一种自动磨削抛光铣床的制作方法

本发明涉及一种数控铣床，尤指涉及一种自动磨削抛光铣床。

背景技术：

对于平整度要求较高的工件来说，需要对待加工工件进行磨削和抛光，常常使用的铣床如图1所示，该铣床装置的功能是腕关节装置5转动作用，作为数控铣床抛光加工的附件；腕关节装置5通过槽和锥孔定位，由数控铣床吊杆螺栓拉装在铣床主轴6上，数控铣床主轴6固定不转，微电机4倾斜安装在腕关节装置5的工作平台上，微电机4的轴上装有磨削头或抛光头3，工件2夹紧在数控铣床工作台1上。然而，在该磨削或抛光过程中会产生碎屑，且一些类似于抛光液的液体物质不易干燥去除，这使得工件在后续操作步骤中产生问题。

技术实现要素：

基于解决上述问题，本发明提供了一种自动磨削抛光铣床，包括：

承载台；

磨削单元，用于对固定于承载台上的工件进行磨平；

抛光单元，用于对所述工件进行抛光；

清洗单元，用于对所述工件进行清洗；所述磨削单元、抛光单元和清洗单元依次排布于所述承载台上方的数控台上；

其特征在于，所述清洗单元除了对所述工件进行清洗外，还能够对所述工件进行吸附拿持，以对所述工件进行搬运。

根据本发明的实施例，所述清洗单元包括工质输入管和气体输出管，所述工质输出管用于喷洒清洗工质以清洗所述工件，所述气体输出管用于排除清洗单元与所述工件表面紧密接触时围成腔室内的气体，以形成低气压吸附所述工件。

根据本发明的实施例，所述工质输入管嵌于所述气体输出管内。

根据本发明的实施例，所述工质输入管和气体输出管连接一喷淋头。

根据本发明的实施例，所述喷淋头包括中央区域和边缘区域，所述中央区域与所述边缘区域物理隔离，其中，所述中央区域与所述工质输入管相连接，所述边缘区域与所述气体输出管向连接。

根据本发明的实施例，所述喷淋头的中央区域的喷淋板具有多个喷淋口，所述喷淋头的边缘区域的喷淋板具有多个排气口，所述多个排气口围绕在所述多个喷淋口周围。

根据本发明的实施例，所述喷淋头与所述工件接触的底面具有环形密封圈。

根据本发明的实施例，所述密封圈包括环绕所述多个排气口和喷淋口的第一密封圈和隔开所述多个排气口和多个喷淋口的第二密封圈。

根据本发明的实施例，所述工质输出管的工质为气体或液体，例如水或空气。

根据本发明的实施例，所述多个排气口的孔径大于所述多个喷淋口的孔径。

本发明的技术方案，利用清洗单元对经过磨削抛光后的工件进行清洗，例如，先进行液体清洗，再用气体进行吹干清洗，可以有效地去除工件表面的碎屑杂质以及残留的液体；该清洗单元还集成了拿持的功能，可以利用真空泵等制造低压以吸附工件，方便对工件进行搬运，并且不会对工件产生二次污染。

附图说明

图1为现有的抛光铣床的侧视图；

图2为本发明自动磨削抛光铣床的正视图；

图3为本发明自动磨削抛光铣床的清洗单元的示意图；

图4为本发明清洗单元的喷淋板的仰视图。

具体实施方式

参见图2，本发明提供了一种自动磨削抛光铣床，包括：

承载台1；

磨削单元（可以包括磨削头，参见图1），用于对固定于承载台1上的工件2进行磨平；

抛光单元（可以包括抛光头，参见图1），用于对所述工件2进行抛光；

清洗单元10，用于对所述工件2进行清洗；所述磨削单元、抛光单元和清洗单元10依次排布于所述承载台上方的数控台7上；

所述清洗单元10除了对所述工件2进行清洗外，还能够对所述工件2进行吸附拿持，以对所述工件2进行搬运。

参见图3，所述清洗单元10包括工质输入管11和气体输出管13，所述工质输出管用于喷洒清洗工质以清洗所述工件2，所述气体输出管13用于排除清洗单元与所述工件2表面紧密接触时围成腔室内的气体，以形成低气压吸附所述工件2。

所述工质输入管11嵌于所述气体输出管13内，所述工质输入管11和气体输出管13连接一喷淋头。所述喷淋头包括中央区域12和边缘区域14，所述中央区域12与所述边缘区域14物理隔离，其中，所述中央区域12与所述工质输入管11相连接，所述边缘区域14与所述气体输出管13向连接。

参见图4，所述喷淋头的中央区域12的喷淋板15具有多个喷淋口19，所述喷淋头的边缘区域14的喷淋板15具有多个排气口18，所述多个排气口18围绕在所述多个喷淋口19周围。

所述喷淋头与所述工件2接触的底面具有环形密封圈。所述密封圈包括环绕所述多个排气口18和喷淋口19的第一密封圈16和隔开所述多个排气口18和多个喷淋口19的第二密封圈17。

所述工质输出管11的工质为气体或液体，例如水或空气。所述多个排气口18的孔径大于所述多个喷淋口19的孔径，这样喷洒的压力较大一些，且排气的效果更优。

最后应说明的是：显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之中。