1.一种提高真空镀膜气氛均匀性的辉光区气路布置方法，其特征在于：根据镀膜真空腔体结构和辉光区的长度，将辉光区等分为1-20段子供气区域，对每个子供气区域分别进行独立的供气，将辉光区两端延伸出200-500mm的区域作为辅供气区域，对每个辅供气区域也分别进行独立的供气，每个子供气区域与每个辅供气区域均设置有一个用于供气的气路装置，气路装置通过质量流量计定量控制流量。
2.根据权利要求1所述的一种提高真空镀膜气氛均匀性的辉光区气路布置方法，其特征在于：所述气路装置包括一个主进气管、至少一个次级分管和一个出气管，次级分管将主进气管中气体1-10级对称等分后与出气管连接，所述出气管平行于辉光区，出气管两端密闭，出气管在平行于辉光区方向上均匀分布等径的出气孔，所有气路装置上的出气管同轴布置。
3.根据权利要求2所述的一种提高真空镀膜气氛均匀性的辉光区气路布置方法，其特征在于：所述出气管上出气孔朝同一方向，出气孔的孔径为0.1-5mm，出气孔的间距≥出气孔的孔径，出气管上每个次级分管给其左右各1-5个出气孔供气。
4.根据权利要求3所述的一种提高真空镀膜气氛均匀性的辉光区气路布置方法，其特征在于：所述出气管上的出气孔朝向真空腔壁或者朝向靶材辉光区。
5.一种提高真空镀膜气氛均匀性的辉光区气路装置，其特征在于：所述气路装置包括一个进气管、至少一个次级分管和一个出气管，所述出气管为独立的、平行于辉光区的、两端密闭的管状结构，出气管由一个质量流量计控制气体流量；气体通过质量流量计后，经1-10级对称等分，各级间距为0.1-100mm，通过至少一个次级分管后，最终从出气管上均匀分布的出气孔排出进入真空腔体；每个次级分管给其左右各1-5个出气孔供气；所述出气孔朝同一方向，其朝向真空腔壁或者朝向靶材辉光区，出气孔的孔径相等，为0.1-5mm。