散热孔的不锈钢套以及不锈钢套内的加热电阻构成，用于使所述沉积腔室3内的温度控制为20°C?120°C。
[0024]还包括高真空系统，所述高真空系统包括与所述沉积腔室3连通的扩散腔室6、与所述扩散腔室6连通进而与所述沉积腔室3连通的机械栗7和设置于所述扩散腔室6内的扩散栗8，还包括与所述沉积腔室3和所述扩散腔室6同时连通的第一冷阱9和设置于所述扩散腔室6内的第二冷阱10 ;所述沉积腔室3与所述扩散栗8之间设置有高真空阀11，所述沉积腔室3与所述第一冷阱9之间设置有冷凝阀12。在第一冷阱和第二冷阱全部加满液氮后，当高真空阀11打开，冷凝阀12关闭时，沉积腔室3的压力可达到10 6Pa,而当高真空阀11关闭、冷凝阀12打开时，沉积腔室3的压力可到10 5Pa0
[0025]实施例2
[0026]本实施例提供了一种Parylene膜真空涂覆设备，其工作流程为:
[0027]固态环二体原料首先进入升华炉1，所述升华炉I内升温至100°C以上，使原料升华为气体，在真空作用下，通过管路进入裂解炉2，在650?700°C裂解温度下，裂解为单体，所述升华炉I与所述裂解炉2之间设置有气体流量调节阀4，通过调节该阀开口大小从而控制原料升华气体流量，该阀可即时、准确的控制腔室压力，并且当出现意外情况时，可关闭该阀，阻止升华气体经由裂解炉2进入沉积腔室3，所述气体流量调节阀4上还设置有用于避免升华气体在所述气体流量调节阀上冷凝的石棉柔性加热片，其具有柔性、包裹性严密、无冷角的特点。裂解后的原料进入所述沉积腔室3，在置于所述沉积腔室3底部的原件基体表面化学气相沉积成膜，由于在化学气相沉积制备薄膜的过程中，原件基体的温度是决定薄膜结构的重要条件，它将影响薄膜生长的表面迀徙速率、成核条件、结晶、基体上膜的外延生长质量和残余应力等。在Parylene膜的气相沉积过程中，当沉积压力一定时，原件基体温度决定了单体在基体表面的沉积速率，从而形成不同的微观结构及晶粒形态，会影响膜的力学、热力学、透湿透气等各项性能。在传统的Parylene沉积设备中均无基体温度控制单元，无法满足不同温度下Parylene膜沉积机理研究和特殊膜制备的要求。本实施例中，在沉积腔室3引入温度控制装置5，所述温度控制装置5由套体设置有散热孔的不锈钢套以及不锈钢套内的加热电阻构成，使基体进行温度控制在20°C?120°C。
[0028]由于压力是影响成膜性能的主要因素之一，需控制涂覆设备中的真空度，本实施例中设置有高真空系统，所述高真空系统包括与所述沉积腔室3连通的扩散腔室6、与所述扩散腔室6连通进而与所述沉积腔室3连通的机械栗7和设置于所述扩散腔室6内的扩散栗8，还包括与所述沉积腔室3和所述扩散腔室6同时连通的第一冷阱9和设置于所述扩散腔室6内的第二冷阱10 ;在Parylene膜的沉积过程中，所述机械栗7和所述扩散栗8用于抽真空，所述第一冷阱9用于捕获所述沉积腔室3内未沉积的单体，同时也用于冷凝水汽和降低装置压力，所述第二冷阱10用于冷凝反出来的扩散栗油，并且将所述第一冷阱9和所述第二冷阱10装满液氮后，通过打开和关闭高真空阀11、冷凝阀12调节所述沉积腔室3内的真空度，当高真空阀11打开，冷凝阀12关闭时，沉积腔室3的压力可为10 6Pa,而当高真空阀11关闭、冷凝阀12打开时，腔室压力可到10 5Pa0
[0029]显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。
【主权项】
1.一种高分子真空涂覆设备，包括通过管路顺次连通的升华炉、裂解炉和沉积腔室，其特征在于，所述升华炉与裂解炉之间设置有气体流量调节阀；所述沉积腔室内设置有温度控制装置。2.根据权利要求1所述的高分子真空涂覆设备，其特征在于，还包括高真空系统，所述高真空系统包括与所述沉积腔室连通的扩散腔室、与所述扩散腔室连通进而与所述沉积腔室连通的机械栗和设置于所述扩散腔室内的扩散栗。3.根据权利要求2所述的高分子真空涂覆设备，其特征在于，所述高真空系统还包括与所述沉积腔室和所述扩散腔室同时连通的第一冷阱和设置于所述扩散腔室内的第二冷讲。4.根据权利要求1-3任一项所述的高分子真空涂覆设备，其特征在于，所述温度控制装置由套体设置有散热孔的不锈钢套以及不锈钢套内的加热电阻构成。5.根据权利要求4所述的高分子真空涂覆设备，其特征在于，所述温度控制装置使所述沉积腔室内的温度为20 °C?120 0C。6.根据权利要求5所述的高分子真空涂覆设备，其特征在于，所述沉积腔室与所述扩散栗之间设置有高真空阀，所述沉积腔室与所述第一冷阱之间设置有冷凝阀。7.根据权利要求6所述的高分子真空涂覆设备，其特征在于，所述气体流量调节阀上还设置有加热机构。8.根据权利要求7所述的高分子真空涂覆设备，其特征在于，所述加热机构为用于避免升华气体在所述气体流量调节阀上冷凝的石棉柔性加热片。
【专利摘要】本发明公开了一种高分子真空涂覆设备，包括通过管路顺次连通的升华炉、裂解炉和沉积腔室，所述升华炉与裂解炉之间设置有气体流量调节阀；所述沉积腔室内设置有温度控制装置。通过调节所述气体流量调节阀开口的大小而控制了原料升华气体流量，该阀可即时、准确的控制腔室压力，并且当出现意外情况时，可关闭该阀，阻止升华气体进入沉积腔室。所述温度控制装置可使沉积腔室内温度控制在20℃～120℃，可以满足多种高分子膜的制备条件。
【IPC分类】C23C16/52, C23C16/44
【公开号】CN105039935
【申请号】CN201510522803
【发明人】杨晓
【申请人】深圳市星火辉煌系统工程有限公司
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年8月24日