1.一种在塑料薄膜上制作多层光学膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：
将磁控溅射镀膜机的腔体抽至真空，通入氩气，将透明塑料薄膜卷放于磁控溅射镀膜机的转动辊上，通过控制转动辊进行转动，在透明塑料薄膜表面进行磁控溅射沉积镀膜，其中靶材包括靶材A和靶材B，形成ABAB或BABA交替叠加结构的多层光学膜，靶材A为高折射率靶材，靶材B为低折射率靶材。
2.根据权利要求1所述的在塑料薄膜上制作多层光学膜的方法，其特征在于，靶材A为二氧化硅、氟化镁或氟化钙中的一种，靶材B为二氧化钛、五氧化三钛、二氧化锆、氧化铈或氧化锌中的一种；
优选地，靶材A为二氧化硅，靶材B为二氧化钛或五氧化三钛中的一种；更优选地，靶材B为二氧化钛。
3.根据权利要求1所述的在塑料薄膜上制作多层光学膜的方法，其特征在于，腔体的真空度≤4.5×10-7Torr，通入氩气后的真空度4.5×10-3～6.5×10-3Torr；
优选地，腔体的真空度≤3.5×10-7Torr，通入氩气后的真空度为5.5×10-3Torr。
4.根据权利要求1-3任一项所述的在塑料薄膜上制作多层光学膜的方法，其特征在于，磁控溅射镀膜机设有1号靶机、2号靶机、3号靶机；1号靶机和3号靶机上设为靶材A，2号靶机上设为靶材B，或者，1号靶机和3号靶机上设为靶材B，2号靶机上设为靶材A。
5.根据权利要求1-3任一项所述的在塑料薄膜上制作多层光学膜的方法，其特征在于，转动辊正向转动时，同时开启1号靶机、2号靶机和3号靶机；转动辊反向转动时，同时开启1号靶机和2号靶机，关闭3号靶机。
6.根据权利要求1-3所述的在塑料薄膜上制作多层光学膜的方法，其特征在于，磁控溅射镀膜机靶电流为2.5-8.1A。
7.根据权利要求1-3所述的在塑料薄膜上制作多层光学膜的方法，其特征在于，透明塑料薄膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对萘二甲酸乙二醇酯、聚氯乙烯或聚丙烯中的一种。
8.一种多层光学薄膜，其特征在于，在透明塑料薄膜上进行磁控溅射沉积镀膜，以在其表面形成ABAB或BABA交替叠加结构的多层光学膜，其中A为高折射率靶材，B为低折射率靶材。
9.根据权利要求8所述的多层光学薄膜，其特征在于，A为二氧化硅、氟化镁或氟化钙中的一种，B为二氧化钛、五氧化三钛、二氧化锆、氧化铈或氧化锌中的一种；
优选地，A为二氧化硅，B为二氧化钛或五氧化三钛中的一种；更优选B为二氧化钛。
10.根据权利要求8或9所述的在塑料薄膜上制作多层光学膜的方法制得的多层光学薄膜，其特征在于，透明塑料薄膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对萘二甲酸乙二醇酯、聚氯乙烯或聚丙烯中的一种。