1.一种黑色薄片，包括透明基片(10)，以及位于基片背面且依次镀设的吸收层(1)、第一介质层(2)、第二介质层(3)、第三介质层(4)、第四介质层(5)和第五介质层(6)，所述吸收层为镍层，所述第一介质层(2)、第三介质层(4)和第五介质层(6)的镀膜材料为选自二氧化硅和二氟化镁中的一种，所述第二介质层(3)和第四介质层(5)的镀膜材料为选自五氧化三钛和五氧化二铌中的一种。
2.根据权利要求1所述黑色薄片，其特征在于，所述吸收层的厚度为0.2～20nm。
3.根据权利要求1所述黑色薄片，其特征在于，所述第一介质层(2)、第三介质层(4)和第五介质层(6)均为二氧化硅层，且所述第二介质层(3)和第四介质层(5)均为五氧化三钛层。
4.根据权利要求3所述黑色薄片，其特征在于，所述第一介质层(2)、第三介质层(4)和第五介质层(6)的厚度分别为1～15nm、1～21nm和10～90nm。
5.根据权利要求3所述黑色薄片，其特征在于，所述第二介质层(3)和第四介质层(5)的厚度分别为1～10nm和1～12nm。
6.根据权利要求1～5中任意一项所述黑色薄片，其特征在于，所述透明基片为菲林或玻璃基片，且所述透明基片为2D平面基片或3D曲面基片。
7.根据权利要求1～5中任意一项所述黑色薄片，其特征在于，所述黑色薄片还包括位于所述第五介质层(6)另一侧的油墨层。
8.根据权利要求7所述黑色薄片，其特征在于，所述黑色薄片为电子产品的显示面板时，所述油墨层位于其边框区；所述黑色薄片为电子产品的背盖时，所述油墨层位于其背面的整面。
9.根据权利要求8所述黑色薄片，其特征在于，所述油墨层为黑色油墨层。
10.根据权利要求1～5中任意一项所述黑色薄片，其特征在于，所述透明基片厚度为0.15～0.8mm。