本实用新型涉及手机制造加工技术领域，特别是一种玻璃抛光粉溶液循环过滤系统。
背景技术：
现有技术中的玻璃磨削加工的扫光机，在扫光磨削过程中使用抛光粉溶液，而每台扫光机的抛光粉溶液都是采用单机自循环。这种单机自循环的方式产生的玻璃粉屑还是在抛光粉溶液中，会降低抛光粉溶液浓度，加大抛光粉的添加量，浪费抛光粉；较多的玻璃粉屑会喷洒在玻璃表面并且粘在抛光皮和毛刷中，造成玻璃划伤，毛刷，抛光皮，地毯的使用寿命会降低；
另外，抛光粉在摩擦的过程中会产生热量，造成抛光粉温度容易升高，最高时会达到35°以上，而抛光效果的最佳温度为15-20°，温度升高会造成加工不良。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决上述技术问题，提供一种玻璃抛光粉溶液循环过滤系统，使抛光粉集中供应，经过过滤，可以将其中99%的杂质去除掉。
本实用新型采取的技术方案是：
一种玻璃抛光粉溶液循环过滤系统，包括扫光机单元，其特征是，所述扫光机单元的抛光粉溶液输出端通过管道依次连接至搅拌单元、过滤单元、油水分离单元，所述油水分离单元再连接至扫光机单元的抛光粉溶液输入端。
进一步，所述扫光机单元包括多台并联设置的扫光机，所述抛光粉溶液输入端分配至各个扫光机，所述抛光粉溶液输出端合并后输出。
进一步，所述搅拌单元连接第一级存储池，所述玻璃抛光粉溶液经所述搅拌单元搅拌后，进入所述第一级存储池。
进一步，在所述第一级存储池和油水分离单元之间设置第二级存储池。
进一步，在所述第二级存储池上连接工业冰水机对第二级存储池中的玻璃抛光粉溶液进行降温。
进一步，所述第二级存储池分成三部分，每部分连接一个工业冰水机。
进一步，所述油水分离单元为多个，所述第二级存储池分成多路后，由多个油水分离单元分离后合并至扫光机单元的抛光粉溶液输入端。
进一步，所述油水分离单元与扫光机单元的抛光粉溶液输入端之间的管路上，设置抛光粉浓度显示仪。
进一步，所述过滤器单元使用小于250目的过滤器，过滤掉直径大于50um的杂质。
进一步，所述工业冰水机将所述第二级存储池内的溶液温度降至15-20℃。
本实用新型的有益效果是：
（1）抛光粉集中供应，其中的杂质和玻璃粉经过过滤，可以将其中99%的杂质去除掉，油会通过吸油海绵吸走，可以减少不良和报废，降低抛光粉的损耗，增加毛刷，地毯及抛光皮等耗材的使用寿命；
（2）抛光粉溶液经过工业冰水机的降温，降低到抛光粉最合适的温度，可以增加抛光效果。
附图说明
附图1为本实用新型的模块示意框图。
附图中的编号分别为：
1. 扫光机单元； 2. 搅拌单元；
3. 过滤单元； 4. 第一级存储池；
5. 第二级存储池； 6. 油水分离单元；
7. 工业冰水机； 8.抛光粉浓度显示仪。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型玻璃抛光粉溶液循环过滤系统的具体实施方式作详细说明。
参见附图1，玻璃抛光粉溶液循环过滤系统包括扫光机单元，扫光机单元1位于加工车间，由工作人员进行操作。扫光机单元1的抛光粉溶液输出端通过管道依次连接至搅拌单元2、过滤单元3、第一级存储池4、第二级存储池5、油水分离单元6，油水分离单元6再连接至扫光机单元1的抛光粉溶液输入端。
搅拌单元2可为多个，通过搅拌电机驱动搅拌棒对抛光粉溶液进行搅拌，搅拌单元2的输出端连接多路阀门。第一级存储池4和第二级存储池5存储过滤后的抛光粉溶液，对抛光粉溶液进行静置沉淀，第二级存储池5为多个沉淀池，每个沉淀池上安装工业冰水机7，对第二级存储池5内的抛光粉溶液进行降温，使抛光粉溶液的温度在15-20℃之间。
油水分离单元6为多个，第二级存储池5的输出分成多路后，由多个油水分离单元6分离后合并至扫光机单元1的抛光粉溶液输入端。并在扫光机单元1的抛光粉溶液输入端位置设置抛光粉浓度显示仪8。过滤单元3使用小于250目的过滤器，能过滤掉直径大于50um的杂质。
扫光机单元对手机玻璃进行磨削加工时，抛光粉溶液在扫光机中循环，增加毛刷、地毯和玻璃之间的摩擦，同时将毛刷粉屑，地毯粉屑，抛光皮粉屑及玻璃粉屑等杂质进入抛光粉溶液中，含有杂质的抛光粉溶液经过管道输出进入搅拌单元，使用搅拌电机将从扫光机中流出的抛光粉溶液进行搅拌，使抛光粉溶液中的抛光粉和杂质一直处于悬浮状态。过滤单元使用250目的过滤器将抛光粉溶液中的直径大于50um的杂质（玻璃粉屑，抛光皮屑，地毯屑，毛刷屑等）过滤出来，然后进入第一级存储池中存储。再进入第二级存储池中，同时使用工业冰水机对第二级存储池中的溶液进行降温，温度从35℃降到15-20℃。再使用水泵将第二级存储池中抛光粉溶液抽到油水分离系统中，使用海绵将抛光粉溶液中的油吸走，溶液中的油主要是扫光机中渗漏的导轨油等。经过过滤和分离的抛光粉溶液经过进水系统送到各扫光机中使用，通过抛光粉浓度检测仪自动检测抛光粉溶液浓度，如果浓度低于标准，则及时进行添加。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。