技术特征：
技术总结
本发明公开了一种阴极磁控溅射靶装置，包括磁性靶材及设于磁性靶材背面的磁体，所述磁性靶材正面设有矩形环状凹槽，所述磁性靶材背面设有与所述矩形环状凹槽对应的矩形环状凸起，所述磁体包括极性相反的中心磁体及外磁体，所述中心磁体设于所述矩形环状凸起的中心，所述外磁体设有四块并分设于所述矩形环状凸起的外周。本发明具有可加强靶材表面的磁场强度、提高靶材溅射的均匀性、减少更换靶材的频率、降低生产成本等优点。
技术研发人员：毛朝斌;罗超;范江华;舒勇东;佘鹏程;胡凡;彭立波
受保护的技术使用者：中国电子科技集团公司第四十八研究所
技术研发日：2017.05.26
技术公布日：2017.09.12