防溅装置与晶圆处理设备的制作方法

文档序号:21594845发布日期:2020-07-24 16:44阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种防溅装置,其特征在于,包括:

闭合挡具,包括底板和设置在底板上方的侧壁,所述侧壁与所述底板相互连接,围成一底面闭合的空间,用于放置晶圆放置台,防止喷淋至所述晶圆放置台上表面的喷淋液溅出,所述晶圆放置台能够放置晶圆;

清洗喷头,朝向所述闭合挡具内壁设置,用于出射清洗液清洗所述闭合挡具内壁附着的颗粒物杂质。

2.根据权利要求1所述的防溅装置,其特征在于,所述闭合挡具的底板设置有通孔,用于安装晶圆放置台,且围绕所述通孔一周设置有第二挡板,与所述侧壁平行。

3.根据权利要求1所述的防溅装置,其特征在于,还包括第一排液口,设置于所述底板表面,用于排出所述闭合挡具的底板的液体。

4.根据权利要求3所述的防溅装置,其特征在于,还包括:

过滤器,安装至所述第一排液口,用于滤除自所述第一排液口流出的液体中掺杂的颗粒物杂质;

排液管路,第一端连通至所述第一排液口,第二端连通至外界,用于使自所述第一排液口流出的液体流向预设位置。

5.根据权利要求4所述的防溅装置,其特征在于,所述排液管路还包括一第三端,所述第三端连通至所述闭合挡具外,用于收集自所述闭合挡具内溅出的喷淋液。

6.根据权利要求1所述的防溅装置,其特征在于,还包括:

气缸,用于安装所述闭合挡具,以带动所述闭合挡具伸缩,且所述气缸的数目至少为两个,在所述气缸竖直放置,且所述闭合挡具安装至所述气缸时,所述底板呈水平状态。

7.根据权利要求1所述的防溅装置,其特征在于,还包括:

清洗液供液管路,用于连通至所述清洗喷头,给所述清洗喷头提供清洗液。

8.根据权利要求7所述的防溅装置,其特征在于,所述清洗液供液管路包括:环状清洗液供液子管路,设置于所述闭合挡具侧壁的内侧,且所述环状清洗液供液子管路与所述闭合挡具侧壁的内侧的距离小于2cm;

所述清洗喷头的数目为多个,均设置在所述环状清洗液供液子管路上,形成清洗环。

9.根据权利要求1所述的防溅装置,其特征在于,所述清洗喷头为扇形喷嘴,喷淋出的清洗液呈扇形,且扇形的角度范围为25°至60°。

10.一种晶圆处理设备,其特征在于,包括如权利要求1至9中任一项所述的防溅装置。


技术总结
该实用新型涉及一种防溅装置与晶圆处理设备,其中所述防溅装置包括:闭合挡具,包括底板和设置在底板上方的侧壁,所述侧壁与所述底板相互连接,围成一底面闭合的空间,用于放置所述晶圆放置台,防止喷淋至所述晶圆放置台上表面的喷淋液溅出;清洗喷头,朝向所述闭合挡具内壁设置,用于出射清洗液清洗所述闭合挡具内壁附着的颗粒物杂质。本实用新型的防溅装置与晶圆处理设备具有闭合挡具,在有喷淋液喷淋晶圆放置台时,将所述晶圆放置台放置于所述闭合挡具所围成的空间内,可以很好的防止所述喷淋液溅射到所述闭合挡具外部,减小喷淋液结晶的形成,提高晶圆生产的良率。

技术研发人员:岳志刚;辛君;林宗贤
受保护的技术使用者:德淮半导体有限公司
技术研发日:2019.06.25
技术公布日:2020.07.24
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