倒置式瓷砖抛光机的风冷装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及倒置式瓷砖抛光机的风冷装置。
【背景技术】
[0002]工件在倒立抛光时，抛光磨头从工件的下方由下至上抛光工件的待加工面，若没有设置喷水装置，抛光后的磨肩或者粉尘容易向上飘从而污染加工环境，而且，抛光后的磨肩容易附在工件的待加工面上，从而会将待加工面刮花，严重影响抛光的效果，同时，由于在抛光磨头与待加工面之间存在一层磨肩，抛光磨头与待加工面之间接触率降低，从而严重的影响了抛光的效率。
[0003]为解决上述问题，有些倒立抛光的设备也设置喷水装置，在工件的下方由下往上喷水，用于冲走附在工件待加工面上的磨肩，然而由于喷水时水容易碰到工件的上方，并落在工件的粗糙的背面上，由于一些吸水率较高的工件其背面容易吸水，后续还必须利用烘干炉进行烘干，增加了加工的复杂程度。
【实用新型内容】
[0004]针对现有技术的不足，本实用新型的目的旨在于提供倒置式瓷砖抛光机的风冷装置，可防止磨肩或者粉尘污染加工环境，带走附在工件的待加工面的磨肩，并可防止喷水落在工件的背面上。
[0005]为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案:
[0006]倒置式瓷砖抛光机的风冷装置，包括传输机构、抛光磨头以及一加工室，传输机构用于传输工件并使工件的待加工面朝向地面，抛光磨头设置于加工室内并用于由下至上地抛光工件；该倒置式瓷砖抛光机的风冷装置还包括风机，该风机为设置于加工室的顶部用于向下吹风的吹风机或者设置于加工室的底部用于向下引风的引风机。
[0007]风机的数量有多个，该多个风机沿加工室的长度方向排布。
[0008]加工室的底部设有开口向上的储水槽。
[0009]储水槽的一侧设有连接于外部的排水通道，储水槽的底部从远离排水通道的一侧到靠近排水通道的一侧逐渐向下倾斜。
[0010]本实用新型的有益效果在于:
[0011]相比于现有技术，本实用新型在工作时，抛光磨头位于加工室并由下至上地抛光工件的待加工面，位于加工室顶部的吹风机向下吹风(或者位于加工室的底部的引风机向下吸风)，形成向下的气流，加工室内的粉尘以及抛光时产生的磨肩在气流的带动下往下运动，下落至地面上，从而不会污染加工室，而且，从上往下的气流还可以带走附在工件的待加工面的磨肩，避免待加工面刮花而且提供了抛光效率；若抛光设备利用喷水机构从下至上对待加工面进行喷水时，从上往下的气流可以使水雾向下运动，可以避免水雾落到工件粗糙的背面而导致工件吸收过多的水分，省去了后续的烘干步骤。
【附图说明】
[0012]图1为本实用新型的结构示意图；
[0013]其中:10、传输机构；11、传动轮；12、皮带；20、抛光磨头；30、加工室；31、储水槽；40、陶瓷抛光砖；41、装饰面；50、地面；60、吹风机。
【具体实施方式】
[0014]下面，结合附图以及【具体实施方式】，对本实用新型做进一步描述:
[0015]如图1所示，本实用新型的倒置式瓷砖抛光机的风冷装置，包括传输机构10、抛光磨头20以及一加工室30，传输机构10用于传输陶瓷抛光砖40并使陶瓷抛光砖40的装饰面41朝向地面50 (本实施例的工件为陶瓷抛光砖40，装饰面41即陶瓷抛光砖40较为光滑的表面，装饰面41为陶瓷抛光砖40的待加工面，当然，本实用新型也适用于其他工件)，抛光磨头20设置于加工室30内并用于由下至上地抛光陶瓷抛光砖40，加工室30的顶部设有用于向下吹风的吹风机60或者加工室30的底部设置有用于向下引风的引风机。
[0016]在工作时，抛光磨头20位于加工室30并由下至上地抛光陶瓷抛光砖40的装饰面41，吹风机60位于加工室30的顶部并向下吹风，形成向下的气流(或者位于加工室30的底部的引风机向下吸风)，加工室30内的粉尘以及抛光时产生的磨肩在气流的带动下往下运动，下落至地面上，从而不会污染加工室30，而且，从上往下的气流还可以带走附在陶瓷抛光砖40的装饰面41的磨肩，避免装饰面41刮花而且提供了抛光效率；若抛光设备利用喷水机构从下至上对装饰面41进行喷水时，从上往下的气流可以使水雾向下运动，可以避免水雾落到陶瓷抛光砖40粗糙的背面而导致陶瓷抛光砖40吸收过多的水分，省去了后续的烘干步骤。
[0017]进一步地，吹风机60的数量有多个，该多个吹风机60沿加工室30的长度方向排布，这样，可以加大气流的强度。同理，引风机的数量也可以是多个，沿加工室30的底部阵列分布。
[0018]进一步地，加工室30的底部设有开口向上的储水槽31，这样，喷水机构的水雾在气流的带动下向下运动后，可以落至储水槽31中。
[0019]进一步地，储水槽31的一侧设有连接于外部的排水通道，储水槽31的底部从远离排水通道的一侧到靠近排水通道的一侧逐渐向下倾斜，这样，储水槽31收集的水可以从一侧的排水通道排出。
[0020]进一步地，传输机构10包括电机、由电机带动的传动轮11以及安装于传动轮11上的皮带12。皮带12的下表面为粗糙面，皮带12的粗糙面陶瓷抛光砖40粗糙的背面接触，并带动陶瓷抛光砖40水平传动。
[0021]对本领域的技术人员来说，可根据以上描述的技术方案以及构思，做出其它各种相应的改变以及形变，而所有的这些改变以及形变都应该属于本实用新型权利要求的保护范围之内。
【主权项】
1.倒置式瓷砖抛光机的风冷装置，其特征在于，包括传输机构、抛光磨头以及一加工室，传输机构用于传输工件并使工件的待加工面朝向地面，抛光磨头设置于加工室内并用于由下至上地抛光工件；该倒置式瓷砖抛光机的风冷装置还包括风机，该风机为设置于加工室的顶部用于向下吹风的吹风机或者设置于加工室的底部用于向下引风的引风机。2.如权利要求1所述的倒置式瓷砖抛光机的风冷装置，其特征在于，风机的数量有多个，该多个风机沿加工室的长度方向排布。3.如权利要求1所述的倒置式瓷砖抛光机的风冷装置，其特征在于，加工室的底部设有开口向上的储水槽。4.如权利要求3所述的倒置式瓷砖抛光机的风冷装置，其特征在于，储水槽的一侧设有连接于外部的排水通道，储水槽的底部从远离排水通道的一侧到靠近排水通道的一侧逐渐向下倾斜。
【专利摘要】倒置式瓷砖抛光机的风冷装置，包括传输机构、抛光磨头以及一加工室，传输机构用于传输工件并使工件的待加工面朝向地面，抛光磨头设置于加工室内并用于由下至上地抛光工件；该倒置式瓷砖抛光机的风冷装置还包括风机，该风机为设置于加工室的顶部用于向下吹风的吹风机或者设置于加工室的底部用于向下引风的引风机。本实用新型在工作时，形成向下的气流，加工室内的粉尘以及抛光时产生的磨屑在气流的带动下往下运动，从而不会污染加工室，而且，从上往下的气流还可以带走附在工件的待加工面的磨屑；若抛光设备利用喷水机构从下至上对待加工面进行喷水时，从上往下的气流可以使水雾向下运动，避免水雾落到工件粗糙的背面而导致工件吸收过多的水分。
【IPC分类】B24B55/00, B24B55/06, B24B7/06, B24B7/22
【公开号】CN204736038
【申请号】CN201520453111
【发明人】冯竞浩, 宋宪君
【申请人】广东一鼎科技有限公司
【公开日】2015年11月4日
【申请日】2015年6月26日