其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的所述一对长形区段的各自末端；其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。
[0091]实例10包括实例9的系统，其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在所述磁场中形成沿着所述靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线，因此每个曲线的所得靶腐蚀分量在靶材旋转时不彼此重叠。
[0092]实例11包括实例9至实例10的任一个的系统，其中所述磁铁被配置在每个转向区段中，使得由所述转向区段中的所述磁铁形成的所述磁场中的至少两个或更多个曲线的每一个形成在具有相对于彼此转动的磁极的两个磁铁之间。
[0093]实例12包括实例9至实例11的任一个的系统，其中所述磁铁被配置在每个转向区段中，使得由所述转向区段中的所述磁铁形成的所述磁场中的至少两个或更多个曲线的每一个形成在具有相对于彼此转动至少90度的磁极的两个或更多个磁铁之间。
[0094]实例13包括实例9至实例12的任一个的系统，其中磁铁的所述个别线性阵列被配置来在所述磁轭上形成径向图案、阶状图案或扁平图案。
[0095]实例14包括实例9至实例13的任一个的系统，其中所述多个磁铁的至少一个具有与至少一个所述其它磁铁不同的几何形状、大小、定向或磁强度。
[0096]实例15包括实例9至实例14的任一个的系统，其中所述图案的所述外部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述一对长形区段的各自末端，且其中所述转向区段包括两个或更多个阶部。
[0097]实例16包括实例9至实例15的任一个的系统，其中所述磁轭被构造来使得由所述多个磁铁形成的所述图案可在不修改所述磁轭的设计的情况下重新构造。
[0098]实例17包括实例9至实例16的任一个的系统，其进一步包括驱动系统以支撑和旋转所述长形可旋转圆柱管。
[0099]实例18包括实例9至实例17的任一个的系统，其中所述系统被构造来结合在基板移动穿过所述室时在所述基板上沉积膜而在所述室内形成等离子。
[0100]实例19包括一种在基板上溅射材料的方法，所述方法包括:形成磁铁图案作为被安置在长形可旋转圆柱管内的磁控管总成的一部分，其中所述长形可旋转圆柱管包括靶表面；将所述长形可旋转圆柱管安装在室中；在所述室中维持真空；在所述室内旋转所述长形可旋转圆柱管；使用所述磁控管总成在所述靶表面上供应磁通量；及在所述室内于所述靶表面附近移动所述基板；其中所述磁控管总成包括:多个磁铁；和磁轭，其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中；其中所述多个磁铁配置在所述磁轭中以形成包括外部分和内部分的图案；其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边；其中所述线性阵列的所述末端部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的所述一对长形区段的各自末端；且其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。
[0101]实例20包括实例19的方法，其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在所述磁场中形成沿着所述靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线，因此每个曲线的所得靶腐蚀分量在靶材旋转时不彼此重叠。
【主权项】
1.一种磁控管总成，其包括: 多个磁铁；和 磁轭，其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中； 其中所述多个磁铁被配置在所述磁轭中以形成包括外部分和内部分的图案，其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边； 其中所述线性阵列的所述末端部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的一对长形区段的各自末端； 其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。
2.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在所述磁场中形成沿着所述靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线，因此每个曲线的所得靶腐蚀分量在靶材旋转时不彼此重叠。
3.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中所述磁铁被配置在每个转向区段中，使得由所述转向区段中的所述磁铁形成的所述磁场中的所述至少两个或更多个曲线的每一个形成在具有相对于彼此转动的磁极的两个磁铁之间。
4.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中所述磁铁被配置在每个转向区段中，使得由所述转向区段中的所述磁铁形成的所述磁场中的所述至少两个或更多个曲线的每一个形成在具有相对于彼此转动至少90度的磁极的两个或更多个磁铁之间。
5.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中磁铁的个别线性阵列被配置来在所述磁轭上形成径向图案、阶状图案或扁平图案。
6.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中所述多个磁铁的至少一个具有与至少一个所述其它磁铁不同的几何形状、大小、定向或磁强度。
7.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中所述图案的所述外部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述一对长形区段的各自末端，且其中所述转向区段包括两个或更多个阶部。
8.根据权利要求1所述的磁控管总成，其中所述磁轭被构造使得由所述多个磁铁形成的所述图案可在不修改所述磁轭的设计的情况下重新构造。
9.一种派射系统，其包括: 室，基板移动穿过所述室； 阴极总成，其包括: 长形可旋转圆柱管，其安装在所述室中且具有靶表面；和 磁控管总成，其定位在所述长形可旋转圆柱管内，所述磁控管总成包括: 多个磁铁；和 磁轭，其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中； 其中所述多个磁铁被配置在所述磁轭中以形成包括外部分和内部分的图案，其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边； 其中所述线性阵列的所述末端部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的一对长形区段的各自末端； 其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在所述磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。
10.根据权利要求9所述的系统，其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在所述磁场中形成沿着所述靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线，因此每个曲线的所得靶腐蚀分量在靶表面旋转时不彼此重叠。
11.根据权利要求9所述的系统，其中所述磁铁被配置在每个转向区段中，使得由所述转向区段中的所述磁铁形成的所述磁场中的所述至少两个或更多个曲线的每一个形成在具有相对于彼此转动的磁极的两个磁铁之间。
12.根据权利要求9所述的系统，其中所述磁铁被配置在每个转向区段中，使得由所述转向区段中的所述磁铁形成的所述磁场中的所述至少两个或更多个曲线的每一个形成在具有相对于彼此转动至少90度的磁极的两个或更多个磁铁之间。
13.根据权利要求9所述的系统，其中磁铁的所述个别线性阵列被配置来在所述磁轭上形成径向图案、阶状图案或扁平图案。
14.根据权利要求9所述的系统，其中所述多个磁铁的至少一个具有与至少一个所述其它磁铁不同的几何形状、大小、定向或磁强度。
15.根据权利要求9所述的系统，其中所述图案的所述外部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨一对长形区段的各自末端，且其中所述转向区段包括两个或更多个阶部。
16.根据权利要求9所述的系统，其中所述磁轭被构造来使得由所述多个磁铁形成的所述图案可在不修改所述磁轭的设计的情况下重新构造。
17.根据权利要求9所述的系统，其进一步包括驱动系统以支持及旋转所述长形可旋转圆柱管。
18.根据权利要求9所述的系统，其中所述系统被构造来结合在基板移动穿过所述室时在所述基板上沉积膜而在所述室内形成等离子。
19.一种用于在基板上溅射材料的方法，所述方法包括: 形成磁铁图案作为被安置在长形可旋转圆柱管内的磁控管总成的一部分，其中所述长形可旋转圆柱管包括靶表面； 将所述长形可旋转圆柱管安装在室中； 在所述室中维持真空； 在所述室内旋转所述长形可旋转圆柱管； 使用所述磁控管总成在所述靶表面上供应磁通量；和 在所述室内于所述靶表面附近移动所述基板； 其中所述磁控管总成包括: 多个磁铁；和 磁轭，其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中； 其中所述多个磁铁被配置在所述磁轭中以形成包括外部分和内部分的图案，其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边； 其中所述线性阵列的所述末端部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的一对长形区段的各自末端；和 其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在所述磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。
20.根据权利要求19所述的方法，其中每个转向区段中的所述磁铁被配置来在所述磁场中形成沿着所述靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线，因此每个曲线的所得靶腐蚀分量在靶材旋转时不彼此重叠。
【专利摘要】一个实施方案涉及一种磁控管总成，其包括：多个磁铁；和磁轭，其被构造来将所述多个磁铁保持在至少四个笔直、平行、独立线性阵列中。所述多个磁铁被配置在所述磁轭中以形成包括外部分和内部分的图案，其中所述外部分大体上围绕所述内部分的周边。所述线性阵列的末端部分包括一对转向区段，其中每个转向区段大体上横跨所述外部分的一对长形区段的各自末端。每个转向区段中的磁铁被配置来在磁场中形成沿着靶旋转轴彼此偏移的至少两个或更多个不同曲线。
【IPC分类】C23C14-35
【公开号】CN104812934
【申请号】CN201380046219
【发明人】P.L.摩尔斯
【申请人】零件喷涂公司
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2013年9月3日
【公告号】EP2880196A1, US20140061029, WO2014039426A1