本发明涉及光学材料技术领域，特别是一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法。
背景技术：
光学材料是用于光学实验和光学仪器中的具有一定光学性质和功能的材料的统称，光介质材料是传输光线的材料，入射光学材料的光线经过折射、反射会改变光线的方向、位相和偏振态，还可经过吸收或散射改变光线的强度和光谱成分。光学薄膜是由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料，现今光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。
光学薄膜传统上采用真空镀膜工艺来制备，主流上是采用单一材料单一的成膜方式，制备只有单一折射率的光学材料，这种材料折射率控制范围较小，在特定应用中需要制备折射率连续渐变的光学材料，目前已有相关的技术文献提出了渐变折射率光学材料的制备方法，如中国发明专利（公开号：104678461A）所公开的渐变折射率材料制备方法，其基于真空镀膜工艺进行改进，具体方式为：提供一基底，采用掠入射角镀膜或者化学腐蚀方式在所述基底表面镀渐变折射率层，所述渐变折射率层是以传统光学材料为基础，通过改变结构中材料与空隙的体积比，从而调节所述渐变折射率层的有效折射率。
上述方法是采用传统的镀膜或化学腐蚀工艺进行分段成膜的方式，可形成折射率分段渐变的光学材料，在单层膜层内折射率还是没有变化，所有其折射率实际上是分段变化，而非线性的连续变化，除此之外，还有采用不同折射率的材料进行堆叠以达到不同的光学折射率的目的，此方法与单一材料分段成膜一样，在单层膜层内折射率没有变化，渐变缺乏持续性，而且分段蒸镀膜层工艺难度和成本均较大。
有鉴于此，本发明人为克服上述缺陷，提出一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法，本案由此产生。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法，通过对蒸镀光学薄膜的密度进行连续性控制，实现蒸镀光学薄膜的折射率的连续控制，制得光学薄膜产品具有更好的光学性能，可有效增加对光的穿透或反射的控制。
为了实现上述目的，本发明的技术方案如下：
一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法片，包括以下步骤：
一、样品台设置：提供一基底，将基底设置在通过转动轴实现转动的样品台上，且样品台的转动轴与基底表面平行，
二、材料源设置：提供一蒸镀源或溅射靶材，调整蒸镀源或溅射靶材位置，使其向基底入射的方向与样品台的转动轴垂直，蒸镀源或溅射靶材入射方向与基底之间形成可变化的夹角；
三、镀膜控制：蒸镀源或溅射靶材向样品台上的基底送入镀膜材料，此时不断转动样品台并控制转速，使基底与蒸镀源或溅射靶材之间的夹角在0-90°内连续变化，制得密度可连续变化的光学薄膜。
所述转动轴安装在样品台的中线上。
采用上述方案后，本发明具有以下优点：
1、通过不断变化基底与蒸镀源或溅射靶材之间的夹角，对所蒸镀光学薄膜的密度进行连续性控制，实现光学薄膜折射率的连续变化；
2、通过控制样品台转速和转动方向，即可随意控制所镀光学薄膜折射率趋势，可以从由大到小，由小到大，或者周期性变化；
3、本发明制备的光学薄膜具有连续变化的光学性能，可用于太阳能电池，光电探测器，LED，LD等光学器件中，以增加光的穿透，反射等特性。
总之，本发明的倒装LED芯片生产流程更为简易，成本较低，发光效率高。
附图说明
图1是本发明光学薄膜制备过程图。
具体实施方式
如图1所示，本发明揭示的一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法，
一、样品台设置：提供一基底1（即样品），将基底1设置在通过转动轴实现转动的样品台2上，且样品台2的转动轴与基底表面平行，
二、材料源设置：提供一蒸镀源或溅射靶材3，调整蒸镀源或溅射靶材3的位置，使其向基底1入射的方向与样品台2的转动轴垂直，蒸镀源或溅射靶材3入射方向与基底之间形成可变化的夹角；
三、镀膜控制：蒸镀源或溅射靶材3向样品台上的基底送入镀膜材料31，此时不断转动样品台并控制转速，使基底1与蒸镀源或溅射靶材3之间的夹角在0-90°内连续变化，制得密度可连续变化的光学薄膜。
将转动轴安装在样品台的中线上，然后将蒸镀源或溅射靶材3对准基底的中心点，镀膜材料31可均匀的分布在基低1上。
以上仅为本发明的具体实施例，并非对本发明的保护范围的限定。凡依本案的设计思路所做的等同变化，均落入本案的保护范围。