本发明属于碳纳米线领域，尤其涉及一种碳纳米线生产设备。
背景技术：
纳米材料被誉为是21世纪的重要材料，将是构成未来智能社会的四大支柱之一。研究和开发经济、简单及环境友好的新型碳纳米材料的制备工艺成为碳纳米管研究的重要方向之一。作为纳米材料的成员之一，纳米线具有优异的光学性能、电学性能及力学性能，这些特性引起了凝聚态物理界、化学界及材料学界科学家们的关注，成为近年来纳米材料研究的热点。传统的碳纳米线容易出现断裂的情况，无法保持碳纳米线连续性制备，给碳纳米线生产行业造成了一定的影响。
技术实现要素：
本发明的目的在于克服现有技术存在的以上问题，提供一种碳纳米线生产设备，能够对碳纳米线进行连续不间断的制备，满足市场行业的需求。
为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：
一种碳纳米线生产设备，包括依次分布的电控柜、调节柜、安装柜；
所述电控柜顶端安装有注射泵；
所述调节柜上安装有水槽，所述调节柜中设有与水槽相互连接的升降机构，所述水槽上方固定有加热区，所述加热区中间安装有石英炉管，所述石英炉管顶端分别设有注液口与进气口，所述注液口与进气口与加热区贯通连接，所述石英炉管底端固定连接有喇叭口，所述喇叭口置于水槽内，所述水槽中设有电机旋转轴；
所述安装柜表面依次固定有与电机旋转轴相互配合的红外线烘干炉和收丝电机轴。
进一步地，所述调节柜表面安装有触摸屏，便于安装与操作。
进一步地，所述电控柜与注射泵之间设有调节架，所述调节架包括固定在电控柜表面的螺杆，所述螺杆顶端安装有支撑板，所述支撑板底部旋有支撑螺母，便于注射泵的推动以及调节。
进一步地，所述收丝电机轴与红外线烘干炉的烘干区位于同一水平高度，保证了收丝电机轴的收丝效果。
进一步地，所述石英炉管与加热区内壁之间设有保温层，降低设备与外界环境之间的相互干扰。
本发明的有益效果是：
本发明通过气流控制系统、液体注入系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线收集系统、红外烘干系统实现了对碳纳米线连续不间断的制备，整体结构安装调节方便，操作简单，具有碳纳米线的产业化制备生产具有重要的意义。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本申请的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1是本发明的结构示意图；
图中标号说明：1-注射泵、2-注液口、3-进气口、4-石英炉管、5-加热区、6-喇叭口、7-水槽、8-电机旋转轴、9-红外线烘干炉、10-丝电机轴、11-升降机构、12-电控柜、13-调节柜、14-安装柜。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例，来详细说明本发明。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“中”、“长度”、“内”、“四周”等指示方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
如图1所示的一种碳纳米线生产设备，包括依次分布的电控柜12、调节柜13、安装柜14，调节柜13表面安装有触摸屏，便于安装与操作；
电控柜12顶端安装有注射泵1，电控柜12与注射泵1之间设有调节架，调节架包括固定在电控柜12表面的螺杆，螺杆顶端安装有支撑板，支撑板底部旋有支撑螺母，便于注射泵1的推动以及调节；
调节柜13上安装有水槽7，调节柜13中设有与水槽7相互连接的升降机构11，水槽7上方固定有加热区5，加热区5中间安装有石英炉管4，石英炉管4与加热区5内壁之间设有保温层，降低设备与外界环境之间的相互干扰，石英炉管4顶端分别设有注液口2与进气口3，注液口2与进气口3与加热区5贯通连接，石英炉管4底端固定连接有喇叭口6，喇叭口6置于水槽7内，水槽7中设有电机旋转轴8；
安装柜14表面依次固定有与电机旋转轴8相互配合的红外线烘干炉9和收丝电机轴10，收丝电机轴10与红外线烘干炉9的烘干区位于同一水平高度，保证了收丝电机轴10的收丝效果。
使用时，将液体装入注射泵1内，由注射泵1推入注液口2内进入石英炉管4，同时由进气口3引入气体，通过加热区5对液体进行加热，工作人员通过喇叭口6将纳米线取下并将其进入水槽7中进行冷却，然后经过电机旋转轴8输送到红外线烘干炉9中进行烘干，烘干后由收丝电机轴10对碳纳米线进行收集。
本发明通过气流控制系统、液体注入系统、多段温度可控多区生长系统、水冷却系统、碳纳米线收集系统、红外烘干系统实现了对碳纳米线连续不间断的制备，整体结构安装调节方便，操作简单，具有碳纳米线的产业化制备生产具有重要的意义。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。