技术总结
本实用新型公开了一种光学零件平面研磨装置，包括研磨下盘和研磨上盘，研磨下盘设于一个旋转支撑主轴上，旋转支撑主轴连接能够调节主轴转速及转向的变频电机，研磨上盘设于一个精密进给主轴上，精密进给主轴中设有导向定位套筒和精密进给滚珠丝杠副，精密进给滚珠丝杠副的输出端设有能够定位夹紧研磨上盘的压紧定位夹套，压紧定位夹套中设有压力检测传感器，精密进给滚珠丝杠副的输入端连接伺服电机，变频电机、压力检测传感器和伺服电机连接一个精密研磨控制器；本实用新型能够根据需要精密调节研磨速度、研磨压力和研磨进给量，研磨抛光压力和行程调节精密可控，确保研磨抛光精度高，尤其适合高精度、超薄、超小型的光学零件研磨抛光使用。
技术研发人员：陈从贺
受保护的技术使用者：福州恒光光电有限公司
文档号码：201621262181
技术研发日：2016.11.23
技术公布日：2017.06.06