用于zeeko机床内降低抛光液浓度损耗的装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型设及精密气囊式抛光技术领域，特别是一种用于zeeko机床内降低抛 光液浓度损耗的装置。
【背景技术】
[0002] 现代抛光的基本要素就是抛光模和抛光剂。本文所述的zeeko机床使用的是聚氨 醋微孔塑料抛光模，由于富有微孔结构，大大增加了抛光模的表面积，显著增加了抛光液的 吸附作用，运不仅促进了水解过程的进行，同时抛光剂在孔内自由滚动，有利于微小切削作 用，大大提高了抛光速率;Zeeko机床使用氧化姉和去离子水配比出的抛光剂，在抛光过程 中抛光剂基本上W两种作用参与抛光:其一是W抛光剂颗粒的坚硬特性，在抛光模和机床 的作用下，对玻璃表面的硅胶层进行微小的切削玻璃被去除，并使玻璃露出新表面，进而得 W水解;其二是W抛光剂的浓度来控制玻璃表面去除率特征，从而获得高精度的玻璃表面 面型。
[0003] 但是当zeeko机床在抛光过程中，抛光剂的喷射是随着工作台的转动四处飞瓣，使 得抛光液粘连在工作台上，从而使得抛光液浓度降低，影响工件表面面型的精度。 【实用新型内容】
[0004] 本实用新型的目的在于提供一种用于zeeko机床内降低抛光液浓度损耗的装置， W解决抛光剂四处飞瓣，从而使得抛光液浓度降低，影响工件表面面型精度的问题。
[000引为解决上述技术问题，本实用新型包括相互扣合的防护罩和装载件，其中：装载件 设置于zeeko机床上，且设有一个引流管，使得抛光液只从单一的引流管中流出，不损耗抛 光液的浓度，从而使得加工出的工件表面面形精度更高。
[0006] 所述的防护罩为圆柱桶结构。
[0007] 所述的装载件的内圈设有凸台结构，该凸台结构固定于zeeko机床上，外圈设有卡 槽结构且与防护罩相扣合。
[0008] 本实用新型通过设置防护罩防止抛光剂随着工作台的转动四处飞瓣，不损耗抛光 液的浓度，从而使得加工出的工件表面面形精度更高。
【附图说明】
[0009] 图1为本实用新型的防护罩的结构图；
[0010] 图2为本实用新型的装载件的结构图；
[0011] 图3为本实用新型的结构图。
[0012] 图中，1-防护罩，2-装载件，3-凸台结构，
[0013] 4-卡槽结构，5-引流管。
【具体实施方式】
[0014] 下面结合附图对本实用新型汽车电子开关外观件的局部电锻结构作进一步详细 说明。
[0015] 如图1、图2和图3所示，包括相互扣合的防护罩1和装载件2,其中：装载件2设置于 zeeko机床上，且设有一个引流管5,使得抛光液只从单一的引流管5中流出，不损耗抛光液 的浓度，从而使得加工出的工件表面面形精度更高。
[0016] 如图1所示所述的防护罩1为圆柱桶结构，有机玻璃材质，本实施例中，直径为 500mm，高200mm。
[0017] 如图2所示，所述的装载件2的内圈设有凸台结构3,该凸台结构3固定于zeeko机床 上，外圈设有卡槽结构4且与防护罩1相扣合，本实施例中，装载件2外圆直径502mm，内圆直 径150mm，凸台结构3上均匀分布4个M6螺纹孔，用来配合zeeko机床底部工作台。外圈有4个 卡槽结构4来配合有机玻璃防护罩1。
[0018] 下表是防护罩1装载之前和装载之后的数据比较：
[0019]
【主权项】
1. 一种用于zeeko机床内降低抛光液浓度损耗的装置，其特征在于，包括相互扣合的防 护罩和装载件，其中：装载件设置于zeeko机床上，且设有一个引流管。2. 根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述的防护罩为圆柱桶结构。3. 根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于，所述的装载件的内圈设有凸台结构，该 凸台结构固定于zeeko机床上，外圈设有卡槽结构且与防护罩相扣合。
【专利摘要】一种用于zeeko机床内降低抛光液浓度损耗的装置，包括相互扣合的防护罩和装载件，其中：装载件设置于zeeko机床上，且设有一个引流管，使得抛光液只从单一的引流管中流出，不损耗抛光液的浓度，从而使得加工出的工件表面面形精度更高。
【IPC分类】B24B57/02, B24B29/00, B24B55/00
【公开号】CN205184542
【申请号】CN201520906637
【发明人】韩庆
【申请人】上海现代先进超精密制造中心有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2015年11月13日