本发明涉及到传动技术领域,尤其涉及一种可旋转可移动靶架传动装置。
背景技术:
镀膜过程中靶材与离子源之间有一个最佳距离要求,此位置尺寸一般是根据工艺试验确定后直接将其固定下来,需要经过多次反复试验,通过多次手动调整靶架与真空室的连接法兰位置,过程非常繁琐,费时费力并且效率低下。
为了解决上述技术问题,本发明设计了一种可旋转可移动靶架传动装置,该可旋转可移动靶架传动装置中靶架移动电机可以通过支架带动靶架左右移动,靶架旋转电机能够带动靶架旋转。该装置可以实现在超高真空状态下,靶架旋转和移动的同时动作。不仅实现了靶架和离子源之间距离的自动调整,而且此装置配合光学监控系统实现了靶架位置和移动速度可编程控制,保证了镀膜膜厚的均匀性。总之,该可旋转可移动靶架传动装置结构设计合理,靶架定位方便准确,适合推广使用。
技术实现要素:
为了克服背景技术中存在的缺陷,本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种可旋转可移动靶架传动装置,包括靶架移动电机、支架、导轨、靶架旋转电机和真空箱,所述支架上设有靶架,所述靶架上设有蜗轮蜗杆机构,所述支架的底部设有转轮,所述导轨固定在真空箱的底部,所述支架设置在真空箱的内部,所述靶架移动电机和靶架旋转电机设置在真空箱的外部,所述靶架移动电机和支架之间设有丝杠传动机构,所述靶架移动电机能够通过丝杠传动机构带动支架底部的转轮沿着导轨转动,所述蜗轮蜗杆机构和靶架旋转电机之间设有万向联轴节,所述靶架旋转电机能够通过蜗轮蜗杆机构和万向联轴节带动靶架旋转。
优选的所述丝杠传动机构和万向联轴节设置在真空箱的内部。
优选的所述导轨的两端设有挡板。
本发明设计了一种可旋转可移动靶架传动装置,该可旋转可移动靶架传动装置中靶架移动电机可以通过支架带动靶架左右移动,靶架旋转电机能够带动靶架旋转。该装置可以实现在超高真空状态下,靶架旋转和移动的同时动作。不仅实现了靶架和离子源之间距离的自动调整,而且此装置配合光学监控系统实现了靶架位置和移动速度可编程控制,保证了镀膜膜厚的均匀性。总之,该可旋转可移动靶架传动装置结构设计合理,靶架定位方便准确,适合推广使用。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明一种可旋转可移动靶架传动装置的结构示意图;
其中:1、靶架移动电机;2、丝杠传动机构;3、靶架;4、蜗轮蜗杆机构;5、万向联轴节;6、支架;7、导轨;8、靶架旋转电机;9、转轮;10、挡板;11、真空箱。
具体实施方式
现在结合附图对本发明作进一步详细的说明。附图为简化的示意图,仅以示意方式说明本发明的基本结构,因此其仅显示与本发明有关的构成。
具体实施例,请参阅图1,一种可旋转可移动靶架传动装置,包括靶架移动电机1、支架6、导轨7、靶架旋转电机8和真空箱11,所述支架6上设有靶架3,所述靶架3上设有蜗轮蜗杆机构4,所述支架6的底部设有转轮9,所述导轨7固定在真空箱11的底部,所述支架6设置在真空箱11的内部,所述靶架移动电机1和靶架旋转电机8设置在真空箱11的外部,所述靶架移动电机1和支架6之间设有丝杠传动机构2,所述靶架移动电机1能够通过丝杠传动机构2带动支架6底部的转轮9沿着导轨7转动,所述蜗轮蜗杆机构4和靶架旋转电机8之间设有万向联轴节5,所述靶架旋转电机8能够通过蜗轮蜗杆机构4和万向联轴节5带动靶架3旋转,所述丝杠传动机构2和万向联轴节5设置在真空箱11的内部,所述导轨7的两端设有挡板10。
本发明设计了一种可旋转可移动靶架传动装置,该可旋转可移动靶架传动装置中靶架移动电机可以通过支架带动靶架左右移动,靶架旋转电机能够带动靶架旋转。该装置可以实现在超高真空状态下,靶架旋转和移动的同时动作。不仅实现了靶架和离子源之间距离的自动调整,而且此装置配合光学监控系统实现了靶架位置和移动速度可编程控制,保证了镀膜膜厚的均匀性。总之,该可旋转可移动靶架传动装置结构设计合理,靶架定位方便准确,适合推广使用。
显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。