卤水深度处理工艺的制作方法

文档序号:3436168阅读:559来源:国知局

专利名称::卤水深度处理工艺的制作方法
技术领域
:本发明涉及一种卤水处理工艺。
背景技术
:现在国内外的氯碱企业都有一个庞大的盐水精制系统,因为它的原料——固体盐和卤水含有&2+、Mg2+、Si02和S0/—及其它多价离子和固体杂质。为了满足NaCl电解离子膜的要求,需要去除这些多价离子和固体杂质。去除盐水Ca"、Mg2+、5042-主要通过投加1^(或03(0}02、Na2C03或C02和BaCl2生成CaC03,Mg(OH)jnBaS04,然后运行多种方法将盐水fSS降低至lmg/L以下。每处理1吨盐水,需要消耗530kg的NaOH、Na2C0^PBaCl2(取决于原盐水的Ca2+、Mg2+和S0/—含量),并产生1050kg的固体盐泥。这种工艺的运行费用高,环境污染大,而且是一种浪费资源的生产方式。
发明内容本发明的目的是为了解决现有技术中的缺点,提供一种工艺的运行费用低,环境污染少的卤水深度处理工艺。为实现以上目的,本发明通过以下技术方案实现卤水深度处理工艺,其特征在于,将卤水预处理,使卤水中的Ca2+、Mg"和SS浓度小于1.0rag/L,再将卤水pH值调整为5.09.0,使用纳滤膜过滤装置过滤。其中,所述的卤水中,NaCl浓度大于270g/L,化2504浓度小于50g/L。其中,所述的卤水中,还含有Ca、Mg2+和Si02中的一种或几种。其中,所述的卤水中,还含有Ca"、Mg2+和Si02的浓度小于2g/L。其中,所述的卤水中,还含有固体悬浮物,所述固体悬浮物浓度小于5g/L。其中,所述的预处理步骤中,向卤水中加入NaOH、Ca(0H)2、化20)3和C02中的一种或几种,反应完全。其中,所述的预处理步骤中,NaOH的反应过碱量为0.l0.4g/L,Na2C03的反应过碱量为0.20.6g/L。反应过碱量是指,NaOH或Na2C03在卤水中反应完毕后的剩余量。其中,所述的预处理步骤中,反应完全后,加入聚丙稀酰胺或聚丙稀酰钠高分子絮凝剂和三氯化铁,过滤除去固体沉淀和悬浮物。其中,高分子絮凝剂加入量为0.53mg/L,FeCl3加入量为015mg/L。其中,所述卤水经预处理后,NaCl浓度大于100g/L。其中,所述卤水经预处理后,NaCl浓度大于250g/L。其中,预处理后的卤水中Na2S04浓度小于饱和浓度,优选为小于50g/L。其中,所述卤水经预处理后,Ca2+、Mg2+、的浓度均小于lmg/L,SS的浓度小于lmg/L。其中,纳滤膜过滤装置的工作压力为2.03.5MPa,温度为56(TC。其中,使用纳滤膜过滤装置过滤后,纳滤膜两边分别为浓縮液和精制卤水,回收精制卤水,将回收的浓縮液与预处理过的卤水再次进行过滤。本发明中所述的SS为固体悬浮物简称。本发明中卤水深度处理工艺,将卤水处理成"2+、Mg2+、Si02、SO/—和悬浮固体含量很低的精制盐水,适于生产Ca2+、Mg2+、SO/—含量很少的精制盐。氯碱厂使用这种精制卤水和精制盐,省略了处理Ca2+、Mg2+、S042—和其他杂质的老工艺,保证了它的盐水质量,减少了环境污染。氯碱厂少量的含Na2S04盐水可以送往卤水厂重新处理,这样氯碱厂不需要盐水精制处理。卤水制盐厂大批量处理卤水中的Ca2+,可以采用热电厂尾气的C02代替Na2C03,节省碱耗,同时减少热电厂C02排放。在卣水处理过程中,利用纳滤膜将Na2S04与盐水分离,其中高浓度Na2S04的盐水用于制造固体NaCl和Na2S04,低浓度Na2S04的精制卤水直接供给氯碱厂使用。使Na2S(M乍为一种资源被回收,不用消耗BaCl2,省略了盐水精制系统,减少了BaS04产生的盐泥污染,消除了Ba2'对离子膜的影响。图1为本发明工艺流程图具体实施方式下面结合具体实施例对本发明做进一步说明-卤水深度处理工艺,卤水中NaCl浓度大于200g/L,Na2S(V浓度小于50g/L,还含有Ca2+和Mg2+,Ca2+、Mg2+的浓度分别为1.1一1.8g/L、0.26—0.31g/L;卤水中还含有固体悬浮物,所述固体悬浮物浓度为50—500mg/L,将卤水预处理,即向卤水中加入NaOH和Na2C03,NaOH的反应过碱量为0.l0.4g/L,Na2C03的反应过碱量为0.20.6g/L,反应完全,加入聚丙烯酸钠高分子絮凝剂和三氯化铁,高分子絮凝剂加入量为0.53mg/L,FeCl3加入量为015mg/L,过滤除去沉淀和固体悬浮物,使卤水中的C、Mg"和SS浓度小于1.0mg/L,再将卤水pH值调整为5.09.0,使用纳滤膜循环过滤装置过滤,纳滤膜过滤装置的工作压力为2.03.5MPa,温度为56(TC,得到未渗透的浓縮液和渗透液。本发明中,采用二级串联CN悬浮介质过滤器作为预处理,纳滤膜采用美国GE公司的纳滤膜DK2540,膜面积为2.5m2,工作压力为2.5MPa。表l实施例l一7所处理的卤水中,各成分的含量数据表。<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>续表l<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table>72000.220細10細119254.50.00320,0.6838各实施例中,加入的各种物质的用量如下表所示1234567聚丙稀酰胺(mg/L)0.501.202.003聚丙稀酰钠(mg/L)00.801.602.50FeCl3(mg/L)027911315NaOH的反应过碱量g/L0.10.150.10.250.20.330.4Na2C03的反应过碱量g/L0.20.280.350.430.520.300.6最终的浓縮液含有较高浓度的Na2S(X;可用于制造固体NaCl和Na2S04,含有低浓度Na2S04的精制卤水直接供给氯碱厂使用。上述实施例仅用于对本发明进行说明,并不构成对权利要求范围的限制,本领域技术人员可以想到的其他替代手段,均在本发明权利要求范围内。权利要求1.卤水深度处理工艺,其特征在于,将卤水预处理,使卤水中的Ca2+、Mg2+和SS浓度小于1.0mg/L,再将卤水pH值调整为5.0~9.0,使用纳滤膜过滤装置过滤。2.根据权利要求1所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述的卤水中,NaCl浓度大于270g/L,Na2S04浓度小于50g/L。3.根据权利要求2所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述的卤水中,还含有Ca、Mg2+和Si02中的一种或几种。4.根据权利要求3所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述的卣水中,还含有Ca"、Mg2+和Si02的浓度小于2g/L。5.根据权利要求3所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述的卤水中,还含有固体悬浮物,所述固体悬浮物浓度小于5g/L。6.根据权利要求3所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述的预处理步骤中,向卣水中加入NaOH、Ca(0H)2、Na2C0^DC02中的一种或几种,反应完全。7.根据权利要求6所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述的预处理步骤中,NaOH的反应过碱量为0.10.4g/L,Na2C03的反应过碱量为0.30.6g/L。8.根据权利要求6所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述的预处理步骤中,反应完全后,加入聚丙烯酰胺或聚丙烯酸钠高分子絮凝剂和三氯化铁,过滤除去固体沉淀和悬浮物。9.根据权利要求8所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述卤水经预处理后,Ca2+、Mg2+、浓度均小于lmg/L,SS的浓度小于lmg/L。10.根据权利要求8所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,高分子絮凝剂加入量为0.53mg/L,FeCl3加入量为015mg/L。11.根据权利要求l一7任一权利要求所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述卤水经预处理后,NaCl浓度大于100g/L。12.根据权利要求11所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述卤水经预处理后,NaCl浓度大于250g/L。13.根据权利要求11所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述卤水经预处理后,Na2S04浓度小于饱和浓度。14.根据权利要求13所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,所述卤水经预处理后,Na2S04浓度小于50g/L。15.根据权利要求1所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,纳滤膜过滤装置的工作压力为2.03.5MPa,温度为560°C。16.根据权利要求1所述的卤水深度处理工艺,其特征在于,使用纳滤膜过滤装置过滤后,纳滤膜两边分别为浓縮液和精制卤水,回收精制卤水,将回收的浓縮液与预处理过的囱水一起进行过滤。全文摘要本发明公开了一种卤水深度处理工艺,其特征在于,将卤水预处理,使卤水中的Ca<sup>2+</sup>、Mg<sup>2+</sup>和SS浓度小于1.0mg/L,再将卤水pH值调整为5.0~9.0,使用纳滤膜过滤装置过滤。在卤水处理过程中,利用纳滤膜将多价离子和Na<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>与盐水分离,其中高浓度Na<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>的盐水用于制造固体NaCl和Na<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>,低浓度Na<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>的精制卤水直接供给氯碱厂使用。使Na<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>作为一种资源被回收,不用消耗BaCl<sub>2</sub>,省略了盐水精制系统,消除了Ba<sup>2+</sup>对离子膜的影响。文档编号C01D3/00GK101214975SQ20081003284公开日2008年7月9日申请日期2008年1月21日优先权日2008年1月21日发明者丁立平,赵志安申请人:上海西恩化工设备有限公司
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