一种针对大面积超光滑表面的气液固三相磨粒流抛光装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及精密加工领域，更具体的说，涉及一种针对大面积超光滑表面的气液固三相磨粒流抛光装置。
【背景技术】
[0002]在现代光学、电子信息及薄膜科学等高新科技领域，需要在精密光学零件和功能晶体材料表面实现超光滑表面加工(Ultrasmooth Surface Manufacturing)，例如软X射线光学系统、激光陀螺反射镜、高密度波分复用器、高能激光反射镜、功能光电器件、光学窗口等。一般来说，超光滑表面加工为实现原子级材料去除，加工时对工件表面的作用力很小，因此属于典型的慢工出细活的加工方式，效率极低，且加工成本很高。在确保不出现加工变质层和亚表面损伤的前提下实现低成本、高效率的超光滑表面加工是精密制造领域急需解决的技术难题。
[0003]现有超光滑表面加工方法，总体可分为两类，一类依靠加工工具接触工件表面实现加工(如使用砂轮、砂带或其它柔性材料作为工具的磨削、抛光等)，另一类则不依靠加工工具直接接触工件表面，而是利用携带微细磨粒的磨粒流的高速流动实现对工件表面的加工，可以将这一类加工方法统称为流体抛光。工具接触工件表面的加工，实际上是通过工具作用于微细磨粒对工件表面形成微切削以去除表面材料的微隆起，由于微细磨粒及其混于其中的杂质的粒径不均匀和工具表面本身的形态误差，导致磨粒受工具作用力的不均匀，因此受力过大(特别是会导致法向力过大)的磨粒难以避免地会造成表面加工变质层和亚表面损伤。因此，从超光滑表面加工的特殊要求看，流体抛光使用柔性好得多的流体驱动微细磨粒对工件表面形成的微切削或微撞击的力度则要小得多，特别是可以对法向力有充足的缓冲，因此可以有效避免加工层变质和亚表面损伤，是更为合理的超光滑表面加工方法。
[0004]目前液体抛光方法的缺陷是有效加工面积小，加工效率低，针对此问题，本实用新型型专利提出了一种全新的抛光结构，有效的改善了上述问题。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型的目的在于解决气液固三相磨粒流抛光过程中有效加工面积小、加工效率低的问题，提供了一种加工平移无振动、能够适应调整加工角度及间隙的大面积超光滑表面的气液固三相磨粒流抛光装置
[0006]本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:一种针对大面积超光滑表面的气液固三相磨粒流抛光装置，包括装有抛光液的承载箱体、平移装置、旋转支撑平台和升降装置，所述承载箱体底部固定有工件装夹盘，被抛光工件被装夹在箱体底部的工件装夹盘上，抛光液充入箱体并浸没被抛光工件；所述平移装置包括平移驱动电机、线性模组和超声波发生器，超声波发生器固定在线性模组的滑块上，平移驱动电机连接线性模组并驱动线性模组运动从而带动超声波发生器进行平移运动；所述旋转支撑平台包括旋转驱动电机和十字交叉轴承，所述线性模组固定在十字交叉轴承上端面，十字交叉轴承的外侧设有外齿圈，旋转驱动电机的输出端设有齿轮并通过该齿轮与十字交叉轴承的外齿圈相啮合，从而驱动线性模组作旋转运动；所述升降装置包括升降驱动电机、光轴导轨、丝杠和支撑平板，旋转支撑平台固定在支撑平板上，升降驱动电机连接丝杠上端并驱动丝杠的转动，支撑平板的两端通过光轴导套套装在光轴导轨上，丝杠上套装有丝杠轴套，丝杠轴套固接支撑平板，所述升降驱动电机驱动丝杠转动时带动支撑平板的升降运动，从而带动旋转支撑平台的升降运动；所述支撑平板设在承载箱的正上方。
[0007]进一步的，所述旋转驱动电机固定在支撑平台上。
[0008]进一步的，所述光轴导轨设有四根，且均匀设在支撑平板短边的外侧，四根光轴导轨上端固接上板，下端固接下板；所述丝杠的下端连接下板，丝杠的上端穿过上板连接升降驱动电机，升降驱动电机通过电机座固定在上板上。
[0009]进一步的，所述超声波发生器底部固接滑块，超声波发生器的发射端正对被抛光工件。
[0010]进一步的，所述超声波发生器底部倾斜固定在滑块上，超声波发生器的发射端与被抛光工件表面形成抛光角度。
[0011]承载箱体主要为被抛光工件提供一个装夹并与抛光液耦合接触的平台，一般的被抛光工件为盘状硅片、光学玻璃或铝片，具体安装时，先将被抛光工件稳固的装夹在工件装夹盘上，将混有一定比例磨粒的抛光液充入承载箱体中并浸没被抛光工件的上表面一定高度。
[0012]平移装置通过超声波发生器与线性模组的滑块调整超声波发生器相对于被抛光工件表面的抛光角度，通过线性模组调整超声波发生器相对于被抛光工件的初始抛光位置，一般情况下超声波发生器的初始抛光位置为被抛光工件中心位置。
[0013]升降装置通过调整升降驱动电机调整超声波发生器相对于被抛光工件表面的间隙。针对不同的被抛光工件及不同比例的抛光液，超声波发生器相对于工件表面的间隙高度有所不同，可通过调整升降驱动电机进行调整。
[0014]旋转支撑平板通过旋转驱动电机驱动平移装置进行自旋转，由于平移装置横卧固定在旋转支撑平台上，从而使得超声波发生器相对于被抛光工件作以工件某一点为圆心的回转运动。通过平移驱动电机驱动超声波发生器在平移装置上的位置，从而扩大其回转半径。
[0015]本实用新型的有益效果在于:本实用新型针对气液固三相磨粒流超光滑表面抛光方法中要求有效抛光面积大、加工过程平整等难点，给出了一种较为理想的多自由度抛光方案，通过现行模组的进给，有效的控制了抛光的有效面积；通过旋转支撑平台为超声波发生器提供了速度可控的回转运动；通过升降装置有效的控制了超声波发生器与工件表面的间隙高度；该方案便于试验操作和处理，其控制方法准确度高、适用面广；能够为气液固三相磨粒流超光滑表面抛光提供加工保障，同时为气液固三相磨粒流抛光技术在超光滑表面抛光领域发挥其技术优势和应用潜力奠定重要基础。
【附图说明】
[0016]图1是本实用新型的整体结构示意图。
[0017]图2是本实用新型旋转支撑平台装置结构示意图。
[0018]图3是本实用新型平移装置结构示意图。
[0019]图中，1-承载箱体、2-工件装夹盘、3-光轴导轨、4-丝杠、5-光轴导套、6_丝杠轴套、7-上板、8-升降驱动电机、9-平移装置、10-旋转支撑平台、11-支撑平板、12-下板、13-旋转驱动电机、14-齿轮、15-十字交叉轴承、16-超声波发生器、17-滑块、18-线性模组、19-平移驱动电机。
【具体实施方式】
[0020]下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
[0021]如图1、图2和图3所示，一种针对大面积超光滑表面的气液固三相磨粒流抛光装置，包括装有抛光液的承载箱体1、平移装置9、旋转支撑平台10和升降装置。
[0022]承载箱体I底部固定有工件装夹盘2，被抛光工件被装夹在箱体底部的工件装夹盘2上，保证被抛光工件的整体结构稳定，抛光液充入箱体并浸没被抛光工件。承载箱体I主要为被抛光工件提供一个装夹并与抛光液耦合接触的平台，一般的被抛光工件为盘状硅片、光学玻璃或铝片，具体安装时，先将被抛光工件稳固的装夹在工件装夹盘2上，将混有一定比例磨粒的抛光液充入承载箱体I中并浸没被抛光工件的上表面一定高度。
[0023]平移装置9包括平移驱动电机19、线性模组18和超声波发生器16，超声波发生器16固定在线性模组18的滑块17上，平移驱动电机19连接线性模组18