；495)中的至少一个在基本上垂直于所述第一方向(121 ；221 ；321 ；421 ；521 ；621 ；721 ；821 ；921 ；1021 ；1121)的第二方向(122 ；222 ；322 ；422 ；522 ；622 ；722 ；822 ；922 ；1022 ；1122)上相对所述第一气体供应管道(130 ；230 ；330 ；430 ；530 ；630 ；730 ；830 ；930 ；1030 ；1130)被移位。7.根据权利要求4至5中的任一项所述的蒸发装置，其特征在于，所述第二气体供应管道(140 ；240 ；340 ；440 ；540 ；640 ；740 ；840 ；940 ；1040 ；1140)和所述第三气体供应管道(395 ；495)布置在所述第一气体供应管道(130 ；230 ；330 ；430 ；530 ；630 ；730 ；830 ；930 ；1030 ；1130)的相对侧。8.根据权利要求1至6中的任一项所述的蒸发装置，其特征在于，所述第二气体供应管道(140 ；240 ；340 ；440 ；540 ；640 ；740 ；840 ；940 ；1040 ；1140)通过以下方式中的至少一种来改善材料沉积的均匀性: 沿所述第一方向(121 ；221 ；321 ；421 ；521 ；621 ；721 ；821 ；921 ；1021 ;1121)，在基本上位于所述第一组蒸发坩祸(110 ；210 ；310 ；410 ；510 ；610 ；710 ；810 ；910 ；1010 ；1110)中的蒸发坩祸的位置处提供所述开口 (150 ；250 ；350 ；450 ；550 ；650 ；750 ；850 ；950 ；1050 ；1150);以及 沿所述第一方向，在所述第二组蒸发坩祸(280 ；380 ；480 ；580 ；880 ；1180)中的蒸发坩祸的位置处是闭合的。9.根据权利要求4至7中的任一项所述的蒸发装置，其特征在于，所述第三气体供应管道(395 ;495)通过以下方式中的至少一种来改善材料沉积的均匀性: 沿所述第一方向(321 ;421)，在基本上位于所述第二组蒸发坩祸(380;480)中的蒸发坩祸的位置处提供所述开口(396 ;496);以及 沿所述第一方向，在所述第一组蒸发坩祸(310 ;410)中的蒸发坩祸的位置处是闭合的。10.根据权利要求1至8中的任一项所述的蒸发装置，其特征在于，所述第二气体供应管道(140 ；240 ；340 ；440 ；540 ；640 ；740 ；840 ；940 ；1040 ；1140)和所述第三气体供应管道(395 ;495)中的至少一个提供具有不同尺寸的开口。11.根据权利要求9所述的蒸发装置，其特征在于，所述第二气体供应管道(140;240 ;340 ；440 ；540 ；640 ；740 ；840 ；940 ；1040 ；1140)和所述第三气体供应管道(395 ；495)中的至少一个的所述开口的尺寸依赖于所述开口沿所述第一方向(121 ；221 ；321 ；421 ;521 ;621 ；721 ；821 ；921 ；1021 ；1121)的位置而变化。12.一种用于在由滚筒(170 ；270 ；370 ；670)支撑的基板(160 ；260 ；360 ；460 ；560 ；660 ；760 ；860 ；960 ；1060 ；1160)上沉积材料的蒸发装置(100 ；200 ；300 ；400 ；500 ；600 ；700 ；800 ；900 ；1000 ; 1100)，所述蒸发装置包括: 第一组蒸发坩祸(110 ；210 ；310 ；410 ；510 ；610 ；710 ；810 ；910 ；1010 ；1110)和第二组蒸发坩祸(280 ;380 ;480 ;580 ;880 ; 1180)，所述第一组蒸发坩祸沿在第一方向(121 ;221 ;321 ；421 ；521 ；621 ；721 ；821 ；921 ；1021 ；1121)上延伸的第一线(120 ；220 ；320 ；420 ；520 ；620 ；720 ；820 ；920 ；1020 ；1120)对齐，所述第二组蒸发坩祸沿在所述第一方向上延伸的第二线(290 ；390 ；490 ；590 ；890 ；1190)对齐； 第一气体供应(130 ；230 ；330 ；430 ；530 ；630 ；730 ；830 ；930 ；1030 ;1130)，所述第一气体供应在所述第一方向上延伸，并且配置成用于为所述第一组蒸发坩祸和所述第二组蒸发坩祸供应气体；以及 第二气体供应(140 ；240 ；340 ；440 ；540 ；640 ；740 ；840 ；940 ；1040 ；1140)，所述第二气体供应在所述第一方向上延伸，并且用于为所述第一组蒸发坩祸供应气体且包括管道，其中，所述管道包括沿所述第一方向基本上位于所述第一组蒸发坩祸中的蒸发坩祸的位置处的气体出 口开口 (150 ；250 ；350 ；450 ；550 ；650 ；750 ；850 ；951 ；952 ；953 ；1051 ；1052 ；1053 ;1151 ;1152)，并且沿所述第一方向在所述第二组蒸发坩祸中的蒸发坩祸的位置处是闭合的。13.根据权利要求12所述的蒸发装置，其特征在于，所述第一组蒸发坩祸(110;210 ;310 ；410 ；510 ；610 ；710 ；810 ；910 ；1010 ；1110)的所述第一线(120 ；220 ；320 ；420 ；520 ；620 ；720 ；820 ；920 ；1020 ；1120)穿过所述第一组坩祸中的至少两个坩祸的中心来定义，并且所述第二组蒸发坩祸(280 ；380 ；480 ；580 ；880 ；1180)的所述第二线(290 ；390 ；490 ；590 ;890 ;1190)穿过所述第二组坩祸中的至少两个坩祸的中心来定义，其中，所述第一线和所述第二线在基本上垂直于所述第一方向(121 ；221 ；321 ；421 ；521 ；621 ；721 ；821 ；921 ；1021 ；1121)的第二方向(222 ；322 ；422 ；522 ；622 ;722，822 ；922, 1022 ；1122)上彼此移位。14.根据权利要求12至13中的任一项所述的蒸发装置，进一步包括第三气体供应(395 ;495)，所述第三气体供应在所述第一方向(321 ;421)上延伸，并且用于为所述第二组蒸发坩祸(380 ;480)供应气体且包括管道，其中，所述管道包括沿所述第一方向(321 ;421)基本上位于所述第二组蒸发坩祸(380 ;480)中的蒸发坩祸的位置处的气体出口开口(396 ;496)，并且沿所述第一方向在所述第一组蒸发坩祸(310;410)中的蒸发坩祸的位置处是闭合的。15.根据权利要求12至14中的任一项所述的蒸发装置，其特征在于，所述第二气体供应(140 ；240 ；340 ；440 ；540 ；640 ；740 ；840 ；940 ；1040 ；1140)和所述第三气体供应(395 ；495)中的至少一个在基本上垂直于所述第一方向(121 ；221 ；321 ；421 ；521 ；621 ；721 ；821 ；921 ；1021 ；1121)的第二方向(122 ；222 ；322 ；422 ；522 ；622 ；722 ；822 ；922 ；1022 ；1122)上相对所述第一气体供应(130 ；230 ；330 ；430 ；530 ；630 ；730 ；830 ；930 ；1030 ；1130)被移位。16.根据权利要求15所述的蒸发装置，其特征在于，所述第二气体供应和所述第三气体供应布置在所述第一气体供应的相对侧。17.根据权利要求12至16中的任一项所述的蒸发装置，其特征在于，所述第一气体供应(130 ；230 ；330 ；430 ；530 ；630 ；730 ；830 ；930 ；1030 ；1130)配置成用于通过提供气体出口开口来为所述第一组蒸发坩祸(110 ；210 ；310 ；410 ；510 ；610 ；710 ；810 ；910 ；1010 ；1110)和所述第二组蒸发坩祸(280 ；380 ；480 ；580 ；880 ；1180)供应气体，并且其中，每长度单位的所述第一气体供应中的气体出口开口的数量大于所述第二气体供应和所述第三气体供应中的至少一个的每长度单位的气体出口开口的数量。18.一种用于在由滚筒(170 ；270 ；370 ；670 ；1270)支撑的基板(160 ；260 ；360 ；460 ；560 ；660 ；760 ；860 ；960 ；1060 ；1160 ；1260)上沉积材料的蒸发装置(100 ；200 ；300 ；400 ；500 ；600 ；700 ；800 ；900 ；1000 ；1100 ；1200)的用途，所述蒸发装置包括:第一组蒸发坩祸(110 ；210 ；310 ；410 ；510 ；610 ；710 ；810 ；910 ；1010 ；1110 ；1210)，所述第一组蒸发坩祸在沿第一方向(121 ；221 ；321 ；421 ；521 ；621 ；721 ；821 ；921 ；1021 ；1121 ；1221)的第一线(120 ；220 ；320 ；420 ；520 ；620 ；720 ；820 ；920 ；1020 ；1120 ；1220)上对齐，并且用于将经蒸发的材料沉积在所述基板上；第一气体供应管道(130 ；230 ；330 ；430 ；530 ；630 ；730 ；830 ；930 ；1030 ；1130 ；1230)，所述第一气体供应管道在所述第一方向上延伸，并且布置在所述第一组蒸发坩祸中的至少一个蒸发坩祸与所述滚筒之间；以及 第二气体供应管道(140 ；240 ；340 ；440 ；540 ；640 ；740 ；840 ；940 ；1040 ；1140 ；1240)，所述第二气体供应管道在所述第一方向上延伸，并且用于利用开口(150 ;250 ;350 ;450 ;.550 ；650 ；750 ；850 ；951 ；952 ；953 ；1051 ；1052 ；1053 ；1151 ；1152)在所述第一组蒸发坩祸与所述滚筒之间提供气体，所述开口经成形并定位以改善材料沉积的均匀性。
【专利摘要】描述了一种用于在由滚筒(170)支撑的基板(160)上沉积材料的蒸发装置(100)。所述蒸发装置包括：第一组蒸发坩埚(110)，所述第一组蒸发坩埚在沿第一方向(121)的第一线(120)上对齐，并且用于将经蒸发的材料沉积在所述基板上；第一气体供应管道(130)，所述第一气体供应管道在所述第一方向(121)上延伸，并且布置在所述第一组蒸发坩埚(110)中的至少一个蒸发坩埚与所述滚筒(170)之间；以及第二气体供应管道(140)，所述第二气体供应管道在所述第一方向(121)上延伸，并且用于利用开口(150)在所述第一组蒸发坩埚(110)与所述滚筒(170)之间提供气体，所述开口经成形并定位以改善材料沉积的均匀性。
【IPC分类】C23C14/24, C23C14/08, H01J37/32, C23C14/56, C23C14/00
【公开号】CN105378136
【申请号】CN201480038710
【发明人】G·霍夫曼, S·施拉姆, R·特拉斯尔
【申请人】应用材料公司
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2014年6月26日
【公告号】EP2818572A1, US20150000598, WO2014207088A1