掩模框架及真空处理装置的制作方法

本发明涉及一种控制对基板的处理范围的掩模框架及使用所述掩模框架的真空处理装置。

背景技术

作为此种真空处理装置，如专利文献1所示，有包括掩盖基板的周缘部而对基板上的成膜范围进行控制的掩模体、以及对所述掩模体进行固定的掩模体安装板的真空处理装置。

所述掩模体如图12所示，包括与开口部的各边相对应地分割而成的带状的4个框架元件(掩模主体)x1～框架元件(掩模主体)x4。具体而言，掩模体包括相互相向的2个框架元件x1、框架元件x2(图12中为左右的框架元件)，以及与这些框架元件x1、框架元件x2正交地配置且相互相向的2个框架元件x3、框架元件x4(图12中为上下的框架元件)。并且，相互相向的左右的框架元件x1、框架元件x2的两端部分别与相互相向的上下的框架元件x3、框架元件x4对顶地配置。

而且，各框架元件x1～框架元件x4是在可单独变更位置的安装状态下固定在掩模体安装板上。具体而言，框架元件构成为可通过设置于掩模体安装板上的调整螺钉，而在与框架元件的长度方向正交的方向上进行位置变更。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开平10-60624号公报

技术实现要素：

发明所要解决的课题

在所述掩模体中，4个框架元件x1～框架元件x4是在与各自的长度方向正交的方向上移动，故而在变更开口尺寸后(变更成膜区域后)，会在各框架元件的端部之间产生间隙g。于是，存在成膜后的基板的四角的膜变得不均匀的问题。

并且，在所述专利文献1中，构成为在其中一个框架元件的端部设置有防护板，在另一个框架元件的端部设置有可收容所述防护板的导引用段部，以填埋所述间隙g。

然而，即使是所述构成，由于在框架元件的角部上表面形成有凹部，故而也存在成膜后的基板的四角的膜变得不均匀的问题。

因此，本发明是为了解决所述问题而完成的，其主要课题在于设为以下构成：无需在各框架元件的端部设置用以填埋间隙的特别构件，即使变更开口尺寸也不会在各框架元件间产生间隙，从而提高基板处理的均匀性。

解决课题的手段

即，本发明的掩模框架是具有矩形的开口部的掩模框架，其特征在于包括：4个框架元件，具有与所述开口部的四边分别相对应的长度方向；且所述各框架元件的长度方向一端侧的端边部及与所述端边部邻接的框架元件的沿长度方向的开口部侧边部是相向而配置，所述4个框架元件是在俯视时相对于各自的长度方向倾斜的各自的滑动方向上可滑移地设置，通过使所述4个框架元件滑移而可变更所述开口部的开口尺寸而构成掩模框架。

若为如上所述的掩模框架，则各框架元件的长度方向一端侧的端边部及与所述端边部邻接的框架元件的沿长度方向的开口部侧边部是相向而配置，因此即使变更开口尺寸，也可维持各框架元件的长度方向一端侧的端边部与邻接于所述端边部的框架元件的沿长度方向的开口部侧边部的位置关系。因此，可设为如下构成：无需在相互邻接的框架元件上设置用以填埋间隙的特别构件，即使变更开口尺寸，也不会在各框架元件之间在俯视时产生间隙。具体而言，可一面维持各框架元件的长度方向一端侧的端边部及与所述端边部邻接的框架元件的沿长度方向的开口部侧边部相接触或接近的状态，一面变更开口尺寸。

更详细而言，理想的是在相互邻接的框架元件中，以其中一个框架元件的滑动方向上的倾斜角度与另一个框架元件的滑动方向上的倾斜角度的和为90度的方式而设定。

若为所述构成，则可不改变各框架元件的长度方向一端侧的端边部与邻接于所述端边部的框架元件的沿长度方向的开口部侧边部的位置关系，通过使4个框架元件滑移而变更开口尺寸。

理想的是所述4个框架元件是在俯视时相对于各自的长度方向倾斜45度的方向上可滑移地设置。

若为所述构成，则可在开口尺寸的变更前后维持开口形状的纵横比。

理想的是包括对所述4个框架元件进行支撑的支撑构件，且在所述框架元件与所述支撑构件之间设置有可使所述框架元件滑移的滑动导轨机构。

若为所述构成，则可容易地使各框架元件滑移。并且，在各框架元件的长度方向一端侧的端边部及与所述端边部邻接的框架元件的沿长度方向的开口部侧边部相接触的构成的情况下，若使1个框架元件移动，则可使其他框架元件与所述移动联动地移动，从而可容易地进行开口尺寸的变更。

理想的是所述滑动导轨机构分别设置于所述框架元件的长度方向一端侧及长度方向另一端侧。

若为所述构成，则滑动导轨机构分别设置于框架元件的长度方向一端侧及另一端侧，故而容易保持着框架元件的姿势进行滑移。所述构成中，框架元件越长，所述效果越显著。并且，当使多个框架元件联动地移动时，可使这些框架元件稳定地移动。

理想的是所述框架元件利用紧固构件而固定于所述支撑构件上，插通所述紧固构件的所述框架元件的插通孔或所述支撑构件的插通孔中的任一者是沿所述滑动方向上的倾斜长孔，利用所述紧固构件及设为所述倾斜长孔的插通孔来构成所述滑动导轨机构。

若为所述构成，则紧固构件兼作滑动导轨机构，从而可简化掩模框架的构成。并且，只要在开口尺寸的调整后使紧固构件紧固即可，从而可使自开口尺寸的调整至框架元件的固定为止的操作变得容易。

理想的是所述框架元件的所述开口部侧边部的上表面包含朝向开口部侧具有向下倾斜的第1倾斜面，且所述框架元件的所述端边部包含与所述第1倾斜面相对应的第2倾斜面。

若为所述构成，则通过在各框架元件上设置第1倾斜面，可消除对位于掩模框架附近的基板的处理的不均匀。并且，由于框架元件的端边部包含第2倾斜面，故而可通过简单的构成来确实地填埋邻接的框架间的间隙。

理想的是所述框架元件是以对长度方向一端部进行固定，并且能够以所述长度方向一端部为起点通过热膨胀而沿长度方向移动至长度方向另一端侧的方式而构成。

若为所述构成，则可消除框架元件因热膨胀而产生的挠曲所引起的处理的不均匀，从而可提高处理的均匀性。

理想的是在所述框架元件的长度方向另一端侧形成有插通紧固构件的插通孔，且所述紧固构件具有头部，所述插通孔是沿长度方向的长孔，所述紧固构件在所述头部与所述框架元件的上表面之间空开间隙而固定所述长度方向另一端侧。

若为所述构成，则只要将框架元件的插入孔设为长孔，即可消除因热膨胀而引起的挠曲，从而可简化其构成。

发明的效果

根据如上所述而构成的本发明，可设为以下构成：无需在相互邻接的框架元件上设置用以填埋间隙的特别构件，即使变更掩模框架的开口部的尺寸，也不会在各框架元件之间产生间隙，从而提高基板处理的均匀性。

附图说明

图1是示意性地表示本实施方式的真空处理装置的构成的剖面图。

图2是所述实施方式的掩模框架的俯视图。

图3是所述实施方式的掩模框架的分解部分立体图。

图4是表示所述实施方式的长度方向一端侧的固定机构的剖面图及俯视图。

图5是表示所述实施方式的长度方向另一端侧的固定机构的剖面图、俯视图及底视图。

图6是表示调整所述实施方式的开口部的开口尺寸时的各框架元件的动作的图。

图7是表示所述实施方式的热膨胀吸收时的各框架元件的动作的图。

图8是示意性地表示变形实施方式的真空处理装置的构成的剖面图。

图9是变形实施方式的掩模框架的局部立体图及剖面图。

图10是变形实施方式的掩模框架的俯视图。

图11是表示变形实施方式的邻接的框架元件的端部的俯视图。

图12是现有的掩模框架的俯视图。

具体实施方式

以下，一面参照附图，一面对使用本发明的掩模框架的真空处理装置的一实施方式进行说明。

本实施方式的真空处理装置100是利用等离子体中的离子对靶材(target)进行溅射而在矩形的基板上形成薄膜的溅射(sputtering)装置。

具体而言，所述真空处理装置100如图1所示，包括对内部进行排气而形成真空的处理容器2、与处理容器2电性绝缘地设置于所述处理容器2内的溅射电极3、与所述溅射电极3电性连接地安装的靶材4、以及在与所述靶材4相向的状态下对基板w进行支撑的基板支撑部5。

在处理容器2中设置有气体导入部21，自所述气体导入部21导入放电用气体。再者，放电用气体例如是氩气等惰性气体。并且，在处理容器2内，设置有用以对内部进行排气而形成真空的排气部22，在所述排气部22上连接有未图示的真空泵。

在溅射电极3上连接有电源部6，利用所述电源部6而供给高频电力。

基板支撑部5以可调整基板w相对于靶材4的位置的方式构成，在本实施方式中，包括多个支撑销51、以及使所述支撑销51上下移动的驱动部52。再者，基板支撑部5与处理容器2之间是利用伸缩管(bellows)等密封(seal)构件7而遮蔽。再者，处理容器2及基板支撑部5为电性接地。

并且，当自所述气体导入部21导入放电用气体，利用电源部6而对溅射电极3供给高频电力时，会自所述溅射电极3产生高频放电。通过所述高频放电而使放电用气体电离而生成等离子体。所述等离子体中的离子对靶材4进行溅射，自靶材4飞出的溅射粒子入射沉积于基板w上，而在基板w上形成薄膜。再者，真空处理装置100也可利用电源部6而对溅射电极3供给直流电力，且通过自所述溅射电极3产生的直流放电，而生成等离子体。

然而，本实施方式的真空处理装置100如图1及图2所示，包括自靶材4掩盖基板w的周缘部的掩模框架8。

所述掩模框架8特别是如图2所示，具有矩形的开口部8x，且包括与所述开口部8x的四边分别相对应且具有长度方向的4个框架元件81a～框架元件81d、以及对所述4个框架元件81a～框架元件81d进行支撑的支撑构件82。

再者，由4个框架元件81a～框架元件81d形成的开口部8x设定得小于矩形的基板尺寸。本实施方式的支撑构件82设置于处理容器2中，呈具有大于矩形的基板尺寸的矩形的开口部82x的矩形框状。并且，将4个框架元件81a～框架元件81d固定于所述支撑构件82的上表面。

各框架元件81a～框架元件81d在俯视时呈长条状(矩形)，包括沿长度方向的一对侧边部811、侧边部812，以及沿与长度方向正交的方向的一对端边部813、端边部814。在本实施方式中，一对侧边部811、侧边部812及一对端边部813、端边部814均在俯视时呈直线状。并且，各框架元件81a～框架元件81d的与长度方向正交的剖面形状为矩形。

并且，这些4个框架元件81a～框架元件81d是以形成开口部8x的各边的方式配置成矩形环状。具体而言，4个框架元件81a～框架元件81d是以各框架元件81a～框架元件81d的长度方向一端侧的端边部813(以下，称为一端边部813)及与所述一端边部813邻接的框架元件81a～框架元件81d的沿长度方向的开口部侧边部811相互相向的方式而配置。

在本实施方式中，各框架元件81a～框架元件81d的一端边部813与邻接的框架元件81a～框架元件81d的开口部侧边部811通过相互接触，而在俯视时不空开间隙地配置。具体而言，所述一端边部813的侧面与开口部侧边部811的侧面为面接触。

如上所述而配置的4个框架元件81a～框架元件81d是在俯视时相对于各自的长度方向倾斜的各自的滑动方向上可滑移地设置。并且，通过使4个框架元件81a～框架元件81d滑移而可变更开口部8x的开口尺寸而构成。

具体而言，在相互邻接的框架元件81a～框架元件81d中，以其中一个框架元件(例如81a)的滑动方向上的倾斜角度、与另一个框架元件(例如81b)的滑动方向上的倾斜角度的和成90度的方式而设定。在本实施方式中，各框架元件81a～框架元件81d的滑动方向上的倾斜角度设为45度。

并且，掩模框架8如图2所示，包含用以使4个框架元件81a～框架元件81d分别沿滑动方向移动的滑动导轨机构9。本实施方式的滑动导轨机构9可在俯视时相对于各自的长度方向倾斜45度的滑动方向上滑动。

具体而言，滑动导轨机构9分别设置于各框架元件81a～框架元件81d的长度方向一端侧及长度方向另一端侧。本实施方式的滑动导轨机构9是使用固定机构10a、固定机构10b而构成，所述固定机构10a、固定机构10b将各框架元件81a～框架元件81d在其长度方向一端侧及长度方向另一端侧分别固定于支撑构件82上。

长度方向一端侧的固定机构10a如图3及图4所示，构成为通过将作为紧固构件的紧固螺栓11插通至形成于框架元件81a～框架元件81d的长度方向一端侧的一端侧插通孔81h1，且螺合于形成于支撑构件82上的内螺孔12，来对框架元件81a～框架元件81d的长度方向一端侧进行固定。此处，形成于框架元件81a～框架元件81d上的一端侧插通孔81h1设为沿框架元件81a～框架元件81d的滑动方向(图4中的符号sd)延伸的倾斜长孔。再者，图4中的符号ld表示框架元件81a～框架元件81d的长度方向。

在所述构成中，在将紧固螺栓11加以紧固的状态下，即在紧固螺栓11的头部111与支撑构件82之间夹着框架元件81a～框架元件81d的状态下，对框架元件81a～框架元件81d的长度方向一端侧进行固定。另一方面，在紧固螺栓11松开的状态下，即，在紧固螺栓11的头部111与框架元件81a～框架元件81d相离的状态下，框架元件81a～框架元件81d可相对于紧固螺栓11在滑动方向上滑移。如上所述，利用紧固螺栓11及一端侧插通孔81h1构成滑动导轨机构9。即，紧固螺栓11成为设置于支撑构件82上的固定部，一端侧插入孔81h1成为相对于所述固定部滑移的滑动部。

长度方向另一端侧的固定机构10b如图3及图5所示，构成为通过将紧固螺栓11插通至形成于框架元件81a～框架元件81d的长度方向另一端侧的另一端侧插通孔81h2及形成于支撑构件82上的插通孔82h，且螺合于设置于支撑构件82的背面的螺母12，来对框架元件81a～框架元件81d的长度方向另一端侧进行固定。此处，图5中的符号ld表示框架元件81a～框架元件81d的长度方向，符号sd表示框架元件81a～框架元件81d的滑动方向。此处，在支撑构件82的背面，形成有收容螺母13的锪孔821。并且，形成于支撑构件82上的插通孔82h设为沿框架元件81a～框架元件81d的滑动方向延伸的倾斜长孔。再者，锪孔821也设为与插通孔82h一并沿滑动方向延伸的倾斜长孔。

在所述构成中，在将紧固螺栓11加以紧固的状态下，即在紧固螺栓11的头部111与螺母13之间夹着框架元件81a～框架元件81d及支撑构件82的状态下，对框架元件81a～框架元件81d的长度方向另一端侧进行固定。另一方面，在紧固螺栓11松开的状态下，即，在紧固螺栓11的头部111及螺母13未夹着框架元件81a～框架元件81d及支撑构件82的状态下，插通至框架元件81a～框架元件81d的另一端侧插通孔81h2中的紧固螺栓11可相对于支撑构件82在滑动方向上滑移。如上所述，利用紧固螺栓11以及另一端侧插通孔81h2及锪孔821构成滑动导轨机构9。即，另一端侧插通孔81h2及锪孔821成为设置于支撑构件82上的固定部，紧固螺栓11成为相对于所述固定部滑移的滑动部。

此外，在本实施方式中，各框架元件81a～框架元件81d构成为对长度方向一端部进行固定，并且能够以所述长度方向一端部为起点通过热膨胀而沿长度方向移动至长度方向另一端侧。

具体而言，如图3及图5所示，各框架元件81a～框架元件81d的另一端侧插通孔81h2设为沿长度方向的长孔。并且，在长度方向另一端侧的固定机构10b的紧固螺栓11构成为在将框架元件81a～框架元件81d的长度方向另一端侧加以固定的状态下，在头部111的下表面与框架元件81a～框架元件81d的上表面之间具有间隙s。再者，即使具有间隙s，由于长度方向一端侧经紧固螺栓11紧固，故而在长度方向另一端侧，也以无法朝向与长度方向正交的方向移动的方式而固定。

详细而言，如图5所示，固定机构10b的紧固螺栓11是凸肩螺栓，在螺合于螺母13，在支撑构件82紧固于所述凸肩螺栓11的肩部112与螺母13之间的状态下，即，在紧固螺栓11固定于支撑构件82的状态下，在头部111的下表面与框架元件81a～框架元件81d的上表面之间形成间隙s。

利用所述构成，即使在框架元件81a～框架元件81d因热膨胀而在长度方向上延伸时，框架元件81a～框架元件81d的长孔即另一端侧插通孔81h2也可相对于紧固螺栓11在长度方向上相对移动。

其次，参照图6，对如上所述而构成的掩模框架8的开口部8x的开口尺寸的调整进行说明。

图6(a)是表示开口部8x的开口尺寸为最大的情况的图。

在所述状态下，在长度方向一端侧的固定机构10a(滑动导轨机构9)上，紧固螺栓11位于框架元件81a～框架元件81d的插通孔81h1的最内侧。并且，在长度方向另一端侧的固定机构10b(滑动导轨机构9)中，紧固螺栓11及螺母13位于支撑构件82的插通孔81h2及锪孔821的最外侧。此外，各框架元件81a～框架元件81d的一端边部813与邻接的框架元件81a～框架元件81d的开口部侧边部811相接触。

当自所述状态使开口部8x的开口尺寸减小时，松开框架元件81a～框架元件81d的长度方向一端侧及另一端侧的紧固螺栓11。并且，使框架元件81a～框架元件81d沿滑动方向移动至内侧。此时，各框架元件81a～框架元件81d维持着接触的状态而进行移动(图6(b))。此处，当使1个框架元件(例如框架元件81a)滑移时，4个框架元件81a～框架元件81d的邻接的端部彼此相接触，故而剩下的3个框架元件(例如框架元件81b～框架元件81d)也联动地滑移。再者，也可对2个以上的框架元件同时进行操作而使其滑移。

以如上所述的方式使4个框架元件81a～框架元件81d移动，将位置调整至最佳位置，并对紧固螺栓11进行紧固而加以固定。

再者，图6(c)是表示开口部8x的开口尺寸为最小的情况的图。

在所述状态下，在长度方向一端侧的固定机构10a(滑动导轨机构9)上，紧固螺栓11位于框架元件81a～框架元件81d的插通孔81h1的最外侧。并且，在长度方向另一端侧的固定机构10b(滑动导轨机构9)中，紧固螺栓11及螺母13位于支撑构件82的插通孔81h2及锪孔821的最内侧。此外，各框架元件81a～框架元件81d的一端边部813与邻接的框架元件81a～框架元件81d的开口部侧边部811相接触。

其次，参照图7，对各框架元件81a～框架元件81d的热膨胀吸收进行说明。

图7(a)是表示未产生热膨胀的状态(例如成膜处理前)的图。

在所述状态下，长度方向另一端侧的固定机构10b的紧固螺栓11位于框架元件81a～框架元件81d的插通孔81h2的长度方向另一端部。

并且，若处理开始后框架元件81a～框架元件81d产生热膨胀，则以框架元件81a～框架元件81d的长度方向一端侧的固定机构10a(紧固部位)为起点，框架元件81a～框架元件81d延伸至长度方向另一端侧(图7(b)及图7(c))。于是，框架元件81a～框架元件81d的另一端侧插通孔81h2相对于固定在支撑构件82上的紧固螺栓11而移动，以吸收其延伸量h。再者，由于如本实施方式那样配置有各框架元件81a～框架元件81d，故而即使各框架元件81a～框架元件81d在长度方向上延伸，开口尺寸也不会变化。

延伸量h的吸收限度取决于框架元件81a～框架元件81d的另一端侧插通孔81h2的沿长度方向的长度(图7(c))，因此需要基于预先设想的延伸量h，来确定另一端侧插通孔81h2的长度。

<本实施方式的效果>

根据如上所述而构成的真空处理装置100，各框架元件81a～框架元件81d的一端边部813与邻接的框架元件81a～框架元件81d的开口部侧边部811是相向而配置，因此即使变更开口尺寸，也可维持各框架元件81a～框架元件81d的一端边部813与邻接的框架元件81a～框架元件81d的开口部侧边部811的接触关系。因此，可设为如下构成：无需在相互邻接的框架元件81a～框架元件81d上设置用以填埋间隙的特别构件，即使变更开口尺寸，也不会在各框架元件81a～框架元件81d之间在俯视时产生间隙。

在各框架元件81a～框架元件81d与支撑构件82之间设置有滑动导轨机构9，故而可容易地使各框架元件81a～框架元件81d滑移。并且，当使1个框架元件81a移动时，可使其他框架元件81b～框架元件81d与所述移动联动地移动，从而可容易地变更开口尺寸。此处，滑动导轨机构9设置在长度方向上的两个部位，故而容易保持着框架元件81a～框架元件81d的姿势进行滑移，当使多个框架元件81a～框架元件81d联动地移动时，可使这些框架元件稳定地移动。

相互邻接的框架元件81a～框架元件81d中的滑动方向相对于各自的长度方向的倾斜角度的和为90度，故而可在使各框架元件81b～框架元件81d的一端边部813与邻接的框架元件81b～框架元件81d的开口部侧边部811相接触的状态下，变更开口尺寸。此处，滑动方向为45度，可在开口尺寸的变更前后维持开口形状的纵横比。

并且，在本实施方式中，固定机构10a、固定机构10b的紧固螺栓11兼作滑动导轨机构9，故而可简化掩模框架8的构成。并且，只要在调整开口尺寸后使紧固螺栓11紧固即可，从而可容易地进行自开口尺寸的调整至框架元件81a～框架元件81d的固定为止的操作。

此外，各框架元件81a～框架元件81d构成为对长度方向一端部进行固定，并且能够以所述长度方向一端部为起点通过热膨胀而沿长度方向移动至长度方向另一端侧，故而可消除框架元件81a～框架元件81d因热膨胀而产生的挠曲所引起的处理的不均匀，从而可提高处理的均匀性。

再者，本发明并不限于所述实施方式。

例如，在所述实施方式中，各框架元件81a～框架元件81d的与长度方向正交的剖面呈矩形，但也可如图8及图9所示，框架元件81a～框架元件81d的开口部侧边部811的上表面包含朝向开口部8x侧具有向下倾斜的第1倾斜面811x，且框架元件81a～框架元件81d的一端边部813包含与第1倾斜面811x相对应的第2倾斜面813x。

并且，在所述实施方式中，一端边部813的侧面是与上表面垂直的平面，开口部侧边部811的侧面也是与上表面垂直的平面，但只要是一端边部813在俯视时与开口部侧边部811无间隙地接触的构成，则也可为例如经弯曲的面或屈曲的面。

此外，在所述实施方式中，各框架元件81a～框架元件81d呈相同形状，但只要包含直线状的开口侧边部811及与所述开口部侧边部相向的直线状的一端边部813，剩下的两边即不限于直线形状。

在所述实施方式中，掩模框架在俯视时呈正方形，但也可如图10所示，呈长方形。

在所述实施方式中，所有框架元件的滑动方向上的倾斜角度均为45度，但也可如图11所示，在相互邻接的框架元件中，其中一个框架元件的滑动方向sd上的倾斜角度θ1设为60度，另一个框架元件的滑动方向sd上的倾斜角度θ2设为30度。如上所述，只要满足θ1+θ2＝90度的关系，则θ1、θ2的具体的角度并不限于所述实施方式。

此外，在所述实施方式中，是固定机构10a、固定机构10b兼作滑动导轨机构9的构成，但也可将这些机构分别设置。此时，滑动导轨机构9包括设置于框架元件或支撑构件中的一者上的固定部、以及设置于所述框架元件或所述支撑构件中的另一者上且相对于所述固定部沿滑动方向滑动的滑动部。

而且，所述实施方式的固定机构在长度方向一端侧与长度方向另一端侧具有不同的构成，但也可将两者设为相同的构成。

进而，所述实施方式的固定机构是使用紧固螺栓，但也可使用具有贯通框架元件及支撑构件而设置的轴部及头部的销、以及嵌合于所述销的轴部且与所述头部之间夹着框架元件及支撑构件的止动环。此外，固定机构也可使用一体地夹入框架元件及支撑构件而固定的夹紧(clamp)构件。

在所述实施方式中，作为真空处理装置举出溅射装置为例进行了说明，此外，也可应用于化学气相沉积(chemicalvapordeposition，cvd)装置等使用等离子体的真空处理装置等之中。

此外，本发明当然并不限于所述实施方式，在不脱离其主旨的范围内可进行各种变形。

符号的说明

100：真空处理装置

8：掩模框架

8x：开口部

81a～81d：框架元件

811：开口部侧边部

813：长度方向一端侧的端边部

82：支撑构件

9：滑动导轨机构

11：紧固构件

81h1、81h2：插通孔

111：头部

s：间隙

811x：第1倾斜面

813x：第2倾斜面