型真空涂覆设备的捕水机构另一种实施方式的结构示意图。
【具体实施方式】
[0018]下面结合附图对本实用新型作进一步详细说明。
[0019]图1至图3给出了本实用新型真空涂覆设备的捕水机构的一个实施例，该实施例中，真空涂覆设备的捕水机构包括固定在真空仓体I上的冷阱仓体2、设于冷阱仓体2内部的制冷盘管3、与冷阱仓体2相连的调整机构4以及与冷阱仓体2的内腔相连通的抽真空管6，其中冷阱仓体2包括本体21和与本体21相匹配的盖体22，该盖体22位于真空仓体I的内部，盖体22与调整机构4相连。盖体22的周围为凸台结构，本体21上开设有与之相匹配的凹槽，从而实现盖体22和本体21的紧密配合，同时为了更好实现盖体22和本体21的气密封配合，在盖体22凸台结构的表面套设有密封圈221。[0020]制冷盘管3为螺旋状，其一端为冷媒的流入端31，另一端为冷媒的流出端32，流入端31和流出端32均由冷阱仓体2的内部向外部延伸出。通过冷媒在制冷盘管3中循环流动，可以保证制冷盘管3的表面一直维持在超低温，从而能够有效地夺取水蒸气，实现快速抽真空和满足高的真空度要求。
[0021]调整机构4设于冷阱仓体2的内部，该调整机构4包括气缸41、设于气缸41内部的柱塞42和一端与柱塞42通过螺栓固定相连的连杆43，该连杆43的另一端与盖体22通过螺栓固定相连，气缸41固定在本体21上。柱塞42和连杆43相连的一侧与气缸41围成第一气腔451，另一侧与气缸41围成第二气腔452，冷阱仓体2上设有第一进气管51和第二进气管52，该第一气腔451与第一进气管51相连通，该第二气腔452与第二进气管52相连通，通过第一进气管51和第二进气管52，可以为相应的第一气腔451和第二气腔452提供所需的气压。
[0022]抽真空管6的一端与冷阱仓体2的内腔相连通，另一端与真空泵相连。正常工作时，与抽真空管6相连的真空泵能够为冷阱仓体2和真空仓体I的腔室中的气流提供牵引力，即提供抽真空的动力。当多次捕集水蒸气后，制冷盘管3的表层的霜层到达一定厚度，即影响到抽真空效率时，通过加热除霜装置对制冷盘管3进行加热，除去其表面的霜层，使其变为水汽，并且通过设于冷阱仓体2上的抽真空管6，可以将冷阱仓体2中的水汽及时抽出，即实现给制冷盘管3的除霜，这样本实用新型真空涂覆设备的捕水机构又可以高效的捕集水蒸气，且可以持续多次不用再进行除霜操作，直到制冷盘管3表面的冰层到达一定厚度。
[0023]本实施例中真空涂覆设备的捕水机构的数量可以一个或多个，其可以安装在相应真空涂覆设备的任何位置，保证当盖体22和本体21分离时，真空仓体I和冷阱仓体2的腔室相连通即可。
[0024]当使用本实施例中真空涂覆设备的捕水机构的真空涂覆设备的真空仓体I关门抽真空时，如图3所示，通过第二进气管52向第二气腔452中通入高压空气，此时柱塞42被推动向上运动，与柱塞42相连的连杆43会向上推动盖体22运动，即调整机构4控制盖体22与本体21分离，此时冷阱仓体2的腔室与真空仓体I的腔室相连通，制冷盘管3超低温表面能够有效地夺取腔室中的水蒸气，从而实现真空仓体I的真空腔室被快速抽真空。
[0025]当使用本实施例中真空涂覆设备的捕水机构的真空涂覆设备的真空仓体I需要开门取出成品时，通过第一进气管51向第一气腔451中通入高压空气，此时柱塞42被推动向下运动，与柱塞42相连的连杆43会向下拉动盖体22运动，即调整机构4控制盖体22与本体21气密封配合，此时冷阱仓体2的腔室与真空仓体I的腔室断开连通，因此可以直接打开真空仓体I的仓门，而不需要每次开门前都需要有加热除霜装置对制冷盘管3进行加热。
[0026]一般真空涂覆设备的真空腔室中的水蒸气主要来自外界空气，其含量相对较少，采用本实用新型真空涂覆设备的捕水机构，能够保证制冷盘管3经过多次捕集水蒸气后，其表面的霜层较薄，即其表面仍然维持在超低温，能够有效的捕集真空腔室中的水蒸气。在本实用新型真空涂覆设备的捕水机构经过多次循环工作后，其表面的冰层到达一定厚度时，即制冷盘管3不能够有效的捕集真空腔室中的水蒸气时，首先通过调整机构4控制盖体22与本体21处于气密封状态，再通过加热除霜装置对制冷盘管3进行加热，除去其表面的霜层，让其变为水汽，同时打开与抽真空管6的真空泵，让制冷盘管3表面形成的水汽从抽真空管6中排出，此时可以实现给制冷盘管3的除霜，这样本实用新型真空涂覆设备的捕水机构又可以高效的捕集水蒸气，且可以持续多次不用再进行除霜操作，直到制冷盘管3表面的冰层到达一定厚度。当真空涂覆设备上只设有一个本实用新型真空涂覆设备的捕水机构时，该捕水机构进行除霜操作可以与从真空仓体I中取出成品操作同步，如此不需要为除霜操作花费额外的时间，可以提高工作效率；当真空涂覆设备上设有多个本实用新型真空涂覆设备的捕水机构时，可以多个捕水机构交替除霜，如此即可以保证捕水效率，也可以提高工作效率。综上所述，本实用新型真空涂覆设备的捕水机构避免了每次真空仓体I开门前都需要进行加热除霜操作，节约了生产时间同时也降低了产能的消耗。
[0027]图4给出了本实用新型真空涂覆设备的捕水机构的另一个实施例，该实施例中，真空涂覆设备的捕水机构与第一个实施例中不同的是:其调整机构4包括气缸41、设于气缸41内部的柱塞42和一端与柱塞42通过螺栓固定相连的连杆43,该连杆43的另一端与盖体22通过螺栓固定相连，气缸41与本体21为一体成型结构。柱塞42与连杆43相连的一侧设有弹簧44,另一侧与气缸41围成气腔45,该弹簧44与连杆43套接,弹簧44的一端与柱塞42相连，另一端与气缸41的内壁相连，冷阱仓体2上设有进气管5，气腔45与进气管5相连通，通过进气管5可以为气腔45提供所需的气压。
[0028]该实施例与第一个实施例中的其它部分的结构相同，它同样能够实现相同的技术效果。
[0029]当使用本实施例中真空涂覆设备的捕水机构的真空涂覆设备的真空仓体I关门抽真空时，如图4所示，通过进气管5向第二气腔45中通入高压空气，此时柱塞42被推动向上运动，与柱塞42相连的连杆43会向上推动盖体22运动，即调整机构4控制盖体22与本体21分离，此时冷阱仓体2的腔室与真空仓体I的腔室相连通，制冷盘管3超低温表面能够有效地夺取腔室中的水蒸气，从而实现真空仓体I的真空腔室被快速抽真空。
[0030]当使用本实施例中真空涂覆设备的捕水机构的真空涂覆设备的真空仓体I需要开门取出成品时，气腔45通过进气管5与低压空气相连通，此时在弹簧44的回复力作用下，柱塞42被推动向下运动，与柱塞42相连的连杆43会向下拉动盖体22运动，即调整机构4控制盖体22与本体21气密封配合，此时冷阱仓体2的腔室与真空仓体I的腔室断开连通，因此可以直接打开真空仓体I的仓门，而不需要每次开门前都需要有加热除霜装置对制冷盘管3进行加热。
[0031]以上仅是本实用新型的一些实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。
【权利要求】
1.真空涂覆设备的捕水机构，其特征在于，包括固定在真空仓体(I)上的冷阱仓体(2)、设于冷阱仓体(2)内部的制冷盘管(3)和与冷阱仓体(2)相连的调整机构(4)，所述冷阱仓体(2)包括本体(21)和与本体(21)相匹配的盖体(22)，所述盖体(22)位于真空仓体Cl)的内部，所述盖体(22)与调整机构(4)相连。
2.根据权利要求1所述的真空涂覆设备的捕水机构，其特征在于，所述制冷盘管(3)为螺旋状，其一端为冷媒的流入端(31)，另一端为冷媒的流出端(32)，所述流入端(31)和流出端(32)均由冷阱仓体(2)的内部向外部延伸出。
3.根据权利要求2所述的真空涂覆设备的捕水机构，其特征在于，所述调整机构(4)设于冷阱仓体(2)内部，所述调整机构(4)包括气缸(41)、设于气缸(41)内部的柱塞(42)和一端与柱塞(42)相连的连杆(43)，所述连杆(43)的另一端与盖体(22)相连，所述气缸(41)固定在本体(21)上。
4.根据权利要求3所述的真空涂覆设备的捕水机构，其特征在于，所述柱塞(42)与连杆(43)相连的一侧设有弹簧(44),另一侧与气缸(41)围成气腔(45),所述弹簧(44)与连杆(43)套接，所述弹簧(44)的一端与柱塞(42)相连，另一端与气缸(41)的内壁相连。
5.根据权利要求4所述的真空涂覆设备的捕水机构，其特征在于，还包括进气管(5)，所述进气管(5)与气腔(45)相连通。
6.根据权利要求3所述的真空涂覆设备的捕水机构，其特征在于，所述柱塞(42)和连杆(43)相连的一侧与气缸(41)围成第一气腔(451)，另一侧与气缸(41)围成第二气腔(452)。
7.根据权利要求6所述的真空涂覆设备的捕水机构，其特征在于，还包括第一进气管(51)和第二进气管(52)，所述第一进气管(51)与第一气腔(451)相连通，所述第二进气管(52)与第二气腔(452)相连通。
8.根据权利要求1所述的真空涂覆设备的捕水机构，其特征在于，还包括抽真空管(6)，所述抽真空管(6)与冷阱仓体(2)的内腔相连通。
9.根据权利要求1?8任一项所述的真空涂覆设备的捕水机构，其特征在于，所述盖体(22)的周围设有密封圈(221)。
【文档编号】C23C14/56GK203668509SQ201420020266
【公开日】2014年6月25日 申请日期:2014年1月13日 优先权日:2014年1月13日
【发明者】刘双良, 雷志钵 申请人:东莞市华星纳米科技有限公司