一种应用于生物医疗的850纳米窄带滤光片的制作方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型设及一种滤光片，尤其地设及一种应用于生物医疗的850纳米窄带滤 光片。
【背景技术】
[0002] 在如今光学飞速发展的时代，光学薄膜也越来越成熟，突飞猛进的发展，光学薄膜 是现代光学的一个重要分支，同时也是现代光学仪器和各种光学器件的重要组成部分。它 通过在光学玻璃、光学塑料、光纤、晶体等各种材料的表面锻制一层或多层介质薄膜，基于 薄膜内光的干设效应来改变透射光或反射光的光强、偏振状态和相位变化。光学薄膜具有 出色的牢固性和光学稳定性，成本相对比较低，因此光学薄膜是目前改变系统光学参数分 布的首选方法。 【实用新型内容】
[0003] 本实用新型为了克服现有技术的不足，目的旨在提供一种应用于生物医疗的850 纳米窄带滤光片，其能够解决目前生物医疗窄带滤光片存在的通带透过率高和截止区透过 率低的问题，并且其在波长为850纳米处具有良好的透过率。
[0004] 为了解决上述的技术问题，本实用新型提出的基本技术方案为： 阳0化]一种应用于生物医疗的850纳米窄带滤光片，其中包括玻璃基底和锻制于玻璃基 底上的薄膜层，所述薄膜层包括Ξ个腔，第一腔由HLHL肥LHLHLHL的12层高折射率材料和 低折射率材料交替叠加组成的，第二腔由HLHLH4LHLHLHL的12层高折射率材料和低折射率 材料交替叠加组成的，第Ξ腔由HLHLH2LHLHLHL的12层高折射率材料和低折射率材料交替 叠加组成的，第一腔、第二腔W及第Ξ腔依此顺序叠加构成薄膜层。
[0006] 进一步，所述局折射率材料义用五氧化二铁多晶体，折射率为2. 35。
[0007] 进一步，所述低折射率材料采用二氧化娃多晶体，折射率为1. 46。
[0008] 进一步，所述玻璃基底为有色玻璃皿800。
[0009] 本实用新型的有益效果是：本实用新型的850纳米窄带滤光片的薄膜层采用Ξ个 腔，S个腔中薄膜组成结构GIHLHL肥LHLHLHLHLHLH4LHLHLHLHLHL肥LHLHLHLIA，并且采用 折射率为2. 35的五氧化Ξ铁多晶体的高折射率材料，折射率为1. 46的二氧化娃多晶体的 低折射率材料，玻璃基底为有色玻璃皿800,因此，其能够在波长为850纳米处具有良好的 透过率。
【附图说明】
[0010] 图1为本实施例850纳米窄带滤光片的薄膜层的结构示意图。
[0011] 图2为本实施例850纳米窄带滤光片的Ξ个腔设计原理曲线图。
[0012] 图3为本实施例850纳米窄带滤光片的光谱曲线图。
【具体实施方式】
[0013]W下将结合附图1、2和3对本实用新型做进一步的说明，但不应W此来限制本实 用新型的保护范围。为了方便说明并且理解本实用新型的技术方案，W下说明所使用的方 位词均W附图所展示的方位为准。
[0014] 如图1所示，本实施例的850纳米窄带滤光片包括玻璃基底和锻制于玻璃基底上 的薄膜层，所述薄膜层包括Ξ个腔，第一腔由HLHLH2LHLHLHL的12层高折射率材料和低折 射率材料交替叠加组成的，第二腔由HLHLH4LHLHLHL的12层高折射率材料和低折射率材料 交替叠加组成的，第Ξ腔由HLHLH2LHLHLHL的12层高折射率材料和低折射率材料交替叠加 组成的，第一腔、第二腔W及第Ξ腔依此顺序叠加构成薄膜层。各种多晶材料的光学属性如 表一所示。其中，高折射率材料采用五氧化Ξ铁多晶体，折射率为2. 35,低折射率材料采用 二氧化娃多晶体，折射率为1. 46,玻璃基底为有色玻璃皿800。如图2所示，本实施例根据 图2所示的设计曲线图来设计薄膜层。
[0015]表一
[0016]
阳017] 为了测试制成的850纳米窄带滤光片效果，本实施例采用上海元析UV-5200PC紫 外可见分光光度计进行测量，其中紫外可见分光光度计的测量范围为190nm-1100nm。测试 结果如如图3所示。由于本实施例的850纳米窄带滤光片的薄膜层采用Ξ个腔，而且Ξ个 腔中薄膜组成结构GIHLHL肥LHLHLHLHLHLH4LHLHLHLHLHL肥LHLHLHLIA，并且采用折射率 为2. 35的五氧化Ξ铁多晶体的高折射率材料，折射率为1. 46的二氧化娃多晶体的低折射 率材料，玻璃基底为有色玻璃皿800,因此，其能够在波长为850纳米处具有良好的透过率。
[0018] 本实施例采用箱式真空热蒸发设备将薄膜层锻制在玻璃基底上，尤其地，本实施 例采用成都威特南光箱式1100热蒸发设备。
[0019] 薄膜层制备过程如下：
[0020] S1 :基片的清洗。对于刚刚抛光的零件，用超声波清洗过后在装有聚光镜的60w检 验灯下检测，一般用哈气法。对在大气中暴露时间过长的试件，由于表面生成了霉斑，采用 一般的清洗方法不易擦去，必须用高级脱脂棉粘化C03粉末或者氧化姉粉末进行擦拭基片 表面，进行手动抛光，之后用清水冲洗，再用超声波进行清洗，最后在装有聚光镜的60w检 验灯下检测，并用哈气法检查。
[0021] S2:蒸锻过程。根据锻膜及其性能可实现手动操作和自动操作两种模式。手动操 作规程如下：
[0022] 1、开机预热；
[0023] ①.开冷却循环水，在开空气压缩机，最后开电源。
[0024] ②.开机械累启动按钮对扩散累进行抽气5分钟，之后开扩散累按钮进行预热 (预热溫度达到机器设定溫度即可）。
[0025] 2、添加膜料，安装工件伞；
[00%] ①.开放气阀，对真空室充入大气，待真空室的口打开之后，关闭放气阀。
[0027] ②.打扫真空室，安装或检查蒸发源，填装膜料。
[0028] ③.打开膜厚控制系统，并检查是否正常。装待锻的光学基片，之后安装修正挡 板，按下工件转动按钮，调工件转速，关闭真空室。 阳0巧]3、抽真空；
[0030] ①.开机械累一开旁通阀一开低阀一开真空计，开始抽低真空。
[0031] ②.真空度达到1000化时，开罗茨累。
[0032] ③.真空度达到3化时关低阀一开预阀一开高阀一开烘烤一开工转，开始抽高真 空。 阳〇3引4、预热，蒸锻；
[0034] ①.当真度达到5。0X10-3化时，预烙材料。预烙时（手动），电流不能瞬间加的 很大，要逐渐增加束流，预烙时间长短W膜料放气量为基准。 阳03引②.预烙完毕，从SQC-310中调出程序，当真空度达到3。0X10-3化左右时，把电 子枪的控制选在自动，开高压，调节工件转速为高速，调节充选晶控，然后按下SQC-310上 的开始键，开始蒸锻。观察膜厚控制仪SQC-310的数值看是否正常。
[0036] 5、取出工件；
[0037] ①.当锻制完成时，关电子枪一烘烤一高阀一开机械累一关罗茨累。
[0038] ②.视真空室的冷却情况，开放气阀，打开真空室。按下工件转动按钮，关闭放气 阀，取出已经锻好的光学产品。
[0039] 根据上述说明书的掲示和教导，本实用新型所属领域的技术人员还可W对上述实 施方式进行变更和修改。因此，本实用新型并不局限于上面掲示和描述的【具体实施方式】，对 本实用新型的一些修改和变更也应当落入本实用新型的权利要求的保护范围内。此外，尽 管本说明书中使用了一些特定的术语，但运些术语只是为了方便说明，并不对本实用新型 构成任何限制。
【主权项】
1. 一种应用于生物医疗的850纳米窄带滤光片，其特征在于：包括玻璃基底和镀制于 玻璃基底上的薄膜层，所述薄膜层包括三个腔，第一腔由HLHLH2LHLHLHL的12层高折射率 材料和低折射率材料交替叠加组成的，第二腔由HLHLH4LHLHLHL的12层高折射率材料和低 折射率材料交替叠加组成的，第三腔由HLHLH2LHLHLHL的12层高折射率材料和低折射率材 料交替叠加组成的，第一腔、第二腔以及第三腔依此顺序叠加构成薄膜层。2. 根据权利要求1所述的一种应用于生物医疗的850纳米窄带滤光片，其特征在于： 所述高折射率材料采用五氧化三钛多晶体，折射率为2. 35。3. 根据权利要求1所述的一种应用于生物医疗的850纳米窄带滤光片，其特征在于： 所述低折射率材料采用二氧化硅多晶体，折射率为1. 46。4. 根据权利要求1所述的一种应用于生物医疗的850纳米窄带滤光片，其特征在于： 所述玻璃基底为有色玻璃HB800。
【专利摘要】本实用新型涉及一种滤光片，尤其地涉及一种应用于生物医疗的850纳米窄带滤光片。其包括玻璃基底和镀制于玻璃基底上的薄膜层，所述薄膜层包括三个腔，第一腔由HLHLH2LHLHLHL的12层高折射率材料和低折射率材料交替叠加组成的，第二腔由HLHLH4LHLHLHL的12层高折射率材料和低折射率材料交替叠加组成的，第三腔由HLHLH2LHLHLHL的12层高折射率材料和低折射率材料交替叠加组成的，第一腔、第二腔以及第三腔依此顺序叠加构成薄膜层。采用此结构的窄带滤光片，其能够解决目前生物医疗窄带滤光片存在的通带透过率高和截止区透过率低的问题，并且其在波长为850纳米处具有良好的透过率。
【IPC分类】G02B5/20
【公开号】CN205003312
【申请号】CN201520654104
【发明人】林新佺
【申请人】深圳市激埃特光电有限公司
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年8月27日