一种铜排抛光机的制作方法

本发明涉及一种铜排抛光机，属于铜排加工设备技术领域。

背景技术：

由于技术的升级，现有电柜内的导电铜排需钝化，而压装晶闸管的夹具改为了铝方块，这就要求清除铜排及铝方块表面油污、氧化物，便于钝化。现有对铜排和铝方块表面的处理没有专用的机械，若用角磨机来清理，一方面工艺不达要求，另一方面劳动量较大，因此，需要设计一种专用机械。

技术实现要素：

本发明目的在于解决现有技术中的上述问题，提供一种铜排抛光机。

本发明为达到上述目的，所采用的技术手段是：一种铜排抛光机，包括机架，抛光轮安装在抛光轴上，抛光轴安装在机架上并连接驱动组件，在机架上安装四根滑动杆，工件平台安装在四根滑动杆上，抛光轮位于工件平台上方，在四根滑动杆上设置调整组件，用于调整工件平台与抛光轮之间的间隙。

进一步的，所述机架包括顶板、底板和连接顶板和底板的支撑架，抛光轮两端通过轴承和轴承座固定在支撑架上；四根滑动杆的两端通过滑动轴承安装在顶板和底板上。

更进一步的，所述滑动杆在与工件平台连接处下方设置一段螺纹，所述调整组件包括安装在滑动杆螺纹上的两个调节螺帽，以及套接在滑动杆上，并位于下调节螺帽至下滑动轴承之间的调节弹簧，上调节螺帽接触并支撑工件平台。

进一步的，所述驱动组件为驱动电机和联轴器，驱动电机通过联轴器连接抛光轴。

更进一步的，所述驱动电机为变频调速电机。

进一步的，所述铜排抛光机用于加工宽度100mm或以下，厚度50mm或以下的直铜排、铝排或铝方块。

本发明有益效果在于：利用一个可调整的工件平台，调节铜排与抛光轮之间的距离，并且调节采用滑动杆、滑动轴承、工件平台、调节螺帽和调节弹簧配合，实现了动静态调节，抛光效果极佳，清除污物及氧化物干净，便于钝化，生产效率大幅度提高，而且结构简单，操作方便，使用成本低。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明结构示意图。

图中：1、机架，2、抛光轮，3、抛光轴，4、滑动杆，5、工件平台，6、滑动轴承，7、调节螺帽，8、调节弹簧，9、驱动电机。

具体实施方式

实施例1

一种铜排抛光机，包括机架1，抛光轮2安装在抛光轴3上，抛光轴3安装在机架1上并连接驱动组件，在机架1上安装四根滑动杆4，工件平台5安装在四根滑动杆4上，抛光轮2位于工件平台5上方，在四根滑动杆4上设置调整组件，用于调整工件平台5与抛光轮2之间的间隙。

实施例2

如图1所示，作为实施例1的具体结构设计，所述机架1包括顶板、底板和连接顶板和底板的支撑架，抛光轮2两端通过轴承和轴承座固定在支撑架上；四根滑动杆4的两端通过滑动轴承6安装在顶板和底板上。

所述滑动杆4在与工件平台5连接处下方设置一段螺纹，所述调整组件包括安装在滑动杆4螺纹上的两个调节螺帽7，以及套接在滑动杆4上，并位于下调节螺帽至下滑动轴承之间的调节弹簧8，上调节螺帽接触并支撑工件平台5。

本实施例通过调节螺帽实现工件与抛光轮之间距离静态粗调，而利用弹簧实现工件与抛光轮之间的动态间隙微调。在未开机时，根据工件尺寸调整上调节螺帽，可以调整工件平台与抛光轮的间隙，然而，只有这种静态调节，无法实现抛光轮对工件清除污物及氧化物的干净程度的要求，此时，再调节下调节螺帽，使得下调节螺帽压紧或放松调节弹簧，在开机工作时，利用调节弹簧自动微调，产生抛光轮对工件压紧效果，实现对工件清除污物及氧化物的干净效果。

所述驱动组件为驱动电机9和联轴器，驱动电机通过联轴器连接抛光轴3。

所述驱动电机9为变频调速电机。

本发明适用于宽度100mm或以下，厚度50mm或以下的直铜排，铝排以及铝方块的表面油污和氧化物的抛光清理。

本发明利用一个可调整的工件平台，调节铜排与抛光轮之间的距离，并且调节采用滑动杆、滑动轴承、工件平台、调节螺帽和调节弹簧配合，实现了动静态调节，抛光效果极佳，清除污物及氧化物干净，便于钝化，生产效率大幅度提高，而且结构简单，操作方便，使用成本低。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。